JP2012246513A - ステント研磨装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 小型で簡便でありつつ、均一な研磨を行えるステント研磨装置を提供する。
【解決手段】 ステント研磨装置１０は、研磨液ＰＬを上流から下流に流す傾斜槽１１と、研磨液ＰＬの中にステント６９を浸し、下流から上流に、ステント６９を回転させつつ搬送させる搬送ユニット２９と、を含む。
【選択図】 図１

Description

本発明は、ステント研磨装置に関する。

化学研磨または電解研磨は、一般に、切削、研削、熱処理等の様々な加工を施された金属の表面を平坦化する表面改質方法である。金属は、研磨されることによって、様々な加工で発生した金属表面の平面粗さを低減し、耐食性の向上、疲労破壊の低減、金属光沢による美観などが改善される。

一般に広く用いられる化学研磨または電解研磨は、バッチ式といわれ、研磨液槽に被研磨物を投入され、作業が行われる。例えば、化学研磨では、被研磨物を研磨液槽内に設定された温度、時間で投入され、その後、取り出されることで表面改質を行う。一方、電解研磨では、被研磨物に通電するための端子を取り付け、電解槽内に対極側を取り付け、一定時間、設定電圧で通電することで研磨を行う。

このような化学研磨または電解研磨では、液槽内に、被研磨物を投入したり、投入した被研磨物を取り出したりする。そのために、被研磨物には、何らかの持ち手または電極が取り付けられることが多いが、このような取り付けられた部分は研磨されにくい。そこで、事前に持ち手部分を作製しておき、研磨後持ち手部を除去する方法、または、持ち手部分を変更して、数回に分けて研磨する方法が強いられる。

これらの作業は、一般的な大きさの被研磨物であれば、多少の手間で済むものであり、複数回に分けて研磨しても大きな問題はない。しかし、ステントのように大きさが小さくなれば、持ち手を作ることができない。また、仮に持ち手があったとしても、その持ち手だけを再研磨することができないし、ステントの網目またはストラットの寸法に比べて、研磨を行う場合の研磨寸法が大きくなるため、持ち替えて研磨すると寸法にズレが発生するような問題が発生する。

特に、血管を拡張するために用いられるステントを一例とする医療用途に用いられる金属物は、金属溶出の低減、疲労特性の向上、清潔性の向上等の様々な目的のために化学研磨または電解研磨が施される。そして、このような金属物の寸法は、直径１．５ｍｍ，長さ１０ｍｍ程度の大きさから直径１２ｍｍ，長さ２００ｍｍ程度と非常に小さな寸法であり、持ち手部などを作製、除去することが非常に困難である。そのため、このような金属物は、複数回での研磨を行われると、寸法不良を発生するほどの研磨ムラが起こりやすい。

特に、ステントの場合、円筒形の金属チューブにレーザ照射で網目状に加工した後、研磨を行う。通常、ステントにて屈曲した線状部分であるストラットと呼ばれる部分（幅寸法はおおよそ０．１ｍｍから０．２ｍｍ程度）があるが、この部分には、レーザ切断またはレーザ加工後の熱処理により表面酸化被膜が付与される。そこで、研磨は、この表面酸化被膜を除去したり、レーザでカットされたストラットの断面の鋭利なエッジを丸め（ラウンド形状）加工をしたりする。

このような研磨工程での表面除去量は、一般の研磨工程に比べ非常に多く、５μｍから２０μｍ程度の研磨を要することもある。そのため、研磨条件が不安定であると、寸法変動が大きくなり、ステントが、設計強度未達になったり、表面ムラに起因した生体適合性の低下または疲労強度低下になったりするおそれがある。

また、一般的に、化学研磨または電解研磨では、金属の溶解によって、ステントの表面近傍に不動態化物質が発生し、不動態化膜の粘度が高いため研磨を阻害し、研磨性能が低下することがある。そのため、ポンプまたはマグネチックスターラーが用いられることで、研磨液を流動化し、不動態化物質を金属表面から剥離する方法が採用される。

しかし、ステントの場合、非常に小さなサイズであるため、ポンプまたはマグネチックスターラーでの撹拌では、研磨液の流速は不均一になってしまい、バッチ処理を行う場合、不動態化物質の剥離が積極的に行われている部分と剥離ができない部分とでは、研磨ムラが発生してしまうことが多い。

