JP2012251196A - 電解用電極及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】高い酸素発生電位と酸化能力を有し、かつ、耐久性に優れた電解用電極及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】金属基体表面に耐食中間層を有し、耐食中間層表面に触媒層を有する電解用電極において、触媒層が、二酸化鉛層と、該二酸化鉛層の表面に酸化スズと酸化アンチモンを含有する層からなる積層構造を有する触媒層を用いた電解用電極及びその製造方法。本発明の電解用電極は、高い酸素発生電位と酸化能力を有し、かつ、耐久性に優れるため、各種用途に利用できる。
【選択図】なし

Description

本発明は、電気化学的化学反応において使用される電解用電極に関するものであり、より詳しくは、電解液中における金属イオンを酸化するための電解用電極、有機物を酸化処理するための電解用電極、オゾン及び／又は酸素を生成するための電解用電極、ハロゲン酸イオン及び／又は過ハロゲン酸イオンを生成するための電解用電極に関するものである。

従来、爆薬原料等となる過塩素酸ナトリウムに代表される過ハロゲン酸塩類、塩素酸塩類やヨウ素酸塩類等その他酸化剤原料の製造、水電解によるオゾンの生成、あるいは有機合成又は水処理用等の工業電解用陽極として、チタン製芯材の表面に二酸化鉛を電着した電解用電極が使用されていた。

二酸化鉛は金属導電性を有する化合物であり、酸性浴中で陽分極時に安定性に優れ、また、酸化能力に優れ、更に電着法により比較的容易に製造できる等から、広範囲な用途に長年使用されている。

しかしながら、二酸化鉛電極は高電位電解の電極として利用可能であるものの、電解において徐々に消耗してしまうため、耐久性に劣る点が問題視されている。

特にクロムめっきや、クロム酸溶液を用いた樹脂エッチング用途等においては、溶液中のクロムイオンと反応して不溶性のクロム酸鉛を生成する等により、表面から崩壊脱離を繰り返してしまうため、著しく触媒性能が劣化する等の問題があった。

また、特許文献１には、二酸化鉛の耐久性を向上させるために、α−二酸化鉛層とその表面にβ−二酸化鉛層を形成する電解用電極が開示されている。しかしながら、トップコートにβ−二酸化鉛層にしても、まだ耐久性に劣る欠点があった。

また、二酸化鉛電極の代替として酸化スズ電極を使用する試みが行われてきた。
特許文献１には、触媒層として酸化スズと酸化アンチモンとを含有する層を用いた電解用電極が開示されている。前記電解用電極は、高い酸素発生電位を有し、耐久性に優れているが、若干酸化能力に劣る欠点がある。

これより、高い酸素発生電位と酸化能力を有し、かつ、耐久性に優れる電解用電極が求められている。

特開平６−３３２８５号公報

本発明の目的は、高い酸素発生電位と酸化能力を有し、かつ、耐久性に優れた電解用電極及びその製造方法を提供することである。

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、金属基体表面に耐食中間層を有し、耐食中間層表面に触媒層を有する電解用電極において、触媒層が、二酸化鉛層と、該二酸化鉛層の表面に酸化スズと酸化アンチモンを含有する層からなる積層構造を有する触媒層を用いた電解用電極が上記課題を解決することを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明は以下に示すものである。

第一の発明は、金属基体の表面に耐食中間層と、耐食中間層の表面に触媒層とを有する電解用電極において、
触媒層が、二酸化鉛層と、その表面に酸化スズ及び酸化アンチモンを含有する層とからなることを特徴とする電解用電極である。

第二の発明は、酸化スズ及び酸化アンチモンを含有する層が、酸化スズを９９．５〜８０モル％、酸化アンチモンを０．５〜２０モル％含有することを特徴とする第一の発明に記載の電解用電極である。

