JP2012255984A - 反射防止膜、光学系、及び光学機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】屈折率nHが1.95〜2.32の高屈折率物質と屈折率nLが1.35〜1.46の低屈折率物質を交互に積層させた12層の積層体を有し、波長範囲400nm〜680nmの反射率が1.5%以下であり、かつ、波長範囲680nm〜1350nmの反射率が2.0%以下である。この積層体が形成される基板側から順に、第1、第3、第5、第7、第9、及び第11層が高屈折率層であり、第2、第4、第6、第8、第10、及び第12層が低屈折率層であり、積層体の各層において、屈折率と物理膜厚dの積である光学膜厚が、所定の式を満足する。
【選択図】図1
Description
よって、多光子吸収顕微鏡において光学系は、観察用の蛍光(可視光)と、蛍光を発生させる励起レーザ用の近赤外光と、を透過させる必要がある。そのため、可視光から近赤外を透過させる反射防止膜が必要とされてきた。励起光には蛍光観察波長の約2倍の波長の光が必要になる。蛍光観察では使用される試薬によって観察に使われる波長が決定する。使用される波長はおおよそ500nm前後であるので、近赤外(約1000nm)までの波長を透過すれば良い。
図25に示す多光子吸収顕微鏡においては、レーザ光源101で発振させた短パルスレーザ光を多層膜フィルタ102で反射させ、観察台103上に置いた観察対象Sに照射する。このレーザ光の照射によって観察対象Sで発生した励起光は、多層膜フィルタ102を透過して観察者Bによる観察が可能となる。多層膜フィルタ102の特性としては、短パルスレーザ光の波長を含む反射帯域においてはパルス幅が広げることがなく、可視領域においては、観察対象Sで発生した励起光を観察のために透過させることが求められる。
第1層 0.11<nHd<0.25、
第2層 0.33<nLd<0.72、
第3層 0.33<nHd<0.60、
第4層 0.23<nLd<0.54、
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第12層 1.15<nLd<1.27
まず、本発明に係る反射防止膜の構成・作用・効果について説明する。
これにより、可視光と、その約2倍の波長の励起光と、を透過する光学系を組むことができ、それにより、可視光全域に渡り蛍光観察を行うことが出来るようになる。
一方、励起光として使用する、波長範囲680nm〜1350nmのレーザは強度が非常に強いため、反射防止効果は5%以下が好ましく、より好ましくは2%以下、さらに好ましくは1.5%以下がよい。
第1層 0.11<nHd<0.25、
第2層 0.33<nLd<0.72、
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第12層 1.15<nLd<1.27
図1は、実施例1、実施例2、及び実施例3に係る反射防止膜の層構成を示す表である。図2は、実施例1に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。図3は、実施例1、実施例2、及び実施例3に係る反射防止膜の平均反射率及び最大反射率を示す表である。図4は、実施例2に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。図5は、実施例3に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。
第1層 0.11<nHd<0.25、
第2層 0.33<nLd<0.72、
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第12層 1.15<nLd<1.27
図2、図3に示すように、実施例1の反射防止膜は、屈折率1.45〜1.54までの範囲のいずれの基板上においても、波長範囲400nm〜680nmで反射率1.5%以下、波長範囲680nm〜1350nmで反射率2.0%以下となっている。
また、屈折率1.45の基板上に形成した場合、波長範囲400nm〜680nmで反射率は最大1.09%、平均0.78%であり、波長範囲680nm〜1350nmで反射率は最大1.39%、平均1.19%である。
さらにまた、屈折率1.54の基板上に形成した場合、波長範囲400nm〜680nmで反射率は最大1.11%、平均0.83%であり、波長範囲680nm〜1350nmで反射率は最大1.57%、平均1.11%である。
図3、図4に示すように、実施例2の反射防止膜は、屈折率1.54〜1.64までの範囲のいずれの基板においても、波長範囲400nm〜680nmで反射率1.5%以下、波長範囲680nm〜1350nmで反射率2.0%以下となっている。
また、屈折率1.54の基板上に形成した場合、波長範囲400nm〜680nmで反射率は最大1.24%、平均0.82%であり、波長範囲680nm〜1350nmで反射率は最大1.66%、平均1.30%である。