特に、電解研磨では、研磨液槽内の内側周辺にカソード電極を設置することが多いが、バッチ処理では、ステント（アノード電極）とカソード電極との距離が不均一になってしまうことから、研磨ムラの発生が深刻な問題となる。そのため、アノード電極、カソード電極の配置は、ステントの形状に対応した様々なテストを行って、条件が決められなくてはならない。

このような事情を踏まえ、ステントの研磨に関しては様々な提案がなされている（特許文献１および特許文献２参照）。

特許文献１では、アノードが金属ステントの外周に接触配置され、カソードが金属ステントの円筒内と周囲とに非接触で配置されることで、金属ステントにおける外表面と内表面との表面粗さを均質化しようしている。

特許文献２では、アノードワイヤが金属ステントの内腔に接触する一方、カソードが金属ステントから乖離して配置され、ローラが金属ステントの外壁に接触することで、その金属ステントを回転させる。これにより、金属ステントとアノードワイヤと接触部位を一定にさせず変化させることで、金属ステントの表面ムラを防止しようとしている。

特表２００３−５２２８４１号公報 特許第４６２００６０号公報

しかしながら、特許文献１では、金属ステント外周において、アノードに接触している部分は研磨されず、表面性、寸法性等を改善するに至っていない。また、金属ステント内部に設置するカソードが、金属ステントに接触しないためには、設置に手間がかかる。その上、金属ステントとカソードとが接触した場合には、通電が起き、金属ステントに過大な電流が流れ、その結果、金属ステントが焼け、破損に至ることもある。

また、特許文献２では、ステント研磨装置が複雑な機構を有さなくてはならない。その上、バッチ処理であるため、液流が不均一になり、研磨ムラが発生することもある。また、多くの機構が組み込まれているために、ローラが研磨液により腐食する可能性もある。さらに、ステントの設置に手間がかかるため、量産を行う場合には、非常に手間やコストがかかる。

本発明は、上記の問題点を解決するためになされたものである。そして、その目的は、小型で簡便でありつつ、均一な研磨を行えるステント研磨装置を提供することにある。

ステントを化学研磨または電解研磨するステント研磨装置では、研磨液を第１方向に流す研磨液流動部と、研磨液の中にステントを浸し、第１方向に対する逆方向である第２方向に、上記ステントを回転させつつ搬送させる搬送部と、を含む。

また、研磨液流動部は、重力によって研磨液を流す傾斜槽であると好ましい。

また、搬送部は、ステントの内腔に収まりつつ移動することで、ステントを搬送するロッドを含み、ステントが回転させられる場合、ロッドとステントとの接触箇所を変化させられる接触箇所可変機構が含まれると好ましい。

また、接触箇所可変機構は、ステントの内側に配置されるロッドと、ステントの外側に配置される対向面と、であると好ましい。

また、接触箇所可変機構は、回転するロッドであると好ましい。

また、研磨が化学研磨の場合、対向面が、傾斜槽の底面であると好ましい。

また、研磨が電解研磨の場合、ロッドがアノードで、対向面は、カソードになる電極板からステントまでの間に介在する中間部材であると好ましい。

本発明によれば、ステント研磨装置は、小型で簡易な構造でありつつ、均一な研磨を行える。

は、ステント研磨装置の説明図である。 は、ステントの斜視図である。 は、ステントを装着したロッドセットの斜視図である。 は、ロッドセットの斜視図である。 は、ステント研磨装置の説明図である。 は、ステントを装着したロッドセットの斜視図である。 は、比較例１に使用するステント研磨装置の説明図である。

［実施の形態１］
実施の一形態について、図面に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、便宜上、ハッチングや部材符号等を省略する場合もあるが、かかる場合、他の図面を参照するものとする。また、図面における種々部材の寸法は、便宜上、見やすいように調整されていることがある。

図１は、ステント６９等を研磨する研磨装置１０を示す。なお、以下では、図２に示すようなステント６９を研磨対象の一例として説明する。ステント６９は、網目構造を含むパイプ状（円筒形）の構造体であり、直径１ｍｍ〜１２ｍｍ、全長１０ｍｍ〜２００ｍｍを有する。なお、ステント６９は、環状の略波形構成要素６１を一方向に沿って連続的に配置させることで形成される。略波形構成要素６１は伸長するストラット６２（屈曲した線状部分）をつなげることで形成される。