第三の発明は、金属基体が、チタン、ジルコニウム、ニオブ、鉄、タンタル及びバナジウムからなる群より選ばれる少なくとも一つの金属又はそれらの金属を主成分とする合金からなる金属であることを特徴とする第一又は第二の発明に記載の電解用電極である。

第四の発明は、用途が電解液中における金属イオンを酸化するためであることを特徴とする第一から第三の発明のいずれかに記載の電解用電極である。

第五の発明は、用途が有機物を酸化処理するためであることを特徴とする第一から第三の発明のいずれかに記載の電解用電極である。

第六の発明は、用途が水電解によりオゾン及び／又は酸素を生成するためであることを特徴とする第一から第三の発明のいずれかに記載の電解用電極である。

第七の発明は、用途が電解によりハロゲン酸イオン及び／又は過ハロゲン酸イオンを生成するためであることを特徴とする第一から第三の発明のいずれかに記載の電解用電極である。

第八の発明は、金属基体の表面に耐食中間層を形成する工程と、耐食中間層の表面に触媒層を形成する工程を有する電解用電極の製造方法において、
耐食中間層の表面に触媒層を形成する工程が、
耐食中間層の表面に、二酸化鉛層を電着法により形成する工程と、
アルコール溶媒中に、スズ化合物及びアンチモン化合物を溶解させて塗布液を作製し、二酸化鉛層の表面に該塗布液を塗布、乾燥、熱分解し、酸化スズ及び酸化アンチモンを含有する層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする電解用電極の製造方法である。

本発明によれば、金属基体の表面に白金金属等の耐食性及び導電性に優れた耐食中間層を配した基体に対し、二酸化鉛層と、その表面に酸化スズ及び酸化アンチモンを含有する触媒層を用いることで、高い酸素発生電位と酸化能力を有し、耐久性に優れる電解用電極を得ることができる。

該触媒層を有する電解用電極は、二酸化鉛層により、高い酸化能力を有し、二酸化鉛層を酸化スズ及び酸化アンチモンを含有する層で覆うことで、高い電流密度での使用においても耐久性に優れた電解用電極を得ることができる。

本発明について詳細に説明する。

本発明は、金属基体の表面に耐食中間層と、耐食中間層の表面に触媒層とを有する電解用電極であって、触媒層が、二酸化鉛層とその表面に酸化スズ及び酸化アンチモンを含有する層の積層構造からなる特徴を有する。

このような積層構造とすることにより、二酸化鉛層の高い酸化能力と、酸化スズ及び酸化アンチモンが含有する層の高い酸素発生能力と、優れた耐久性を有する電解用電極が得られる特徴がある。

二酸化鉛はクロムイオンの酸化処理に利用された場合には、その表面に触媒反応の障害となるクロム酸鉛を形成しやすく、該化合物形成と表面からの崩壊脱離を繰り返すことにより触媒層の消耗が進行する欠点を有するが、ここにトップコートとして酸化スズ及び酸化アンチモンが含有する層を二酸化鉛の表面に形成させることで、高い酸化能力が維持され、かつ触媒層の消耗を防ぐことができる。

また、トップコートの酸化スズ及び酸化アンチモンが含有する層にクラック等の欠陥があった場合でも、下地層が二酸化鉛なので高い酸化能力が維持される。クロムイオンを含む電解液中の使用であっても、露出した二酸化鉛へは非導電性のクロム酸鉛が析出することによりその表面が閉塞され、酸化スズ及び酸化アンチモンを含有する層で優先的に触媒反応が進行することにより電極性能の劣化を防ぐことができる。

＜金属基体＞
本発明の電解用電極において、使用される環境は強酸性や酸化性雰囲気であることが多く、また排水処理等では金属の腐食速度を加速するような有機物やフッ素化合物を含有することも多いため、金属基体としては、チタン、ジルコニウム、ニオブ、鉄、タンタル、バナジウム及びそれらの金属を主成分とする合金からなる金属等、その表面に不動態層を形成して防食性を高める金属が好ましく挙げられ、これらの中でも特にチタンが好ましく挙げられる。この金属基体と酸化スズを主成分とする電極表面層との密着性を強化するため、前処理として該金属基体表面を、ブラスト処理やエッチング処理等を行い、表面積拡大、表面粗化を行ったものを使用することが好ましい。

