JP2012505088A - 三次元物体製造装置用のフレームおよび該フレームを用いた三次元物体製造装置 - Google Patents

三次元物体製造装置用のフレームおよび該フレームを用いた三次元物体製造装置 Download PDF

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Abstract

【課題】構築空間をさらに高温に加熱することを可能にする三次元物体製造装置用フレームを提供すること。
【解決手段】三次元物体(3)の製造装置のフレーム(1)に関する。この製造装置は、粉状または液状の建築材料(3a)を、被製造物体(3)の断面に相当する構築空間における個所を層ごとに層方向に固化することにより三次元物体(3)を製造する。構築空間は、フレーム(1)と、フレーム(1)内部のプラットフォーム(2)とによって画定され、フレーム(1)は、構築空間に面する内面側にガラスセラミック板を備える。
【選択図】図1

Description

本発明は、請求項1の前文に記載の三次元物体製造装置用のフレームに関する。
特許文献1に、三次元物体製造装置用の一般的なフレームについて記載されている。この装置は、粉状または液状の建築材料を一層ずつ、被製造物体の層毎の断面に相当する各層の個所において、レーザ等のエネルギー源の作用により固化することによって、三次元物体を製造する。フレームとプラットフォームとで構築空間を画定しており、この内部で三次元物体の製造が行われる。フレームとプラットフォームとは、交換可能なフレームとしてモジュール式に連結されており、交換可能なフレームは、製造装置に挿入したり装置から取り出したりすることができる。
同様の三次元物体製造装置が、特許文献2から公知となっている。この先行技術による装置では、レーザ焼結工程において構築空間が、従来の方法で温度100℃〜150℃に加熱される。
このような従来の三次元物体製造装置の場合、フレームの外部をさらに高い温度に加熱することは、フレームの周囲に熱的負荷がかかるために不可能であるという問題がある。
WO00/21736A DE 199 39 616 A1
本発明の目的は、構築空間をさらに高温に加熱することを可能にする三次元物体製造装置用フレームを提供することにある。
本発明の目的は、請求項1に記載の特徴を有する三次元物体製造装置用フレーム、および、請求項10に記載の特徴を有する装置によって達成される。また、その有利な発展形態については、従属請求項に示されるとおりである。
ガラスセラミック板を使用し、必要な加熱帯を選択的に制御することにより、370℃までの処理温度が可能となる。構築工程の初めにプラットフォームを上部に配置すると、フレームの上部領域のみが加熱される。構築の進捗に従って、下側の加熱帯に通電する。これによって、特に下方に位置するリフト機構に対する過度の熱的負荷が防止される。また、ガラスセラミック板は、垂直方向に熱を通しすぎることがない。このことは、リフト機構に熱的負荷がかからないため、構築工程の始めにおいて特に有利である。
本発明の三次元物体製造装置は、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)などの融点の高い焼結用粉末を加工する高温レーザ焼結装置として特に適している。
添付図面に基づいて以下に行う本発明の実施形態に関する説明から、本発明のさらなる特徴と利点についても明らかにする。
本発明による三次元物体製造装置の概略図である。 本発明による三次元物体製造装置用フレームの一部を示す略横断面図である。 本発明によるフレーム用の2つの加熱帯を有する表面加熱要素の略縦断面図である。 本発明によるフレーム用の3つの加熱帯を有する表面加熱要素の略縦断面図である。
図1は、本発明による三次元物体3の製造装置の概略図であり、本実施例では、当該製造装置はレーザ焼結装置として構成されている。
このレーザ焼結装置は、上側で開口し内部にプラットフォーム2を有するフレーム1を備え、プラットフォーム2は垂直方向に可動であり製造対象としての三次元の物体3を支持する。フレーム1とプラットフォーム2とは、その内部に構築空間を画定している。プラットフォーム2は、リフト機構12に連結されており、リフト機構12がプラットフォーム2を垂直方向に移動させて、固化しようとする物体3の層が作業面4に来るように構成されている。フレーム1とプラットフォーム2は、交換可能なフレームとして相互にモジュール式に連結されている。三次元物体3の製造が完了すると、完成した物体3を内部に収めた交換可能なフレームを、装置から外して新しい交換可能なフレームと交換することができる。
さらに、粉状の建築材料3aの層を塗布するためのディスペンサ5が設けられている。建築材料3aとしては、ポリアミド、ポリスチレン、金属、セラミック、複合材料など、レーザ加工可能な任意の粉末を使用することができ、特にPEEKのような高温プラスチックが適する。まず、貯蔵容器6からフレーム1に建築材料3aが供給される。その後、ディスペンサ5を作業面4内の所定の高さまで移動し、粉状建築材料3aの層がその前に固化した層の上方の所定の高さに来るようにする。製造装置は、さらに、レーザビーム7aを生成するレーザ装置7を備える。レーザビーム7aは、偏向手段8により作業面4の所定の地点に合焦される。これによって、レーザビーム7aは、製造対象の物体3の断面に相当するそれぞれの個所において粉状の建築材料3aを選択的に固化することが可能となる。