このステント研磨装置１０は、化学研磨を行う装置であり、研磨液を流すための流動ユニット１９と、ステント６９を搬送する搬送ユニット２９と、を含む。

流動ユニット１９は、貯留槽１２、プール槽１３、循環セット１４、および傾斜槽［研磨液流動部］１１を含む。

貯留槽１２は、例えば、水平に配置され、研磨液ＰＬを貯留する槽（桶形状）である。そして、この貯留槽１２は、耐酸性の材料で形成されていると好ましく、例えば、塩化ビニルまたはポリプロピレンのような樹脂が、材料として挙げられる。

プール槽１３は、例えば、貯留槽１２から乖離した上方に配置される槽であり、循環セット１４によって送り出される貯留槽１２の研磨液ＰＬを一時的に貯める。なお、プール槽１３は、貯留槽１２と同様、耐酸性の材料で形成されていると好ましく、例えば、塩化ビニルまたはポリプロピレンのような樹脂が、材料として挙げられる。また、プール槽１３は、幅２００ｍｍ〜６００ｍｍ、長さ３００ｍｍ〜６００ｍｍ、深さ２００ｍｍ〜５００ｍｍを有すると好ましい。

循環セット１４は、貯留槽１２の研磨液ＰＬを、プール槽１３に導くもので、パイプ１４Ａ、ポンプ１４Ｂ、およびバルブ１４Ｃを含む。

パイプ１４Ａは、貯留槽１２とプール槽１３との間における流路となるものであり、例えば、一端をプール槽１３の底に流通可能につなげ、他端を貯留槽１２の研磨液ＰＬに浸す。ポンプ１４Ｂは、パイプ１４Ａに取り付けられ、パイプ１４Ａの他端から貯留槽１２の研磨液ＰＬを吸い上げることで、プール槽１３へと導く。バルブ１４Ｃも、パイプ１４Ａに取り付けられ、ポンプ１４Ｂによってパイプ１４Ａに送り出される研磨液ＰＬの流量を調整する。

傾斜槽１１は、プール槽１３に連なる槽であり、一端をプール槽１３に流通可能に連ね、他端を貯留槽１２に近づけるようする。すなわち、傾斜槽１１は、プール槽１３から貯留槽１２に向かって下るような傾斜を有する。そのため、プール槽１３に一時的に貯められる研磨液ＰＬは、傾斜槽１１を流れることで、貯留槽１２へと流れ落ちる（要は、研磨液ＰＬは、重力により、傾斜槽１１における上流から下流［第１方向］に向かって流れることで、その傾斜槽１１の下流側に配置される貯留槽１２に入る）。

そして、傾斜槽１１から流れてきた研磨液ＰＬは、貯留槽１２に入ると、再度、循環セット１４によって、プール槽１３に送り出され、傾斜槽１１へと循環する。そのため、貯留槽１２は、研磨が終了した場合に研磨液ＰＬを貯留する機能も併せ持つ容量を持っており、幅３００ｍｍ〜１０００ｍｍ、長さ６００ｍｍ〜２０００ｍｍ、深さ４００ｍｍ〜１０００ｍｍの大きさを有すると好ましい。

なお、傾斜槽１１は、貯留槽１２およびプール槽１３と同様、耐酸性の材料で形成されていると好ましく、例えば、塩化ビニルまたはポリプロピレンのような樹脂が、材料として挙げられる。また、傾斜槽１１は、幅１００ｍｍ〜３００ｍｍ、長さ４００ｍｍ〜１０００ｍｍ、深さ５０ｍｍ〜２００ｍｍを有すると好ましい。また、傾斜槽１１の傾斜角度は、上流側、下流側の高さを調節できる位置決め機構（不図示）により、水平方向に対して１０度〜４５度まで変更できると好ましい。

