JP2012227318A - 基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、基板処理装置及びインプリントシステム - Google Patents

基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、基板処理装置及びインプリントシステム Download PDF

Info

Publication number
JP2012227318A
JP2012227318A JP2011092765A JP2011092765A JP2012227318A JP 2012227318 A JP2012227318 A JP 2012227318A JP 2011092765 A JP2011092765 A JP 2011092765A JP 2011092765 A JP2011092765 A JP 2011092765A JP 2012227318 A JP2012227318 A JP 2012227318A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
wafer
light
coating
unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2011092765A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2012227318A5 (enExample
Inventor
Kokichi Hiroshiro
幸吉 広城
Takanori Nishi
孝典 西
Shoichi Terada
正一 寺田
Takahiro Kitano
高広 北野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
Priority to JP2011092765A priority Critical patent/JP2012227318A/ja
Publication of JP2012227318A publication Critical patent/JP2012227318A/ja
Publication of JP2012227318A5 publication Critical patent/JP2012227318A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
JP2011092765A 2011-04-19 2011-04-19 基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、基板処理装置及びインプリントシステム Pending JP2012227318A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011092765A JP2012227318A (ja) 2011-04-19 2011-04-19 基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、基板処理装置及びインプリントシステム

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011092765A JP2012227318A (ja) 2011-04-19 2011-04-19 基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、基板処理装置及びインプリントシステム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012227318A true JP2012227318A (ja) 2012-11-15
JP2012227318A5 JP2012227318A5 (enExample) 2013-07-18

Family

ID=47277153

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011092765A Pending JP2012227318A (ja) 2011-04-19 2011-04-19 基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、基板処理装置及びインプリントシステム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2012227318A (enExample)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014069552A1 (ja) * 2012-11-02 2014-05-08 富士フイルム株式会社 インプリント用密着膜の製造方法およびパターン形成方法
JP2015062259A (ja) * 2012-11-26 2015-04-02 東京エレクトロン株式会社 基板洗浄システム
JP2015073977A (ja) * 2013-10-11 2015-04-20 平田機工株式会社 処理システム
JP2016058735A (ja) * 2014-09-08 2016-04-21 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法
US9799538B2 (en) 2012-11-26 2017-10-24 Tokyo Electron Limited Substrate cleaning system
WO2019049551A1 (ja) * 2017-09-05 2019-03-14 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置および基板処理方法
JPWO2021187056A1 (enExample) * 2020-03-17 2021-09-23

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007069462A (ja) * 2005-09-07 2007-03-22 Tdk Corp マスク形成方法および情報記録媒体製造方法
JP2007522531A (ja) * 2004-02-13 2007-08-09 マイクロケム コーポレイション 永久レジスト組成物、その硬化生成物、及びその使用
JP2009073958A (ja) * 2007-09-21 2009-04-09 Fujifilm Corp ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物、それを用いた硬化物作成方法、および、硬化物
JP2011056747A (ja) * 2009-09-09 2011-03-24 Tokyo Electron Ltd テンプレート処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒、テンプレート処理装置及びインプリントシステム

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007522531A (ja) * 2004-02-13 2007-08-09 マイクロケム コーポレイション 永久レジスト組成物、その硬化生成物、及びその使用
JP2007069462A (ja) * 2005-09-07 2007-03-22 Tdk Corp マスク形成方法および情報記録媒体製造方法
JP2009073958A (ja) * 2007-09-21 2009-04-09 Fujifilm Corp ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物、それを用いた硬化物作成方法、および、硬化物
JP2011056747A (ja) * 2009-09-09 2011-03-24 Tokyo Electron Ltd テンプレート処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒、テンプレート処理装置及びインプリントシステム

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014069552A1 (ja) * 2012-11-02 2014-05-08 富士フイルム株式会社 インプリント用密着膜の製造方法およびパターン形成方法
JP2015062259A (ja) * 2012-11-26 2015-04-02 東京エレクトロン株式会社 基板洗浄システム
US9799538B2 (en) 2012-11-26 2017-10-24 Tokyo Electron Limited Substrate cleaning system
JP2015073977A (ja) * 2013-10-11 2015-04-20 平田機工株式会社 処理システム
JP2016058735A (ja) * 2014-09-08 2016-04-21 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法
JP2020047944A (ja) * 2014-09-08 2020-03-26 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法
WO2019049551A1 (ja) * 2017-09-05 2019-03-14 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置および基板処理方法
JP2019047040A (ja) * 2017-09-05 2019-03-22 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置および基板処理方法
JP7009122B2 (ja) 2017-09-05 2022-01-25 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置および基板処理方法
JPWO2021187056A1 (enExample) * 2020-03-17 2021-09-23
JP7100937B2 (ja) 2020-03-17 2022-07-14 株式会社トクヤマデンタル 有床義歯の製造方法、光造形用硬化性組成物、及び有床義歯製造用キット

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5060517B2 (ja) インプリントシステム
JP5443070B2 (ja) インプリントシステム
JP2012227318A (ja) 基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、基板処理装置及びインプリントシステム
WO2011145611A1 (ja) インプリントシステム、インプリント方法及びコンピュータ記憶媒体
WO2011114926A1 (ja) テンプレート処理方法、コンピュータ記憶媒体及びテンプレート処理装置
JP5411201B2 (ja) インプリントシステム、インプリント方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
JP2011104910A (ja) テンプレート処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、テンプレート処理装置及びインプリントシステム
JP5611112B2 (ja) インプリントシステム、インプリント方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
JP5285515B2 (ja) テンプレート処理装置、インプリントシステム、離型剤処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
JP5416163B2 (ja) 成膜方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び成膜装置
JP5231366B2 (ja) テンプレート処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒、テンプレート処理装置及びインプリントシステム
JP5638017B2 (ja) 基板の表面改質方法、コンピュータ記憶媒体及び基板の表面改質装置
JP5285514B2 (ja) テンプレート処理装置、インプリントシステム、離型剤処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
JP2011025220A (ja) テンプレート処理装置、インプリントシステム、テンプレート処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
JP5355615B2 (ja) 基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、基板処理装置及びインプリントシステム
JP5282077B2 (ja) 基板の表面改質方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び基板の表面改質装置
JP5108834B2 (ja) テンプレート処理装置、インプリントシステム、離型剤処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
JP5145397B2 (ja) テンプレート処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及びテンプレート処理装置
JP5487064B2 (ja) テンプレート処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、テンプレート処理装置及びインプリントシステム
WO2011040466A1 (ja) テンプレート処理装置、インプリントシステム、テンプレート処理方法、及びコンピュータ記憶媒体

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130605

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130605

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140228

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140311

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20140701