ブラスト処理後、表面のエッチングを行い清浄化及び活性化を行うことが望ましく挙げられる。この清浄化における酸洗浄として代表的なものは、硫酸、塩酸及びフッ酸等に前記金属基体を浸漬し表面の一部を溶解することにより活性化を行うことができる。

＜耐食中間層＞
本発明に用いる耐食中間層としては、貴金属又はその合金、貴金属酸化物等を挙げることができる。貴金属としては、イリジウム、ルテニウム、ロジウム、金、銀、パラジウム、白金が挙げられ、合金としては、前記貴金属を二種類以上混合したものが挙げられる。貴金属酸化物としては酸化イリジウム、酸化ルテニウム、酸化パラジウム等が挙げられ、その他耐食性材料として公知のタンタル、酸化タンタル、酸化チタン等が挙げられ、これらの中でも特に白金が好ましく挙げられる。

耐食中間層の製造方法について説明する。

本発明の電解用電極の製造方法における耐食中間層を形成する方法としては、気相中におけるスパッタ法、イオンプレーティング法等の方法の他、液相中におけるめっき法によってもよく、塗布液を用いて塗布、乾燥、熱分解することで得ることができる。
一例として、塗布液を用いた製造方法としては、アルコール溶媒中に白金塩を溶解させて塗布液を作製し、金属基体の表面に該塗布液を塗布、乾燥、熱分解し、白金からなる耐食中間層を形成する工程を有することが好ましく挙げられる。

上記アルコール溶媒としては、メタノール、エタノール、プロピルアルコール、ブタノール、ペンタノール、シクロヘキサノール等が挙げられる。

塗布液の塗布方法としては、スプレー塗布法、刷毛塗り法、噴霧法、カーテンフローコート法、ドクターブレード法、ディップ法が挙げられる。

＜触媒層＞
本発明に用いる触媒層は、二酸化鉛層と、その表面に酸化スズ及び酸化アンチモンを含有する層の積層構造からなる。

二酸化鉛層は、公知の方法により形成することができるが、特に電着法により形成する方法が特に好ましく挙げられる。

電着法とは、硝酸鉛浴を電解槽とし、その中に耐食中間層を有する電極を入れ、電解により二酸化鉛層を形成することができる。

次に酸化スズ及び酸化アンチモンを含有する層の製造方法について説明する。
酸化スズ及び酸化アンチモンを含有する層の製造方法としては、スズ化合物、アンチモン化合物をアルコール溶媒に溶解させて塗布液を作製し、前記二酸化鉛層の表面に該塗布液を塗布、乾燥、熱分解し、酸化スズ及び酸化アンチモンを含有する触媒層を形成する工程を有する方法が挙げられる。