搬送ユニット［搬送部］２９は、ロッドセット２１、ローラベルト２２、およびガイドレール２３を含む。

ロッドセット２１は、図３および図４に示すように、ロッドセット２１Ｒとアーム２１Ａとを含む。詳説すると、ロッドセット２１は、ステント６９の内腔に収まるロッド２１Ｒと、このロッド２１Ｒをつり下げるアーム２１Ａとを連結させたものである（なお、例えば棒状部材が、部分的に凹型に折り曲げられることで、凹の底部分がロッド２１Ｒとなり、凹の側壁部分がアーム２１Ａとなる）。

そして、ロッド２１Ｒが、ステント６９の内腔に収まった状態で、アーム２１Ａでつり上げられて移動させられる。これにより、ロッド２１Ｒが、ステント６９の内腔に接触しつつ、そのステント６９を搬送させることになる。

なお、ロッド２１Ｒは、ステント６９の内腔（内側）に収まるために、ステント６９の内径の３０％〜６０％の内径を有する円柱状であると好ましい。また、このような内径を有するロッド２１Ｒであれば、ステント６９の内腔にも研磨液ＰＬが通過し、内腔の研磨も行える。

また、化学研磨の場合、ロッドセット２１は、耐酸性の樹脂または耐食性の高い金属で形成されると好ましく、例えば、塩化ビニルまたはポリプロピレン、もしくは、ステンレススチールまたはチタニウムが材料として挙げられる。

ローラベルト２２は、平行配置の２つの回転ローラ２２Ａ・２２Ａに架け渡された環状ベルトで、不図示の動力源で回転する少なくとも一方の回転ローラ２２Ａの回転に応じて、回転する。また、ローラベルト２２は、表面に、アーム２１Ａに引っ掛る爪２２Ｃを環状方向に沿って複数含む（ただし、これに限定されず単数であってもよい）。そのため、ローラベルト２２の回転によって動く爪２２Ｃが、アーム２１Ａに引っ掛ると、ロッドセット２１は移動する。

なお、２つの回転ローラ２２Ａ・２２Ａの並列方向は、図１に示すように、傾斜槽１１の全長方向に対して平行で、かつ２つの回転ローラ２２Ａ・２２Ａの乖離距離は、傾斜槽１１の全長よりも長い。

ガイドレール２３は、アーム２１Ａをつり下げることのできるレールで、ローラベルト２２の回転に応じて移動するロッドセット２１の進行方向をガイドする（なお、ガイドレール２３は、耐食性のある金属で形成されると好ましく、例えば、ステンレススチールまたはチタニウムが挙げられる）。

このガイドレール２３は、図１に示すように、連なるプール槽１３および傾斜槽１１と、ローラベルト２２との間に挟まれるように配置され、一部を傾斜槽１１の全長方向に亘って、沿わせる。その上、ガイドレール２３に向くローラベルト２２の爪２２Ｃと、ガイドレール２３につり下げられるアーム２１Ａとが、引っ掛るように、ガイドレール２３の配置は調整される。

そのため、図１に示すように、ガイドレール２３につり下げられるロッドセット２１は、回転するローラベルト２２の爪２２Ｃに引っ掛けられることで、一つずつ傾斜槽１１の下流側から上流側［第２方向］へと搬送される（なお、ロッドセット２１の移動速度は、回転ローラ２２Ａの回転速度によって調整される）。

さらに、ガイドレール２３と傾斜槽１１の底面１１Ｂとの乖離距離は、ガイドレール２３につり下げられたロッドセット２１のアーム２１Ａの全長よりも短くなるように、ガイドレール２３の配置は調整される。すると、ロッドセット２１が搬送される過程で、ステント６９の内腔（内側）はロッド２１Ｒに接触し、ステント６９の表面（外側）は傾斜槽１１の底面［対抗面］１１Ｂに接触する。その結果、ステント６９は、ロッド２１Ｒ上を回転しつつ、傾斜槽１１の研磨液ＰＬ中を移動する。すなわち、ロッドセット２１につり下げられたステント６９は、上流側から下流側へと流れる研磨液ＰＬの入った傾斜槽１１の底面に接触しつつ、下流側から上流側へ移動することにより、流れる研磨液ＰＬ中を回転しながら搬送される。

