JP2012238853A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2012238853A5
JP2012238853A5 JP2012100752A JP2012100752A JP2012238853A5 JP 2012238853 A5 JP2012238853 A5 JP 2012238853A5 JP 2012100752 A JP2012100752 A JP 2012100752A JP 2012100752 A JP2012100752 A JP 2012100752A JP 2012238853 A5 JP2012238853 A5 JP 2012238853A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
single crystal
crystal silicon
silicon substrate
photoelectric conversion
conductivity type
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2012100752A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2012238853A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2012100752A priority Critical patent/JP2012238853A/ja
Priority claimed from JP2012100752A external-priority patent/JP2012238853A/ja
Publication of JP2012238853A publication Critical patent/JP2012238853A/ja
Publication of JP2012238853A5 publication Critical patent/JP2012238853A5/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Claims (10)

  1. 一対の電極間に、
    一導電型を有する単結晶シリコン基板と、
    前記単結晶シリコン基板の一方の面に設けられた前記単結晶シリコン基板とは逆の導電型を有する第1の領域と、
    前記第1の領域上に設けられた絶縁膜と、
    前記単結晶シリコンの他方の面に設けられた前記単結晶シリコン基板と同じ導電型で、前記単結晶シリコン基板よりもキャリア密度の高い第2の領域と、を有し、
    前記単結晶シリコン基板表面は、微細な略四角錐状の複数の凸部、及び隣接する前記凸部間で構成される凹部からなる凹凸形状であり、前記凸部の頂点を含み、前記凸部の一面及び該一面と対向する面を二等分する断面において、前記頂点は鈍角をして形成されており、前記凹部の底は曲面をなして形成されていることを特徴とする光電変換装置。
  2. 一対の電極間に、
    一導電型を有する単結晶シリコン基板と、
    前記単結晶シリコン基板の一方の面に接する第1のシリコン半導体層と、
    前記第1のシリコン半導体層に接し、前記単結晶シリコン基板とは逆の導電型を有する第2のシリコン半導体層と、
    前記単結晶シリコン基板の他方の面に接する第3のシリコン半導体層と、
    前記第3のシリコン半導体層に接し、前記単結晶シリコン基板と同じ導電型で、前記単結晶シリコン基板よりもキャリア密度の高い第4のシリコン半導体層と、を有し、
    前記単結晶シリコン基板表面は、微細な略四角錐状の複数の凸部、及び隣接する前記凸部間で構成される凹部からなる凹凸形状であり、前記凸部の頂点を含み、前記凸部の一面及び該一面と対向する面を二等分する断面において、前記頂点は鈍角をして形成されており、前記凹部の底は曲面をなして形成されていることを特徴とする光電変換装置。
  3. 請求項2において、
    前記第1のシリコン半導体層及び前記第3のシリコン半導体層は、i型の導電型を有する非晶質シリコン層であることを特徴とする光電変換装置。
  4. 請求項2または3において、
    前記第2のシリコン半導体層及び前記第4のシリコン半導体層は、微結晶シリコン層であることを特徴とする光電変換装置。
  5. 一導電型を有する単結晶シリコン基板と、
    前記単結晶シリコン基板の一方の面上に設けられた第1の絶縁層と、
    前記単結晶シリコン基板の他方の面に設けられた前記単結晶シリコン基板とは逆の導電型を有する第1の領域と、
    前記単結晶シリコン基板の他方の面に設けられた前記単結晶シリコン基板と同じ導電型で、前記単結晶シリコン基板よりもキャリア密度の高い第2の領域と、
    前記単結晶シリコン基板の他方の面に接する第2の絶縁層と、
    前記第2の絶縁層の開口部において前記第1の領域と接する第1の電極と、
    前記第2の絶縁層の開口部において前記第2の領域と接する第2の電極と、を有し、
    前記単結晶シリコン基板表面は、微細な略四角錐状の複数の凸部、及び隣接する前記凸部間で構成される凹部からなる凹凸形状であり、前記凸部の頂点を含み、前記凸部の一面及び該一面と対向する面を二等分する断面において、前記頂点は鈍角をして形成されており、前記凹部の底は曲面をなして形成されていることを特徴とする光電変換装置。
  6. 請求項1乃至5のいずれか一項において、
    前記頂点の角度は、90°より大きく、120°以下であることを特徴とする光電変換装置。
  7. 表面に(100)面を有する単結晶シリコン基板の表面をアルカリ溶液に浸漬させてエッチングすることにより、微細な略四角錐状の複数の凸部、及び隣接する前記凸部間で構成される凹部からなる凹凸形状とし、
    前記凹凸形状を有する前記単結晶シリコン基板を混酸液に浸漬させてエッチングすることにより、前記凸部の頂点を含み、前記凸部の一面及び該一面と対向する面を二等分する断面において、前記頂点は鈍角をなすように形成し、かつ、前記凹部の底が曲面をなすように形成することを特徴とする光電変換装置の作製方法。
  8. 請求項7において、
    前記アルカリ溶液は、水酸化カリウム、または水酸化ナトリウムを含む水溶液であることを特徴とする光電変換装置の作製方法。
  9. 請求項7または8において、
    前記混酸液は、フッ酸、硝酸、及び酢酸を含むことを特徴とする光電変換装置の作製方法。
  10. 請求項7乃至9のいずれか一項において、
    前記頂点の角度は、90°より大きく、120°以下であることを特徴とする光電変換装置の作製方法。
JP2012100752A 2011-04-29 2012-04-26 光電変換装置、及びその作製方法 Withdrawn JP2012238853A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012100752A JP2012238853A (ja) 2011-04-29 2012-04-26 光電変換装置、及びその作製方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011102573 2011-04-29
JP2011102573 2011-04-29
JP2012100752A JP2012238853A (ja) 2011-04-29 2012-04-26 光電変換装置、及びその作製方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012238853A JP2012238853A (ja) 2012-12-06
JP2012238853A5 true JP2012238853A5 (ja) 2015-05-28