さらにまた、屈折率1.64の基板上に形成した場合、波長範囲400nm〜680nmで反射率は最大1.23%、平均0.87%であり、波長範囲680nm〜1350nmで反射率は最大1.58%、平均1.15%である。
図3、図5に示すように、実施例3の反射防止膜は、屈折率1.65〜1.80までの範囲のいずれの基板上においても、波長範囲400nm〜680nmで反射率1.5%以下、波長範囲680nm〜1350nmで反射率2.0%以下となっている。
また、屈折率1.65の基板上に形成した場合、波長範囲400nm〜680nmで反射率は最大1.07%、平均0.86%であり、波長範囲680nm〜1350nmで反射率は最大1.73%、平均1.22%である。
さらにまた、屈折率1.80の基板上に形成した場合、波長範囲400nm〜680nmで反射率は最大1.45%、平均0.93%であり、波長範囲680nm〜1350nmで反射率は最大1.84%、平均1.17%である。
図6は、実施例4、実施例5、及び実施例6に係る反射防止膜の層構成を示す表である。図7は、実施例4に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。図8は、実施例4、実施例5、及び実施例6に係る反射防止膜の平均反射率及び最大反射率を示す表である。図9は、実施例5に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。図10は、実施例6に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。
第1層 0.11<nHd<0.25、
第2層 0.33<nLd<0.72、
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第4層 0.23<nLd<0.54、
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第6層 0.08<nLd<0.22、
第7層 1.23<nHd<2.29、
第8層 0.06<nLd<0.15、
第9層 0.59<nHd<0.94、
第10層 0.34<nLd<0.44、
第11層 0.23<nHd<0.42、
第12層 1.15<nLd<1.27
図7、図8に示すように、実施例4の反射防止膜は、屈折率1.45〜1.54までの範囲のいずれの基板上においても、波長範囲400nm〜680nmで反射率1.5%以下、波長範囲680nm〜1350nmで反射率2.0%以下となっている。
また、屈折率1.45の基板上に形成した場合、波長範囲400nm〜680nmで反射率は最大1.17%、平均0.69%であり、波長範囲680nm〜1350nmで反射率は最大1.65%、平均1.12%である。
さらにまた、屈折率1.54の基板上に形成した場合、波長範囲400nm〜680nmで反射率は最大1.23%、平均0.75%であり、波長範囲680nm〜1350nmで反射率は最大1.33%、平均0.97%である。
図8、図9に示すように、実施例5の反射防止膜は、屈折率1.54〜1.64までの範囲のいずれの基板においても、波長範囲400nm〜680nmで反射率1.5%以下、波長範囲680nm〜1350nmで反射率2.0%以下となっている。
また、屈折率1.54の基板上に形成した場合、波長範囲400nm〜680nmで反射率は最大1.29%、平均0.71%であり、波長範囲680nm〜1350nmで反射率は最大1.60%、平均1.16%である。
さらにまた、屈折率1.64の基板上に形成した場合、波長範囲400nm〜680nmで反射率は最大1.12%、平均0.76%であり、波長範囲680nm〜1350nmで反射率は最大1.32%、平均1.00%である。
図8、図10に示すように、実施例6の反射防止膜は、屈折率1.65〜1.80までの範囲のいずれの基板上においても、波長範囲400nm〜680nmで反射率1.5%以下、波長範囲680nm〜1350nmで反射率2.0%以下となっている。
また、屈折率1.65の基板上に形成した場合、波長範囲400nm〜680nmで反射率は最大1.22%、平均0.70%であり、波長範囲680nm〜1350nmで反射率は最大1.54%、平均1.15%である。
さらにまた、屈折率1.80の基板上に形成した場合、波長範囲400nm〜680nmで反射率は最大1.30%、平均0.83%であり、波長範囲680nm〜1350nmで反射率は最大1.57%、平均0.99%である。
図11は、実施例7、実施例8、及び実施例9に係る反射防止膜の層構成を示す表である。図12は、実施例7に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。図13は、実施例7、実施例8、及び実施例9に係る反射防止膜の平均反射率及び最大反射率を示す表である。図14は、実施例8に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。図15は、実施例9に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。