このようにステント６９が回転しつつ流れる研磨液ＰＬ中を移動すると、ステント６９と研磨液ＰＬとの接触（液接触）が均等になり、均一な研磨がなされやすい。したがって、ロッド２１Ｒがステント６９の内腔の１箇所に長期にわたって接触することに起因し、その接触箇所の研磨が不十分になるような事態は起こりにくい。

別表現すると、ステント研磨装置１０は、ロッド２１Ｒとステント６９との接触箇所を変化させられる接触箇所可変機構を含むといえる。そして、図１に示すような化学学研磨を行うステント研磨装置１０の場合、接触箇所可変機構は、ステント６９の内側に配置されてステント６９に接触しつつ移動するロッド２１Ｒと、ステント６９の外側に配置されてステント６９の表面に接触する傾斜槽１１の底面１１Ｂとなる。

また、このようなステント研磨装置１０では、複数のロッドセット２１が比較的簡易な機構であるローラベルト２２によって搬送される。そのため、多くのステント６９が、簡単に、かつ素早く研磨される（すなわち、このようなステント研磨装置１０は、小型で簡便な連続研磨型のステント研磨装置１０といえる）。

［実施の形態２］
実施の形態２について説明する。なお、実施の形態１で用いた部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付記し、その部材の種々説明を省略する。

実施の形態１では、化学研磨の場合に用いられるステント研磨装置１０を例に挙げた。しかしながら、これに限定されるものではない。例えば、図５に示されるような、電解研磨に適したステント研磨装置１０であってもよい。

図５に示すステント研磨装置１０では、電極板３１が傾斜槽１１の内部に配置され、電源３２のマイナス極に電気的に接続される（要は、導通している）。したがって、電極板３１は、カソード電極となる。

一方で、電源３２のプラス極は、導通性のあるガイドレール２３に電気的に接続される。そして、ガイドレール２３につり下げられるロッドセット２１は、耐食性を有しつつも導通性の有る材料、例えば、ステンレススチールまたはチタニウム等、若しくは、高い導電性を有するアルミニウムまたは銅で形成される（すなわち、ガイドレール２３同様、ロッドセット２１は電気的に電源３２のプラス極に接続される）。そのため、ロッドセット２１に接触する（すなわち、電気的に接続する）ステント６９が、アノード電極となる。

なお、ステント６９の電解研磨のためには、ステント６９と電極板３１との接触が防止されなくてはならない。そのため、ガイドレール２３につり下げられロッドセット２１と電極板３１との間には、例えば、電極板３１を覆る程度の面積を有する網［対向面］４１が配置される（なお、網４１は、耐酸性の材料で形成されていると好ましく、例えば、塩化ビニルまたはポリプロピレンのような樹脂が、材料として挙げられる）。

すなわち、ステント６９の外側で、かつそのステント６９と電極板３１との間に、面状等の網４１が配置されることで、ステント６９と電極板３１との接触が避けられ、確実にステント６９が電解研磨される。

その上、ガイドレール２３と電極板３１との乖離距離は、ガイドレール２３につり下げられたロッドセット２１のアーム２１Ａの全長よりも短くなるように、ガイドレール２３の配置は調整される。すると、ロッドセット２１が搬送される過程で、ステント６９の内腔（内側）はロッド２１Ｒに接触し、ステント６９の表面（外側）は網４１に接触する。その結果、ステント６９は、ロッド２１Ｒ上を回転しつつ、傾斜槽１１の研磨液ＰＬ中を移動する。すなわち、ロッドセット２１につり下げられたステント６９は、上流側から下流側へと流れる研磨液ＰＬの入った傾斜槽１１内の網４１に接触しつつ、下流側から上流側へ移動することにより、流れる研磨液ＰＬ中を回転しながら搬送される。

このようにステント６９が回転しつつ流れる研磨液ＰＬ中を移動すると、ステント６９と研磨液ＰＬとの接触が均等になり、均一な研磨がなされやすい。すなわち、実施形態２のステント研磨装置１０であっても、実施の形態１同様の作用効果が奏ずる。

なお、実施形態２のステント研磨装置１０でも、ロッド２１Ｒとステント６９との接触箇所を変化させられる接触箇所可変機構を含むといえる。図５に示すような電解学研磨を行うステント研磨装置１０の場合、接触箇所可変機構は、ステント６９の内側に配置されてステント６９に接触しつつ移動するロッド２１Ｒと、ステント６９の外側に配置され、カソードになる電極板３１からステント６９までの間に介在する網［中間部材］４１とである。