上記スズ化合物としては金属アルコキシド、塩化物、酢酸塩、有機金属化合物があり、具体的な例としては、スズ（ＩＶ）−ｔ−ブトキシド、スズ（ＩＩ）エトキシド、スズ（ＩＶ）イソプロポキシド、スズ（ＩＩ）メトキシド、スズ（ＩＶ）−ｔ−ブトキシド、スズ（ＩＶ）−ｎ−ブドキシド、ジアリルジブチルスズ、ビス（イソオクチルマレイン酸）ジブチルスズ、二酢酸ジブチルスズ、ビス（アセチルアセトナート）ジ−ｎ−ブチルスズ、ビス（トリフルオロメタンスルホン酸）ジブチルスズ、二酢酸ジブチルスズ、二塩化ジブチルスズ、ジラウリン酸ジブチルスズ、二臭化ジシクロヘキシルスズ、二臭化ジシクロヘキシルスズ、ジエチルアミノトリメチルスズ、二塩化ジエチルスズ、ジラウリン酸ジメチルスズ、ジメチルジフェニルスズ、二臭化ジメチルスズ、二塩化ジメチルスズ、ビス（２−エチルヘキサン酸）ジ−ｎ−ブチルスズ、ジ−ｎ−オクチルジクロロスズ、酸化ジオクチルスズ、二塩化ジフェニルスズ、二塩化ビニルスズ、酸化フェンブタスズ、ヘキサブチル二スズ、ヘキサメチル二スズ、ヘキサフェニル二スズ、三塩化メチルスズ、三塩化フェニルスズ、塩化アンモニウム第二スズ、テトラアリルスズ、テトラシクロヘキシルスズ、テトラ−ｎ−プロピルスズ、四フェニルスズ、臭化トリエチルスズ、塩化トリベンジルスズ、臭化トリ−ｎ−ブチルスズ、塩化トリブチルスズ、水素化トリ−ｎ−ブチルスズ、塩化トリエチルスズ、臭化トリメチルスズ、塩化トリメチルスズ、塩化トリ−ｎ−ブチルスズ、トリ−ｎ−ブチル（トリメチルシルイルエチニル）スズ、酢酸トリ−ｎ−プロピルスズ、塩化トリ−ｎ−プロピルスズ、塩化トリフェニルスズ、オレニルトリ−ｎ−ブチルスズ、アリルトリ−ｎ−ブチルスズ、ヘキサクロロスズ（ＩＶ）酸アンモニウム、ビス（アセトキシジメチルスズ）オキシド、ビス（トリメチルスズ）アセチレン、ビス（トリフェニルスズ）オキシド、ｎ−ブチルスズトリクロリド、ｃｉｓ−トリ−ｎ−ブチル（１−プロペニル）スズ、ビス（２，４−ペンタンジオン酸）ジブチルスズ、ジブチルスズオキサイド、ジブチルスズマレイン酸塩、ジクロロジフェニルスズ、ジメチルスズオキサイド、二酢酸ジ−ｎ−ブチルスズ、二塩化ジ−ｎ−ブチルスズ、ジラウリン酸ジ−ｎ−ブチルスズ、ジ−ｎ−ブチルスズオキシド、ジ−ｎ−ブチルスズビス（アセチルアセトナート）、ジ−ｎ−ブチルスズビス（２−エチルヘキサノアート、ジ−ｎ−オクチルスズオキシド、ジフェニルスズオキシド、二塩化ジ−ｔ−ブチルスズ、ビニルスズジクロリド、エチニルトリ−ｎ−ブチルスズ、酸化フェンブタスズ、ヘキサブチル二スズ、ヘキサ−ｎ−ブチル二スズ、メタリルトリ−ｎ−ブチルスズ、メチルスズトリクロリド、三塩化−ｎ−ブチルスズ、フェニルスズトリクロリド−１−プロピニルトリ−ｎ−ブチルスズ、塩化第二スズ五水和物、塩化第一スズ二水和物、テトラエチルスズ、テトラ−ｉｓｏ−プロピルスズ、テトラメチルスズ、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムジフルオロトリフェニルスズ、四フェニルスズ、テトラビニルスズ（ＩＶ）、酢酸スズ（ＩＶ）、臭化スズ（ＩＶ）、塩化スズ（ＩＶ）、ビス（２，４−ペンタンジオン酸）塩化スズ（ＩＶ）、ふっ化スズ（ＩＶ）、よう化スズ（ＩＶ）、ｔｒａｎｓ−１，２−ビス（トリ−ｎ−ブチルスズ）エチレン、トリ−ｎ−ブチル（３−メチル−２−ブテニル）スズ、トリ−ｎ−ブチルスズアセテート、トリ−ｎ−ブチル（ビニル）スズ、２−エチルヘキサン酸スズ（ＩＶ）、酢酸トリ−ｎ−プロピルスズ、塩化トリ−ｎ−プロピルスズ、酢酸トリフェニルスズ（ＩＶ）、塩化トリフェニルスズ、トリフェニルスズフルオリド等が挙げられるが、塗布液の保存安定性、環境負荷及びコストの観点から、好ましくは塩化スズが好ましく挙げられる。