図12においては、基板の屈折率nが1.48、1.45、1.54である場合を、破線、点線、実線でそれぞれ示している。図14においては、基板の屈折率nが1.60、1.54、1.64である場合を、破線、点線、実線でそれぞれ示している。図15においては、基板の屈折率nが1.70、1.65、1.80である場合を、破線、点線、実線でそれぞれ示している。図13においては、図12、14、15に示す基板について、平均反射率及び最大反射率を示している。
第1層 0.11<nHd<0.25、
第2層 0.33<nLd<0.72、
第3層 0.33<nHd<0.60、
第4層 0.23<nLd<0.54、
第5層 0.63<nHd<0.88、
第6層 0.08<nLd<0.22、
第7層 1.23<nHd<2.29、
第8層 0.06<nLd<0.15、
第9層 0.59<nHd<0.94、
第10層 0.34<nLd<0.44、
第11層 0.23<nHd<0.42、
第12層 1.15<nLd<1.27
図12、図13に示すように、実施例7の反射防止膜は、屈折率1.45〜1.54までの範囲のいずれの基板上においても、波長範囲400nm〜680nmで反射率1.5%以下、波長範囲680nm〜1350nmで反射率2.0%以下となっている。
また、屈折率1.45の基板上に形成した場合、波長範囲400nm〜680nmで反射率は最大0.98%、平均0.73%であり、波長範囲680nm〜1350nmで反射率は最大1.35%、平均0.97%である。
さらにまた、屈折率1.54の基板上に形成した場合、波長範囲400nm〜680nmで反射率は最大1.31%、平均0.83%であり、波長範囲680nm〜1350nmで反射率は最大1.23%、平均0.87%である。
図13、図14に示すように、実施例8の反射防止膜は、屈折率1.54〜1.64までの範囲のいずれの基板においても、波長範囲400nm〜680nmで反射率1.5%以下、波長範囲680nm〜1350nmで反射率2.0%以下となっている。
また、屈折率1.54の基板上に形成した場合、波長範囲400nm〜680nmで反射率は最大1.22%、平均0.81%であり、波長範囲680nm〜1350nmで反射率は最大1.63%、平均1.10%である。
さらにまた、屈折率1.64の基板上に形成した場合、波長範囲400nm〜680nmで反射率は最大1.15%、平均0.87%であり、波長範囲680nm〜1350nmで反射率は最大1.39%、平均0.99%である。
図13、図15に示すように、実施例9の反射防止膜は、屈折率1.65〜1.80までの範囲のいずれの基板上においても、波長範囲400nm〜680nmで反射率1.5%以下、波長範囲680nm〜1350nmで反射率2.0%以下となっている。
また、屈折率1.65の基板上に形成した場合、波長範囲400nm〜680nmで反射率は最大1.11%、平均0.74%であり、波長範囲680nm〜1350nmで反射率は最大1.52%、平均0.99%である。
さらにまた、屈折率1.80の基板上に形成した場合、波長範囲400nm〜680nmで反射率は最大1.28%、平均0.87%であり、波長範囲680nm〜1350nmで反射率は最大1.49%、平均0.88%である。
図16は、実施例10に係る反射防止膜の層構成を示す表である。図17は、実施例10に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。図18は、実施例10、実施例11、実施例12、及び実施例13に係る反射防止膜の平均反射率及び最大反射率を示す表である。図19は、実施例11に係る反射防止膜の層構成を示す表である。図20は、実施例11に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。図21は、実施例12に係る反射防止膜の層構成を示す表である。図22は、実施例12に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。図23は、実施例13に係る反射防止膜の層構成を示す表である。図24は、実施例13に係る反射防止膜の反射率特性を示すグラフである。
図18においては、実施例10〜13について、平均反射率及び最大反射率を示している。
第1層 0.11<nHd<0.25、
第2層 0.33<nLd<0.72、
第3層 0.33<nHd<0.60、
第4層 0.23<nLd<0.54、
第5層 0.63<nHd<0.88、
第6層 0.08<nLd<0.22、
第7層 1.23<nHd<2.29、
第8層 0.06<nLd<0.15、
第9層 0.59<nHd<0.94、
第10層 0.34<nLd<0.44、
第11層 0.23<nHd<0.42、
第12層 1.15<nLd<1.27