参照符号10は、加工室を示しており、その中にフレーム1、プラットフォーム2、リフト機構12、ディスペンサ5を配設することができる。参照符号9は、レーザビーム7aを導入するために加工室10に設けられた開口部を示している。さらに、制御部11が設けられており、この制御部によって製造装置が協調的に制御されて構築工程を行う。
製造装置の動作時、最初のステップにおいて、プラットフォーム2が、リフト機構12によって、その上面が作業面4より1層分の厚さの分だけ下方に位置するところまで移動される。次に、第1層の材料3aが、貯蔵容器6とディスペンサ5とによってそれぞれ塗布され平坦化される。その後、制御部1が、偏向手段8を制御して、偏向されたレーザビーム7aが材料3aの層の固化すべき個所に選択的に当たるようにする。これにより、材料3aが、これらの個所で固化され、焼結される。
次のステップにおいて、プラットフォーム2が、リフト機構12によって、次の層の厚さの分だけ下降される。第2層の材料3aが、貯蔵容器6とディスペンサ5とによってそれぞれ塗布され平坦化された後、レーザビーム7aによって選択的に固化される。所望の物体3が製造されるまで、これらのステップが、繰り返し実行される。
図2は、本発明による三次元物体3の製造装置のフレーム1の一部を示す略横断面図である。
構築空間に面するフレーム1の内面側に、ガラスセラミック板13が設けられている。ガラスセラミック板13としては、例えば、Schott AG製のロバックス(Robax)(登録商標)というガラスセラミック板を使用することができる。本実施形態では、ガラスセラミック板13の壁厚は、約5mmである。ガラスセラミック板13が持つ特別な特性として、温度耐性が高いことと、熱膨張率が比較的小さいことがあるため、セラミック板に沿って高い温度差があってもほとんど歪みを生じることがない。これによって、ガラスセラミック板13は、亀裂(通常のガラスに見られるような)や張り出し(金属類に見られるような)といった欠陥を示さない。さらに、ガラスセラミック板13は、熱伝導性が比較的低いことから、特にセラミック板の平面方向において実質的に熱伝導を生じないため、セラミック板の平面における温度勾配が実質的に維持される。さらに、ガラスセラミック板13は、平坦性に優れるため、フレーム1とプラットフォーム2および/またはその上に取り付けたシールリップとの間に、特にガラスセラミック板13を一体とすることで高い密封性を実現できる。また、ガラスセラミック板13は、清掃が容易であり、膨張による空隙が生じてその中に粉末が入り込むこともない。
フレーム1は、さらに、構築空間と反対側のガラスセラミック板13の外面側に表面加熱要素14を備えている。表面加熱要素14としては、例えばFreek社製のミカニット(Mikanit)(商標)を使用することができる。本実施形態では、表面加熱要素14は、合成雲母板に抵抗加熱器としての平型電熱線を巻き付けたもので構成されている。合成雲母板は、通常の場合はその両側を絶縁板と担体板に接続されるが、合成雲母板を電気的に絶縁されたガラスセラミック板13に直接装着すると、内部絶縁板と担体板とを省略することが可能となる。それによって、電熱線とガラスセラミック板13との熱的接続を良くすることができる。
図3は、本発明におけるフレーム1に含まれる、2つの加熱帯14a、14bを有する表面加熱要素14の略縦断面図である。本実施形態では、表面加熱要素14は、2つ上下に並べた加熱帯14a、14bを形成しており、これらの加熱帯は、個別に制御される。構築の進捗に応じて、制御装置11は、プラットフォーム2の上方の加熱帯のみを制御する。このような表面加熱要素14は、小型の表面加熱要素14を一つだけフレーム1のそれぞれの側に装着するだけであるため、取り扱いが簡単である。さらに、これらの表面加熱要素14は、加熱帯14a、14bの数および位置に関する構成を簡単にすることができる。加熱帯14a、14bは、個別に制御可能であるため、構築の進捗に従って被加熱領域を下方に拡大し、一時的に加熱が必要であり実際に粉末が充填されている領域のみ加熱することができる。これによって、外部に放射される熱を最低限に抑えると共に、三次元体の歪みが防止される。
図4は、他の実施形態の表面加熱要素14’を示す略縦断面図である。この表面加熱要素14’は、3つの加熱帯14a、14b、14cを有することを除いては表面加熱要素14と同じである。制御装置11は、構築の進捗に従って、プラットフォーム2上方の加熱帯のみを14a、14b、14cの順に制御する。
温度検出器(図示しない)が、表面加熱要素14、14’に内蔵されており、加熱帯14a、14b、14cのほぼ中央において対応するガラスセラミック板13と面接触している。これによって、実時間での温度測定が可能となり、粉末床の温度を処理温度の近くに設定することができる。
