JP2012246467A5 - ガスバリア性フィルムの製造装置及びガスバリア性フィルム - Google Patents
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Description
上記課題を解決するため、
本発明は、無機薄膜層及び有機薄膜層が基材上に積層されてなる積層体であるガスバリア性フィルムの製造装置であって、前記基材を搬送するためのロールを具備し、真空チャンバーの内部に配置された、無機薄膜層形成室及び有機薄膜層形成室を具備し、前記有機薄膜層形成室は、真空中でイオン液体モノマーを重合させて成膜することにより有機薄膜層を形成するための内部空間を有し、前記無機薄膜層形成室は、真空中でターゲットとして無機材料を用いて無機薄膜層を形成するための内部空間を有することを特徴とするガスバリア性フィルムの製造装置を提供する。
本発明のガスバリア性フィルムの製造装置は、1つの前記有機薄膜層形成室を具備し、前記無機薄膜層形成室として、第一の無機薄膜層形成室及び第二の無機薄膜層形成室の2つの無機薄膜層形成室を具備し、前記第一の無機薄膜層形成室、有機薄膜層形成室及び第二の無機薄膜層形成室がこの順に直列に配置されており、前記第一の無機薄膜層形成室、有機薄膜層形成室及び第二の無機薄膜層形成室にはいずれも、前記基材を受け入れる入り口、及び前記基材を送り出すための出口が設けられ、前記第一の無機薄膜層形成室、有機薄膜層形成室及び第二の無機薄膜層形成室の内部を前記基材が搬送されるようになっていることが好ましい。
また、本発明は、上記本発明の製造装置を用いて製造されたことを特徴とする、無機薄膜層及び有機薄膜層が基材上に積層されてなる積層体であるガスバリア性フィルムを提供する。
本発明は、無機薄膜層及び有機薄膜層が基材上に積層されてなる積層体であるガスバリア性フィルムの製造装置であって、前記基材を搬送するためのロールを具備し、真空チャンバーの内部に配置された、無機薄膜層形成室及び有機薄膜層形成室を具備し、前記有機薄膜層形成室は、真空中でイオン液体モノマーを重合させて成膜することにより有機薄膜層を形成するための内部空間を有し、前記無機薄膜層形成室は、真空中でターゲットとして無機材料を用いて無機薄膜層を形成するための内部空間を有することを特徴とするガスバリア性フィルムの製造装置を提供する。
本発明のガスバリア性フィルムの製造装置は、1つの前記有機薄膜層形成室を具備し、前記無機薄膜層形成室として、第一の無機薄膜層形成室及び第二の無機薄膜層形成室の2つの無機薄膜層形成室を具備し、前記第一の無機薄膜層形成室、有機薄膜層形成室及び第二の無機薄膜層形成室がこの順に直列に配置されており、前記第一の無機薄膜層形成室、有機薄膜層形成室及び第二の無機薄膜層形成室にはいずれも、前記基材を受け入れる入り口、及び前記基材を送り出すための出口が設けられ、前記第一の無機薄膜層形成室、有機薄膜層形成室及び第二の無機薄膜層形成室の内部を前記基材が搬送されるようになっていることが好ましい。
また、本発明は、上記本発明の製造装置を用いて製造されたことを特徴とする、無機薄膜層及び有機薄膜層が基材上に積層されてなる積層体であるガスバリア性フィルムを提供する。
Claims (3)
- 無機薄膜層及び有機薄膜層が基材上に積層されてなる積層体であるガスバリア性フィルムの製造装置であって、
前記基材を搬送するためのロールを具備し、
真空チャンバーの内部に配置された、無機薄膜層形成室及び有機薄膜層形成室を具備し、
前記有機薄膜層形成室は、真空中でイオン液体モノマーを重合させて成膜することにより有機薄膜層を形成するための内部空間を有し、
前記無機薄膜層形成室は、真空中でターゲットとして無機材料を用いて無機薄膜層を形成するための内部空間を有することを特徴とするガスバリア性フィルムの製造装置。 - 1つの前記有機薄膜層形成室を具備し、前記無機薄膜層形成室として、第一の無機薄膜層形成室及び第二の無機薄膜層形成室の2つの無機薄膜層形成室を具備し、
前記第一の無機薄膜層形成室、有機薄膜層形成室及び第二の無機薄膜層形成室がこの順に直列に配置されており、
前記第一の無機薄膜層形成室、有機薄膜層形成室及び第二の無機薄膜層形成室にはいずれも、前記基材を受け入れる入り口、及び前記基材を送り出すための出口が設けられ、前記第一の無機薄膜層形成室、有機薄膜層形成室及び第二の無機薄膜層形成室の内部を前記基材が搬送されるようになっていることを特徴とする請求項1に記載のガスバリア性フィルムの製造装置。 - 請求項1又は2に記載の製造装置を用いて製造されたことを特徴とする、無機薄膜層及び有機薄膜層が基材上に積層されてなる積層体であるガスバリア性フィルム。
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