また、ロッドセット２１および電極板３１等のように、電流の流れる部品は、極力簡素化されたものであるため、破損等が起きにくい。

［その他の実施の形態］
なお、本発明は上記の実施の形態に限定されず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、種々の変更が可能である。

例えば、図６に示すように、ロッドセット２１におけるロッド２１Ｒに、ギアローラ５１が取り付けられるとともに、傾斜槽１１に、ギアローラ５１に噛み合うラックギア５２が取り付けられてもよい。

このようなギアローラ５１とラックギア５２とが含まれたステント研磨装置１０であれば、傾斜槽１１の下流側から上流側へと伸びるラックギア５２に、ギアローラ５１が噛み合うことで回転するので、そのギアローラ５１に連なったロッド２１Ｒも回転する。すると、ステント６９は、ロッド２１Ｒ上を回転しつつ、傾斜槽１１の研磨液ＰＬ中を移動するので、均一に研磨される（すなわち、接触箇所可変機構は、回転するロッド２１Ｒである）。

なお、このようなロッド２１Ｒに取り付けられたギアローラ５１と、ギアローラ５１を回転させるラックギア５２とは（なお、ギアローラ５１とラックギア５２とを、ロッド回転部とも称する）、研磨の種類の依存することなく、ステント研磨装置１０に搭載できる。

また、ロッド回転部は、実施の形態１のステント研磨装置１０に搭載されてもよいし、実施の形態２のステント研磨装置１０に搭載されてもよい。そして、このようなステント研磨装置１０の場合、ステント６９が回転しやすくなり、その結果、そのステント６９は、一層、均一な研磨がなされやすい。

以下に、比較例と実施例を用いた説明を行うが、これらに限定されるものではない。

（比較例１）
図７に、バッチ式のステント研磨装置１１０を示す。この装置にて、直径８ｍｍ、長さ４０ｍｍのＮｉ−Ｔｉ製の円筒状ステント６９が、ポリプロピレンの研磨槽１７１に貯められた市販のＴｉ合金用電解研磨液ＰＬに浸されることで、電解研磨された。

なお、電解研磨前のストラット幅は約１２５μｍで、厚さは２２０μｍのため、一般的なアノード接点が使えない。そのため、直径１．０ｍｍのステンレススチール製の金属線をＵ字に折り曲げた電極棒１７２が、ステント６９の内径に接するように取り付けられ、その電極棒１７２に対して、電源３２のプラス極が電気的に接続する。したがって、電極棒１７２に支持されたステント６９がアノード電極となる。一方で、カソード電極となる銅板１７３・１７３が、研磨槽１７１の側面に取り付けら、電源３２のマイナス極が銅板１７３・１７３に電気的に接続する。

そして、アノード電極に対して、推奨電圧１５Ｖにて、電源３２から直流電流が流され、その電流がカソード電極を通じて電源へと流れる（なお、電流供給時間は１２分であった）。また、研磨槽１７１底面の外側には、マグネチックスターラー１７５が配置されることで、研磨槽１７１の電解研磨液ＰＬは撹拌されていた。

（実施例１）
図５に示すステント研磨装置１０にて、比較例１と同形状のＮｉ−Ｔｉ製ステント６９を、比較例１同様、市販されているＴｉ合金用電解研磨液ＰＬにて電解研磨された。

なお、６００ｍｍの長さを有する傾斜槽１１の傾斜角度は３０度に調整され、さらに、ポンプ１４Ｂで汲み上げる電解研磨液ＰＬの流量は、傾斜槽１１にて、ステント６９を完全に電解研磨液ＰＬに沈められるように調整した。また、回転ローラ２２Ａの回転数が調製されることで、ローラベルト２２で搬送されるロッドセット２１（ひいては、ステント６９）の搬送速度は、５ｍｍ／ｍｉｎに設定されている。

また、電源３２のプラス極は、ガイドレール２３とロッドセット２１とを通じて、ステント６９に電気的に接続し、電源３２のマイナス極は、傾斜槽１１の底面に取り付けられた銅製の電極板（銅板）３１に電気的に接続する。