上記アンチモン化合物としては金属アルコキシド、塩化物、酢酸塩、有機金属化合物があり、具体的な例としては、アンチモン（ＩＩＩ）ブトキシド、アンチモン（ＩＩＩ）エトキシド、アンチモン（ＩＩＩ）イソプロポキシド、アンチモン（ＩＩＩ）メトキシド、アンチモンペンタフルオリド、アンチモントリ−ｎ−ブチル、アンチモントリ−α−ナフチル、しゅう酸アンチモン、三よう化アンチモン、トリフェニルアンチモン、テトラフルオロアンチモン酸（ＩＩＩ）アンモニウム、酢酸アンチモン（ＩＩＩ）、臭化アンチモン（ＩＩＩ）、塩化アンチモン（ＩＩＩ）、ふっ化アンチモン（ＩＩＩ）、よう化アンチモン（ＩＩＩ）、ヘキサフルオロアンチモン酸六水和物、ヘキサフルオロアンチモン酸−１−ｎ−ブチル−３−メチルイミダゾリウム、トリフェニルアンチモン、二臭化トリフェニルアンチモン、トリス（ジメチルアミノ）アンチモン等が挙げられるが、塗布液の保存安定性、環境負荷、経済的な観点から、好ましくはアルコキシド又は塩化物であるアンチモン化合物が好ましく、特に塩化アンチモンが好ましく挙げられる。

上記アルコール溶媒としては具体的にはメタノール、エタノール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノールが挙げられ、好ましくはプロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ペンタノールが挙げられる。

また、塗布液には、触媒層の導電性を高めるため、添加剤を加えてもよく、例えば、白金、アンチモン、インジウム、鉛、チタン、ビスマス、モリブデン、タングステンやホウ酸又はリン等を含有する化合物、フッ素又は塩素等のハロゲンが挙げられる。

塗布工程は、スプレー塗布法、噴霧法、刷毛塗り法、カーテンフローコート法、ドクターブレード法、ディップ法により塗布し、塗布膜を得ることができる。
乾燥工程は、常温における風乾でもよいが、５０〜１２０℃の加熱下で１０分程度行うのが好ましく挙げられる。
熱分解工程は、２００〜６５０℃の温度で、１０分から６時間の焼成時間で行うのが好ましいが、４００〜６５０℃の温度で、１０分から１時間で行うのが好ましく挙げられる。

本発明である電解用電極の用途としては、電解液中の金属イオンを酸化する用途、有機物を酸化処理する用途、水電解によりオゾン及び／又は酸素を生成させる用途、電解によりハロゲン酸イオン及び／又は過ハロゲン酸イオンを生成させる用途が挙げられる。

用途が電解液中における金属イオンを酸化するためである電解用電極について説明する。
上記金属イオンとしては、各種金属イオンが挙げられる。本発明の電解用電極は、金属イオンを酸化させる酸化能力に優れるため、特に三価クロムイオンを六価クロムイオンに酸化するために用いられ、めっき工程などへ応用される。
めっき工程への応用としては、三価クロムを所定の濃度に調整した溶液に、陽極として本発明の電解用電極を用い、三価クロムを六価クロムへ電解酸化して、樹脂基体の表面をエッチングする用途や、陰極側に設置された被めっき体表面をクロムめっきする用途などを挙げることができる。本発明の電解用電極を用いることで、めっき電流密度が所定の範囲内に維持できる上に、全体としては高電流密度でめっきすることができ、生産効率を上げることができる。