表面加熱要素14または14’は、さらに、構築空間と反対側の外面側に黒鉛層プレート15を備えている。黒鉛層プレート15は、必ずしも必要ではないが、熱分布が均等になるという利点がある。黒鉛層プレート15は、対応する表面加熱要素14;14’の1つの加熱帯14a、14b;14cの大きさを有する。黒鉛層プレート15としては、例えばSGL Carbon AG製のシグラフレックス(Sigraflex)(登録商標)を使用することができる。黒鉛層プレート15は、異方性熱伝導性が高いという性質を有する。つまり、黒鉛層プレート15の平面方向の熱伝導性の方が、それに対して垂直な平面の方向での熱伝導性よりはるかに高いという性質を有する。
フレーム1は、さらに、構築空間と反対側の表面加熱要素15の外側に、ガラス繊維マット16を備えている。ガラス繊維マット16としては、例えば、Promat GmbH製のプロマグラフ(Promaglaf) HTI 1200(登録商標)を使用することができる。ガラス繊維マット16は、ガラスセラミック板13の他、フレーム1のその他のプレート状部材から後述する支持要素18に対して加えられる表面圧力に備えるものである。同時に、ガラス繊維マット16は、外側および下側への断熱を良くするためのものでもある。また、ガラス繊維マット16は、温度サイクルにおける弾性に優れるという利点をもつ。
フレーム1は、さらに、構築空間と反対側のガラス繊維マット16の外面側に、特にガラスセラミックから成る外板17を備えている。外板17は、後述するように、ガラス繊維マット16を支持要素18と共に内側に押圧する。
フレーム1は、さらに、特にステンレス鋼から成る支持要素18を備えており、支持要素18は、フレーム1を特にその縁部において支持する。支持要素18は、ガラスセラミック板13と外板17とを相互に押圧する。それによって、その間にあるガラス繊維マット16が、圧縮付勢される。また、支持要素18は、フレーム1の各縁部に配設されてフレーム14の個々の壁部を連結する。本実施形態では、支持要素18は、ステンレス鋼で形成されるため、アルミニウム等に比べて熱伝導性が低く、熱膨張率も低い。また、ステンレス鋼はアルミニウムに比べて耐腐食性に優れている。
支持要素18は、できるだけ壁厚の薄い中空四角形の断面形状を有する隅鉄筋18aを備えている。壁厚が薄いことによって、熱伝導性が制限される。支持要素18は、さらに、ガラスセラミック板13を内側から支持するための保持板18cを備えている。支持要素18は、さらに、前記中空断面(hollow profile)18aにねじ留めされて、保持板18cと共同してフレーム1の層部材を相互に押圧する外側プレス板18bを備えている。フレーム1の4つの壁部は、この構造によって相互に結合されている。支持要素18は、さらに、特に断熱性材料から成るスペーサ18dを備える。スペーサ18dは、ガラスセラミック板13と外板17との距離を予め設定するものである。支持要素18は、さらに、フレーム1の内縁部に丸みを与える縁取板18eを備えている。縁取板18eは、フレーム1の各部材の間の空隙に粉末が入り込むのを防止し、フレーム1の清掃を容易にする。支持要素18は、フレーム1に完全な支持を与えることで、比較的耐火性であるガラスセラミック板13が必ずしもフレーム1を支持する機能をもたなくても良いようにしている。
フレーム1は、さらに、構築空間と反対側の外板17の外側にケーシング19を備えている。ケーシング19はフレーム1の筐体を構成し、外部に対してさらなる断熱を行う。
このように構成されたフレーム1は、下記の特性を有する。
フレーム1とそれに関連する装置は、融点が150℃より高い、特に180℃より高い建築材料3aの三次元物体3を製造するのに適する。使用する材料と必要な加熱帯14a、14b、14cの制御を選択的に行うことにより、約370度より高い処理温度も可能となる。構築工程の初めにプラットフォーム2を上部に配設すると、実際に粉末が充填されているフレーム1の上部領域のみが加熱される。構築の進捗に従って、下方にある加熱帯に通電される。これによって、特にリフト機構12の過度の熱負荷を防止することができる。また。ガラスセラミック板13の材料は、垂直方向にほとんど熱を通さない。このことは、リフト機構12の熱負荷が過度にならないことから、特に構築工程の初めにおいて有利となる。その結果、下側および外部への放熱をほとんど無くすことができる。
上述した実施形態では、フレームについて、複数の部材を層状に組み合わせ、隣接する部材を相互に接触するものとして記載したが、この接触は本発明に関連性はなく、上述の層状の部材の間にさらに別の層を配設しても、特許請求の範囲に記載した本発明の範囲を逸脱することはない。特に、特許請求の範囲において用いる「構築空間と反対側の外面側」という用語は、対応する層状部材の物理的に外側の表面を必ずしも意味しない。「構築空間と反対側の外面側」という用語は、むしろ、構築空間から始めて外側に向かって層を配設する、その方向を示すものである。
本発明の範囲は上記の実施形態に限定されるものではなく、さらなる修正や変更もそれらが特許請求の範囲に定義した発明の範囲に含まれることを条件して本発明の含まれるものとする。
例えば、本発明におけるフレームおよび三次元物体製造装置は、レーザ焼結装置に限定されない。本発明のフレームは、また、建築材料として粉末ではなく熱硬化樹脂を使用する立体リトグラフィー装置における使用、あるいは、レーザの代わりに電子ビームを使用する電子ビーム焼結装置または電子ビーム溶解装置にも適する。また、3次元印刷や溶融堆積モデリング(FDM)への使用も考えられる。

