JP2012213721A - ガス処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ダクト1を構成する隔壁の外周面にヒータ19を設ける。ダクト1を流れる処理対象ガスGSの出口側に湿度検出センサ20を設ける。制御部18は、運転開始の指示を受けると、湿度検出センサ20からのダクト1内の湿度の検出値hpvと閾値hstとを比較し、hpv>hstであった場合、hpv≦hstとなるまで、ヒータ19をONとし、ダクト1内の湿度を低下させる。
【選択図】 図1
Description
(1)多数のハニカム構造体4を有するが、ばらつきなく均一なプラズマを発生させる技術が確立されておらず、ハニカム構造体4の性能にばらつきが出てしまう。例えば、同じハニカム構造体4同士でもインピータンス値が異なることがあり、また1つのハニカム構造体4内でも例えばその上下でインピーダンス値が異なるというようなこともあり、全体として均一なプラズマが発生せず、ガス処理能力が不安定となる。また、貫通孔4aだけでのプラズマ発生なので、プラズマの発生量が少なく、ガス処理能力が低い。
(2)ハニカム構造体4は吸湿すると低インピーダンスに、乾燥すると高インピーダンスになる特性を持っており、ハニカム構造体4が低インピーダンスになると、流れる電流が増大し放電電極2とグランド電極3との間に印加される高電圧値が低下し、ハニカム構造体4が高インピーダンスになると、流れる電流が減少し放電電極2とグランド電極3との間に印加される高電圧値が上昇する。このような高電圧値の変化に対し、所望のプラズマの発生量を確保し得る高電圧値を得ることのできる高電圧電源5は、その設計に要する工数も含めて非常に高価となる。
(3)ハニカム構造体4のそれぞれに対して放電電極2とグランド電極3を設けているため、部品点数が多く、構造も複雑となり、高価となる。
図1はこの発明に係るガス処理装置の一実施の形態(実施の形態1)の要部を示す図である。同図において、図9と同一符号は図9を参照して説明した構成要素と同一或いは同等構成要素を示し、その説明は省略する。
制御部18は、ガス処理装置の運転中、ガス処理ユニットGU1の高電圧源15−1が電極9,10間に印加している現在の電圧V1の値および電極9,10間に供給している現在の電流I1を検出し(ステップS101)、この電圧V1,電流I1の値からガス処理ユニットGU1の現在の消費電力PW1を求める(ステップS102)。
制御部18は、運転開始の指示を受けると(ステップS201のYES)、湿度検出センサ20からのダクト1内の湿度の検出値hpvを取り込み、その湿度の検出値hpvと予め定められている閾値hstとを比較する(ステップS202)。
実施の形態1では、湿度検出センサ20を設け、ガス処理装置の運転開始時、湿度検出センサ20からの湿度の検出値hpvが閾値hst以下となるまでヒータ19をONとするようにした。これに対し、実施の形態2では、湿度検出センサ20は設けずに、ガス処理装置の運転開始時、所定時間経過するまで、ヒータ19をONとする。
図5に実施の形態3のガス処理装置の要部を示す。このガス処理装置では、図1に示した実施の形態1のガス処理装置の構成に加え、ガス処理ユニットGU1の高電圧源15−1に対して異常放電検知部21−1を、ガス処理ユニットGU2の高電圧源15−2に対して異常放電検知部21−2を設け、異常放電検知部21−1および異常放電検知部21−2からの異常放電の検知結果を検知信号S11およびS12として制御部18へ送るようにしている。
ガス処理装置の運転中、ガス処理ユニットGU1で異常放電が発生すると、異常放電検知部19−1が異常放電の発生を示す検知信号S11を制御部18へ送る。また、ガス処理ユニットGU2で異常放電が発生すると、異常放電検知部19−2が異常放電の発生を示す検知信号S12を制御部18へ送る(ステップS404)。
C8H18+8H2O+4(O2+4N2)→8CO2+17H2+16N2・・・・(1)
Claims (5)
- 通風路に間隔を設けて配置され、前記通風路を流れる処理対象ガスが通過する多数の貫通孔を有する複数のハニカム構造体と、
前記複数のハニカム構造体のうち隣り合う複数のハニカム構造体を1群のハニカム構造体群とし、このハニカム構造体群の両端に位置するハニカム構造体の両端に位置するハニカム構造体の外側に配置された第1および第2の電極と、
前記第1の電極と前記第2の電極との間に高電圧を印加し前記ハニカム構造体の貫通孔および前記ハニカム構造体間の空間にプラズマを発生させる高電圧源とを備えたガス処理ユニットを前記通風路の入口から出口への処理対象ガスの通過方向に沿って1以上備えたガス処理装置において、
最上流に位置する前記ガス処理ユニットの上流側から水分を供給する水分供給手段と、
前記ガス処理ユニットが設置されている空間の湿度を下げる湿度低下手段と、
前記水分供給手段が供給する水分の供給量を制御する一方、前記湿度低下手段の作動を制御する制御手段とを備え、
前記制御手段は、
運転開始の指示を受けた場合、所定の条件が成立するまで前記湿度低下手段を作動させて前記ガス処理ユニットが設置されている空間の湿度を下げた後、前記ガス処理ユニットの高電圧源をオンとする
ことを特徴とするガス処理装置。 - 請求項1に記載されたガス処理装置において、
前記湿度低下手段は、
前記処理対象ガスの通風路を構成する隔壁の外周面に装着されたヒータである
ことを特徴とするガス処理装置。 - 請求項1に記載されたガス処理装置において、
前記ガス処理ユニットが設置されている空間の湿度を検出する湿度検出手段を備え、
前記制御手段は、
運転開始の指示を受けた場合、前記湿度検出手段が検出する湿度が所定値以下となるまで前記湿度低下手段を作動させた後、前記ガス処理ユニットの高電圧源をオンとする
ことを特徴とするガス処理装置。 - 請求項1に記載されたガス処理装置において、
前記制御手段は、
運転開始の指示を受けた場合、所定時間が経過するまで前記湿度低下手段を作動させた後、前記ガス処理ユニットの高電圧源をオンとする
ことを特徴とするガス処理装置。 - 請求項1に記載されたガス処理装置において、
前記ガス処理ユニットに異常放電が発生したことを検知する異常放電検知手段を備え、
前記制御手段は、
前記異常放電検知手段によって異常放電の発生が検知された場合、異常放電の発生が検知されなくなるまで前記湿度低下手段を作動させる
ことを特徴とするガス処理装置。
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