用途が有機物を酸化処理するためである電解用電極について説明する。
本発明の電解用電極は、排水中の有機物を分解することで、化学的酸素要求量（ＣＯＤ）を低減することができる。これにより排水処理、冷却回路への微生物付着の防止等に用いることができる。

用途が水電解によりオゾン及び／又は酸素を生成するためである電解用電極について説明する。
二酸化鉛層と、その表面に酸化スズ及び酸化アンチモンが含有する層とからなる積層構造である触媒層を有する電解用電極を用いることで、酸化スズのみ又は二酸化鉛のみを用いた場合よりも、導電性付与効果が得られ、電極全体に導電性を付与し、大電流での電解が可能となる。

用途が電解によりハロゲン酸イオン及び／又は過ハロゲン酸イオンを生成するためである電解用電極について説明する。
上記ハロゲン酸イオン、過ハロゲン酸イオンとしては、塩素酸イオン、過塩素酸イオン、臭素酸イオン、過臭素酸イオン、ヨウ素酸イオン、過ヨウ素酸イオン等が挙げられる。
本発明の電解用電極は、優れた酸化能力を有するため、爆薬原料となる過塩素酸ナトリウムに代表される過ハロゲン酸塩類等の製造に用いることができる。

本発明の電解用電極は、金属基体の表面に耐食中間層と、耐食中間層の表面に触媒層を有する電解用電極であって、触媒層が二酸化鉛層と、その表面に酸化スズ及び酸化アンチモンを含有する層の積層構造からなることを特徴としており、高い酸素発生電位と酸化能力を有し、かつ高い電流密度での使用でき、耐久性に優れる特徴を有する。

以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本発明は実施例によりなんら限定されるものではない。

（実施例１）
金属基体として１０×１５０ｍｍ、厚さ０．５ｍｍのチタン基体（ＪＩＳ ２種）を、ショットブラスト処理した後に３Ｎ塩酸中に１分間浸漬させて酸化被膜除去を行い、純水による洗浄後１２０℃５分間乾燥し、電極形成用基体とした。
前処理としてヘキサクロロ白金（ＩＶ）酸六水和物が１０質量％を含有する塗布液を用いて、前記電極形成用基体に前記塗布液を塗布し、乾燥した後、熱分解法により耐食中間層である白金層を形成し、さらに硝酸鉛を溶解した電解槽において二酸化鉛層を形成した後に、酸化スズ及び酸化アンチモンを含有する層を、塩化スズ及び塩化スズ量に対し５モル％の塩化アンチモンを含有する塗布液を用いて熱分解法により形成した。