そして、比較例１同様、アノード電極に対して、推奨電圧１５Ｖにて、電源３２から直流電流が流され、その電流がカソード電極を通じて電源へと流れる（なお、電流供給時間は１２分であった）。また、ステント６９は傾斜槽１１の下流から上流へ研磨液ＰＬ内を約１２分で通過させるように設定した。

（評価）
上記比較例１および実施例１に関して、以下の評価を実施した。

（１）ステントの表面検査
ステントを、実体顕微鏡を用いて１００倍に拡大して観察し、ステントの外面および内面に研磨不良部がないか評価した。

（２）ステントの寸法評価
ステントのストラットの幅を任意に各４０箇所、測定顕微鏡を用いて測定し、測定されたストラット幅の最大値と最小値との差を振れ幅と定義し、それを比較評価した。また、円筒厚さ測定用マイクロメータを用い、ステントの肉厚を各８箇所測定し、最大値と最小値の差を振れ幅と定義し、それを比較評価した。

（評価結果）
ステントの表面検査では、比較例１も実施例１も外面は、ほぼきれいな鏡面光沢を持っていた。しかし、比較例１では、内面側に電極棒の接地面と思われる未研磨面が線上にできており、この部分は鏡面にはなっていなかった。また、線状部のストラットはエッジが残っていた。実施例１の内面は全面に渡り研磨され、エッジが丸くなっており、鏡面光沢を持っていた。

また、寸法評価結果は、表１に示した。

この表１に示した通り、ステントのストラット幅の振れ幅は、実施例１の方が比較例１よりも少ない。これは、ステントと研磨液ＰＬとの相対速度が安定していることが、研磨量の安定に寄与しているためと考えられる。また、カソード電極とステントとの位置も振れ幅の低減に寄与していると思われる。

また、肉厚測定でも、実施例１の方が、比較例１より、振れ幅が少ない結果が得られた。これは、比較例１では研磨の不均一が原因の１つであり、さらなる原因としては、電極棒１７２に接するステントの部位の研磨が行われていないため、部分的に厚さが不均一になったためと考えられる。以上から、ステント研磨装置１０による研磨の安定性が確認できた。

１０ ステント研磨装置
１１ 傾斜槽［研磨液流動部］
１１Ｂ 傾斜槽の底面［対向面］
１２ 貯留槽
１３ プール槽
１４ 循環セット
１９ 流動ユニット
２１ ロッドセット
２１Ｒ ロッド
２１Ａ アーム
２２ ローラベルト
２２Ａ 回転ローラ
２２Ｃ 爪
２３ ガイドレール
３１ 電極板
３２ 電源
４１ 網［対向面、中間部材］
５１ ギアローラ
５２ ラックギア
６９ ステント
ＰＬ 研磨液

Claims (7)

1. ステントを化学研磨または電解研磨するステント研磨装置にあって、
   研磨液を第１方向に流す研磨液流動部と、
   上記研磨液の中に上記ステントを浸し、上記第１方向に対する逆方向である第２方向に、上記ステントを回転させつつ搬送させる搬送部と、
   を含むステント研磨装置。
2. 上記研磨液流動部は、重力によって上記研磨液を流す傾斜槽である請求項１に記載のステント研磨装置。
3. 上記搬送部は、上記ステントの内腔に収まりつつ移動することで、上記ステントを搬送するロッドを含み、
   上記ステントが回転させられる場合、
   上記ロッドと上記ステントとの接触箇所を変化させられる接触箇所可変機構が含まれる請求項２に記載のステント研磨装置。
4. 上記接触箇所可変機構は、上記ステントの内側に配置される上記ロッドと、上記ステントの外側に配置される対向面と、である請求項３に記載のステント研磨装置。
5. 上記接触箇所可変機構は、回転する上記ロッドである請求項３または４に記載のステント研磨装置。
6. 研磨が化学研磨の場合、
   上記対向面が、上記傾斜槽の底面である請求項４または５に記載のステント研磨装置。
7. 研磨が電解研磨の場合、
   上記ロッドがアノードで、
   上記対向面は、カソードになる電極板からステントまでの間に介在する中間部材である請求項４または５に記載のステント研磨装置。