実施例10の反射防止膜は、図16に示すように、屈折率1.49の基板上に、高屈折率物質としてのTa2O5(nH=屈折率2.22)と、低屈折率物質としてのSiO2(屈折率nL=1.45)及びMgF2(屈折率nL=1.38)と、を交互に積層させた12層の積層体である。高屈折率物質としてのTa2O5は、基板側から順に、第1、第3、第5、第7、第9、及び第11層に配置され、低屈折率物質としてのSiO2は、基板側から順に、第2、第4、第6、第8、及び第10層に配置され、低屈折率物質としてのMgF2は第12層(最表層)に配置されている。
実施例11の反射防止膜は、図19に示すように、屈折率1.57の基板上に、高屈折率物質としてのHfO2(屈折率nH=1.99)と、低屈折率物質としてのSiO2(屈折率nL=1.45)及びMgF2(屈折率nL=1.38)と、を交互に積層させた12層の積層体である。高屈折率物質としてのHfO2は、基板側から順に、第1、第3、第5、第7、第9、及び第11層に配置され、低屈折率物質としてのSiO2は、基板側から順に、第2、第4、第6、第8、及び第10層に配置され、低屈折率物質としてのMgF2は第12層(最表層)に配置されている。
実施例12の反射防止膜は、図21に示すように、屈折率1.57の基板上に、高屈折率物質としてのTiO2(屈折率nH=2.32)と、低屈折率物質としてのMgF2(屈折率nL=1.38)と、を交互に積層させた12層の積層体である。高屈折率物質としてのTiO2は、基板側から順に、第1、第3、第5、第7、第9、及び第11層に配置され、低屈折率物質としてのMgF2は、基板側から順に、第2、第4、第6、第8、第10、及び第12層(最表層)に配置されている。
上述の実施例において、光学部品の表面との密着度を高めたり、反射防止膜を施した光学部品の最表層の撥水性・防曇性・耐久性を高めるなどの目的で、光学部品と第1層との間、及び/又は、第12層のさらに外側に、光学特性に大きな影響を与えない範囲内で、別の層を付与してもよい。
すなわち、実施例13の反射防止膜は、図23に示すように、屈折率1.49の基板上に、高屈折率物質としてのTa2O5(屈折率nH=2.22)と、低屈折率物質としてのSiO2(屈折率nL=1.45)及びMgF2(屈折率nL=1.38)と、を交互に積層させた12層の積層体の最表層上に、第13層としてSiO2が積層されている。ここで、高屈折率物質としてのTa2O5は、基板側から順に、第1、第3、第5、第7、第9、及び第11層に配置され、低屈折率物質としてのSiO2は、基板側から順に、第2、第4、第6、第8、第10、及び第13層に配置され、低屈折率物質としてのMgF2は第12層に配置されている。
102 多層膜フィルタ
103 観察台
S 観察対象
Claims (6)
- 屈折率nHが1.95〜2.32の高屈折率物質と屈折率nLが1.35〜1.46の低屈折率物質を交互に積層させた12層の積層体を有し、
波長範囲400nm〜680nmの反射率が1.5%以下であり、かつ、波長範囲680nm〜1350nmの反射率が2.0%以下であることを特徴とする反射防止膜。 - 前記積層体が形成される基板側から順に、第1、第3、第5、第7、第9、及び第11層が高屈折率層であり、第2、第4、第6、第8、第10、及び第12層が低屈折率層であり、
前記積層体の各層において、屈折率と物理膜厚dの積である光学膜厚が、次の各式を満足することを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜。
第1層 0.11<nHd<0.25、
第2層 0.33<nLd<0.72、
第3層 0.33<nHd<0.60、
第4層 0.23<nLd<0.54、
第5層 0.63<nHd<0.88、
第6層 0.08<nLd<0.22、
第7層 1.23<nHd<2.29、
第8層 0.06<nLd<0.15、
第9層 0.59<nHd<0.94、
第10層 0.34<nLd<0.44、
第11層 0.23<nHd<0.42、
第12層 1.15<nLd<1.27 - 前記高屈折率物質はTiO2、Nb2O5、Ta2O5、HfO2、又はそれらとLa、Zrの混合物であり、前記低屈折率物質はSiO2、MgF2、又はそれらの混合物であることを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜。
- 前記基板の屈折率は1.48〜1.8の範囲内にあることを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜。
- 請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の反射防止膜が形成された前記基板を2枚以上備えたことを特徴とする光学系。
- 請求項5に記載の光学系を有することを特徴とする光学機器。
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