Family

ID=47066962

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012100752A Withdrawn JP2012238853A (ja) 2011-04-29 2012-04-26 光電変換装置、及びその作製方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US20120273036A1 (ja)
JP (1) JP2012238853A (ja)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5927027B2 (ja) * 2011-10-05 2016-05-25 株式会社半導体エネルギー研究所 光電変換装置
JP2013187287A (ja) * 2012-03-07 2013-09-19 Sharp Corp 光電変換素子
JP2015185743A (ja) * 2014-03-25 2015-10-22 シャープ株式会社 光電変換素子
JP6162076B2 (ja) * 2014-06-04 2017-07-12 信越化学工業株式会社 太陽電池モジュールおよびその製造方法
WO2016098701A1 (ja) * 2014-12-15 2016-06-23 シャープ株式会社 半導体基板の製造方法、光電変換素子の製造方法、半導体基板および光電変換素子
JP2018026388A (ja) * 2016-08-08 2018-02-15 パナソニックIpマネジメント株式会社 太陽電池及び太陽電池の製造方法
JP6246982B1 (ja) * 2016-10-25 2017-12-13 信越化学工業株式会社 高光電変換効率太陽電池及び高光電変換効率太陽電池の製造方法
JP7110173B2 (ja) * 2017-03-31 2022-08-01 株式会社カネカ 太陽電池、太陽電池モジュール、および、太陽電池の製造方法
CN110120431A (zh) * 2019-05-28 2019-08-13 中国科学院物理研究所 具有v型槽绒面的硅片及其应用
WO2021201030A1 (ja) * 2020-03-30 2021-10-07 株式会社カネカ 太陽電池および太陽電池の製造方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6207890B1 (en) * 1997-03-21 2001-03-27 Sanyo Electric Co., Ltd. Photovoltaic element and method for manufacture thereof
US20030178057A1 (en) * 2001-10-24 2003-09-25 Shuichi Fujii Solar cell, manufacturing method thereof and electrode material
JP4244549B2 (ja) * 2001-11-13 2009-03-25 トヨタ自動車株式会社 光電変換素子及びその製造方法
CN101019212B (zh) * 2004-10-28 2010-12-08 三益半导体工业株式会社 半导体基板的制造方法、太阳能用半导体基板及蚀刻液
US8247312B2 (en) * 2008-04-24 2012-08-21 Innovalight, Inc. Methods for printing an ink on a textured wafer surface
JP2010034156A (ja) * 2008-07-25 2010-02-12 Ulvac Japan Ltd テクスチャー形成方法及び真空処理装置
WO2010032933A2 (en) * 2008-09-16 2010-03-25 Lg Electronics Inc. Solar cell and texturing method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2012238853A5 (ja)
JP6553731B2 (ja) N型両面電池のウェットエッチング方法
JP2012216797A5 (ja) 半導体装置
TW200620441A (en) Method for manufacturing semiconductor substrate, semiconductor substrate for solar cell and etching solution
JP2012142568A5 (ja)
JP2012235107A5 (ja) 半導体装置
JP2012015100A5 (ja) 蓄電装置
JP2011100982A5 (ja)
MX347995B (es) Emisor híbrido de celda solar con contacto posterior.
JP2012084853A5 (ja) 半導体装置の作製方法、及び、半導体装置
JP2011003608A5 (ja)
WO2011087878A3 (en) Manufacture of thin film solar cells with high conversion efficiency
JP2010183022A5 (ja) 半導体装置
JP2012098628A5 (ja)
JP2010161358A5 (ja) 薄膜トランジスタ
JP2010177264A5 (ja)
JP2011009595A5 (ja) 半導体装置
JP2007150250A5 (ja)
JP2011100985A5 (ja)
JP2011014892A5 (ja)
JP2011023710A5 (ja)
EP2429005A3 (en) Method for manufacturing a mono-crystalline silicon solar cell and etching method thereof
TW201214724A (en) A solar cell apparatus having the transparent conducting layer with the periodic structure
JP2011192984A5 (ja) 半導体装置
JP2014116577A5 (ja)