（比較例１）
実施例１において、酸化スズ及び酸化アンチモンを含有する層を形成しなかった以外は、実施例１と同様にして電解用電極を作製した。

（比較例２）
実施例１において、二酸化鉛層を形成しなかった以外は、実施例１と同様にして電解用電極を作製した。

＜電極性能評価の方法＞
なお、実施例１及び比較例１、２より得られた電解用電極の電極性能評価の方法は以下の通りである。

（電極性能評価方法）
（１）酸素過電圧測定（酸素発生電位（Ｖ）の測定）
１Ｍの硫酸溶液中で参照電極である飽和カルメル電極により電流密度１Ａ／ｄｍ^２と１０Ａ／ｄｍ^２時のアノード電位を測定し、酸素発生電位（Ｖ）とした。
（２）耐久性試験（電極寿命（ｈ）の測定）
耐久性試験は、六価クロムめっき装置内に陽極として組み込み、５Ａ／ｄｍ^２通電下で使用し、電解電圧が初期から＋２．０Ｖ上昇した時点を電極寿命（ｈ）とした。
（３）電解酸化試験（三価クロムの濃度（ｇ／Ｌ）の測定）
クロム酸（ＶＩ）、三価クロム及び硫酸を含む電解液を用い、液温４０℃、極間距離１０ｍｍ、電解液１００ｍｌ、隔膜なし、陰極をチタン金属、陽極を対象電極、電流密度１０Ａ／ｄｍ^２の条件下、３０時間後の三価クロムの濃度を評価した。電極の酸化能力が高い場合、三価クロムが減少し、六価クロムが増加することとなる。
（４）過塩素酸ナトリウム製造電極としての評価（電解時間（ｈ）の測定）
隔膜電解法により過塩素酸ナトリウムの製造を実施した。陽極電解液として６００ｇ／Ｌ塩素酸ナトリウム２５０ｍｌ、陰極電解液として１００ｇ／Ｌ硫酸２５０ｍｌ、各電解液温度を３５℃以下に保持しながら、陽極に各電解用電極、陰極に白金電極として用い、電流密度４０Ａ／ｄｍ^２の条件下において塩素酸濃度が０ｇ／Ｌになるまで電解を行った時に所要した電解時間（ｈ）を測定した。電解時間が短いほど、酸化能力に優れていることとなる。
（５）オゾン発生電極としての評価（電流変換効率（％）の測定）
ＰＴＦＥ製の固体電解質電解層内に、陰極にはステンレス焼結多孔質電極（φ５０ｍｍ、厚さ１ｍｍ）、陽極には各電解用電極、陽極室には温度を２５℃に保持した超純水を循環させながら、１００Ａ／ｄｍ^２の条件下で電解を１０００時間実施した。その際陽極室で発生するオゾンガスを、ヨウ化カリウム溶液中に一定時間通して硫酸酸性にした後、０．１Ｎチオ硫酸ナトリウム標準溶液を用いた間接滴定法によりオゾン濃度を求め、各電極における１０００時間後におけるオゾン濃度の電流変換効率（％）を測定した。

実施例１及び比較例１、２の評価結果を表１に示す。

表１より、比較例より実施例の方が、酸素発生電位及び酸化能力が高く、電極寿命が３０００時間以上であり、耐久性に優れていることが確認された。

本発明の電解用電極は、高い酸素発生電位と酸化能力を有し、かつ、耐久性に優れていることから、各種用途に利用できる。

Claims (8)

1. 金属基体の表面に耐食中間層と、耐食中間層の表面に触媒層とを有する電解用電極において、
   触媒層が、二酸化鉛層と、その表面に酸化スズ及び酸化アンチモンを含有する層とからなることを特徴とする電解用電極。
2. 酸化スズ及び酸化アンチモンを含有する層が、酸化スズを９９．５〜８０モル％、酸化アンチモンを０．５〜２０モル％含有することを特徴とする請求項１に記載の電解用電極。
3. 金属基体が、チタン、ジルコニウム、ニオブ、鉄、タンタル及びバナジウムからなる群より選ばれる少なくとも一つの金属又はそれらの金属を主成分とする合金からなる金属であることを特徴とする請求項１又は２に記載の電解用電極。
4. 用途が電解液中における金属イオンを酸化するためであることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の電解用電極。
5. 用途が有機物を酸化処理するためであることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の電解用電極。
6. 用途が水電解によりオゾン及び／又は酸素を生成するためであることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の電解用電極。
7. 用途が電解によりハロゲン酸イオン及び／又は過ハロゲン酸イオンを生成するためであることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の電解用電極。
8. 金属基体の表面に耐食中間層を形成する工程と、耐食中間層の表面に触媒層を形成する工程を有する電解用電極の製造方法において、
   耐食中間層の表面に触媒層を形成する工程が、
   耐食中間層の表面に、二酸化鉛層を電着法により形成する工程と、
   アルコール溶媒中に、スズ化合物及びアンチモン化合物を溶解させて塗布液を作製し、二酸化鉛層の表面に該塗布液を塗布、乾燥、熱分解し、酸化スズ及び酸化アンチモンを含有する層を形成する工程と、
   を含むことを特徴とする電解用電極の製造方法。