Claims (12)

  1. フレーム(1)と該フレーム(1)に垂直方向に可動に配設されているプラットフォーム(2)とによって画定される構築空間において、粉状または液状の建築材料(3a)を一層ずつ、被製造物体(3)の断面に相当する個所を各層において固化することにより三次元物体(3)を製造する三次元物体製造装置のフレーム(1)であって、
    前記構築空間に面する内面側にガラスセラミック板(13)を備えていることを特徴とするフレーム(1)。
  2. 前記構築空間と反対側の前記ガラスセラミック板(13)の外面側に表面加熱要素(14;14’)をさらに備えていることを特徴とする請求項1に記載のフレーム(1)。
  3. 前記表面加熱要素(14;14’)は、垂直方向に上下に配置され個別に制御可能な複数の加熱帯(14a、14b;14c)を有していることを特徴とする請求項2に記載のフレーム(1)。
  4. 構築の進捗に応じて前記プラットフォーム(2)の上方に位置する前記加熱帯のみを制御する制御装置(11)をさらに備えていることを特徴とする請求項3に記載のフレーム。
  5. 前記表面加熱要素(14;14’)は、前記構築空間と反対側の前記表面加熱要素の外面側に黒鉛層プレート(15)をさらに備えていることを特徴とする請求項2乃至請求項4のいずれか1項に記載のフレーム(1)。
  6. 前記構築空間と反対側の前記表面加熱要素(14;14’)の外面側に配設されたガラス繊維マット(16)をさらに備えていることを特徴とする請求項2乃至請求項5のいずれか1項に記載のフレーム(1)。
  7. 前記構築空間と反対側の前記ガラス繊維マット(16)の外面側に、特にガラスセラミックから成る外板(17)をさらに備えていることを特徴とする請求項6に記載のフレーム(1)。
  8. 特にステンレス鋼で形成され、特に縁部においてフレーム(1)の各部材を支持する支持要素(18)をさらに備えていることを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載のフレーム(1)。
  9. 前記フレーム(1)と前記プラットフォーム(2)とは、前記製造装置に対して挿入及び取り出し可能に設けられた交換可能なフレームとしてそれぞれ構成され、相互にモジュール式に連結されていることを特徴とする請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記載のフレーム(1)。
  10. 請求項1に記載のフレーム(1)を備える三次元物体(3)の製造装置であって、
    前記フレーム(1)と該フレーム(1)に垂直方向に可動に配設されているプラットフォーム(2)とによって画定される構築空間において、粉状または液状の建築材料(3a)を一層ずつ、被製造物体(3)の断面に相当する個所を各層において固化することにより三次元物体(3)を製造するように構成されていることを特徴とする装置。
  11. レーザ装置(7)またはその他のエネルギー源の形をとる固化手段を備えていることを特徴とする請求項10に記載の装置。
  12. 融点が180℃より高い建築材料(3a)から成る三次元物体(3)の製造に好適であることを特徴とする請求項10または請求項11に記載の装置。
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