JP2012253171A - プリベーク装置およびプリベーク方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ホットプレートが下向きに設けられ、レジストが塗布された面を下向きにしてホットプレートに真空吸着することで基板の加熱処理を行うことを特徴としたプリベーク装置。
【選択図】図1
Description
用するプリベーク装置であって、
少なくとも、感光性レジストが塗布された基板を加熱するための加熱チャンバーと、次工程の装置として設けられた冷却チャンバーと、を備えており、
前記加熱チャンバーは、天面部と側面部と底面部から構成された閉空間を形成しており、前記天面部の内側(側面部に囲まれている空間の天面部)にはホットプレートが下向きに設けてあり、前記ホットプレートの下方には、加熱によって感光性レジスト層から発せられる昇華物をトラップするための昇華物捕集機構が備えられており、側面部には前記基板を出し入れ可能に開閉する開閉シャッターが設けてあることを特徴とするプリベーク装置である。
前工程の塗布工程にて感光性レジストが塗布された基板を加熱チャンバーにより加熱する加熱工程と、
加熱工程が終了したあと、基板の温度を目的の温度まで冷却チャンバーにより冷却する冷却工程と、をこの順に実施する方法であり、
加熱工程を実施するに際して、前工程の塗布工程から搬送されてきた前記基板を反転させてから加熱工程に搬入し、
加熱工程を終了して次工程である冷却工程に前記基板を搬出するに際して、再び前記基板を反転させてから搬出し搬送することを特徴とするプリベーク方法である。
、ホットプレート2は、下向きに設けられている。その為、前工程から搬送されてきた基板4を反転させて、感光性レジスト層7がある面を下向きにしてから、ホットプレート2に押し当てて真空吸着することによって、下向きに基板4を保持する。このことによって、周囲環境から飛来する異物が感光性レジスト層7に付着することを抑制することができる。また、加熱チャンバー1の下部に設けられている昇華物捕集機構6によって感光性レジスト層7から発せられる昇華物を捕集する。
(a)は、加熱チャンバー1に基板4が搬入されてきた状態を示している。
(b)は、基板4の搬入が完了し、基板4を図示していないロボットアームなどの基板移動機構を使用して上に向って移動している状態を示している。
(c)は、基板4の移動が完了し、ホットプレート2に真空吸着され、且つ、基板4を搬入したシャッター5を閉じた状態を示している。
(d)は、基板4の加熱が終了し、真空吸着を切って基板4をホットプレート2から図示していない基板移動機構を使用して下方向に移動している状況を示している。
(e)は、基板4の下方向への移動が完了し、図面の右方向に向って図示していない基板移動機構を使用して移動している状況を示している。基板4を右方向に移動開始する前に、図面右側に設けてあるシャッター55を開く。
(f)は、加熱チャンバー1から出た基板4が、次の処理工程を実施するための冷却チャンバー11に搬入されている状況を示している。
(g)は、基板4の冷却チャンバー11への搬入が完了し、上方向に向って図示していない基板移動機構によって移動を開始した状況を示している。
(h)は、基板4の上方向への移動が完了し、クールプレート12に真空吸着された状況を示している。同時に、基板4が搬入されたシャッター56は閉じられている。
(i)は、基板4の冷却が終了し、真空吸着を切って基板4をクールプレート12から図示していない基板移動機構を使用して下方向に移動している状況を示している。
(j)は、基板4の下方向への移動が完了し、図面の右方向に向って図示していない基板移動機構を使用して移動している状況を示している。基板4を右方向に移動開始する前に、図面右側に設けてあるシャッター57を開く。
<実施例1>
ブラックマトリックスパターンを形成したカラーフィルタ用の基板4に、スリット&スピンコータを使用して、赤の顔料分散レジストを塗布し、感光性レジスト層7を形成した。次にEBR処理(edge bead removal処理、基板端部から数mm程度までの領域に塗布された塗布膜を除去する処理)を行った。EBR処理した領域を膜面側からロボットアームの先端に備えられている真空吸着機構で吸着し、基板4を保持した後、顔料分散レジストが塗布された面を下方向に向くように反転させた。
2・・・ホットプレート
3・・・真空吸着機構
4・・・基板
5、55、56、57、58、59・・・シャッター
6・・・昇華物捕集機構
7・・・感光性レジスト層
11、111・・・冷却チャンバー
12・・・クールプレート
Claims (4)
- フォトリソグラフィー工程で使用するプリベーク装置であって、
少なくとも、感光性レジストが塗布された基板を加熱するための加熱チャンバーと、次工程の装置として設けられた冷却チャンバーと、を備えており、
前記加熱チャンバーは、天面部と側面部と底面部から構成された閉空間を形成しており、前記天面部の内側(側面部に囲まれている空間の天面部)にはホットプレートが下向きに設けてあり、前記ホットプレートの下方には、加熱によって感光性レジスト層から発せられる昇華物をトラップするための昇華物捕集機構が備えられており、側面部には前記基板を出し入れ可能に開閉する開閉シャッターが設けてあることを特徴とするプリベーク装置。 - 昇華物捕集機構が、主に金属から形成されたクールプレート(冷却されたプレート)であることを特徴とする請求項1に記載のプリベーク装置。
- 請求項1または2に記載のプリベーク装置を用いたプリベーク方法であって、少なくとも、
前工程の塗布工程にて感光性レジストが塗布された基板を加熱チャンバーにより加熱する加熱工程と、
加熱工程が終了したあと、基板の温度を目的の温度まで冷却チャンバーにより冷却する冷却工程と、をこの順に実施する方法であり、
加熱工程を実施するに際して、前工程の塗布工程から搬送されてきた前記基板を反転させてから加熱工程に搬入し、
加熱工程を終了して次工程である冷却工程に前記基板を搬出するに際して、再び前記基板を反転させてから搬出し搬送することを特徴とするプリベーク方法。 - 加熱工程を終了して次工程である冷却工程に基板を搬入するに際して、前記基板を反転させずにそのままの向きで加熱チャンバーから搬出し搬送することを特徴とする請求項3に記載のプリベーク方法。
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