JP6671118B2 - ガス処理装置 - Google Patents
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Description
実施の形態1.
この発明の実施の形態1に係るガス処理装置1は、図1に示すように、通風路Aに配置された、スクラバーユニット(水処理部)2、ミキシング部(混合部)3およびプラズマ処理部4と、ミキシング部3に供給する処理対象ガスの流量、およびプラズマ処理部4で処理されたガスを循環させる流量を制御する制御部5を備えて構成される。
図2に示すように、スクラバーユニット2の槽8の内部は、仕切り板9によって下部が連通した状態の2つの空間に仕切られている。一方の空間には、槽8の内壁と仕切り板9により充填材10が支持され、充填材10の上方に、充填材10に向けて水を霧状に散布する散布部11が設けられている。また、散布部11の上方の位置の槽8には、充填材10を通過した相対湿度100%の処理対象ガスCを通風路Aに排気する排気口13が設けられている。また、充填材10が支持されている空間とは他方の空間を形成する槽8には、通風路Aに接続され、処理対象ガスBを吸気する吸気口12が設けられている。また、充填材10は、繊維状に加工されたポリエステル、ポリプロピレンなどの樹脂により構成され、繊維状の樹脂間には空隙が形成されている。
図3に示すように、混合処理対象ガスDが通過するハニカム構造体20、ハニカム構造体20の上流側に配置される第1の電極21、ハニカム構造体20の下流側に配置される第2の電極22、および第1の電極21と第2の電極22の間に高電圧を印加する高電圧電源23を有する。
制御部5は、供給流量算出部24、供給流量制御部25、フィードバック流量算出部26およびフィードバック流量制御部27で構成される。制御部5には、通風路AまたはダクトA´を流れる処理対象ガスBの相対湿度を計測する第1の相対湿度センサ28が接続される。
また、温度が同一である処理対象ガスBと相対湿度100%の処理対象ガスCとを混合するように構成したので、混合処理対象ガスDにおける温度変化による相対湿度の変化を抑制することができる。
2 スクラバーユニット
3 ミキシング部
4 プラズマ処理部
5 制御部
6 第1の給気弁
7 第2の給気弁
8 槽
9 仕切り板
10 充填材
11 散布部
12 吸気口
13 排気口
14 水槽
15 ポンプ
16 排水ホース
17 排水弁
18 給水ホース
19 給水口
20 ハニカム構造体
20a 貫通孔
21 第1の電極
22 第2の電極
23 高電圧電源
24 供給流量算出部
25 供給流量制御部
26 フィードバック流量算出部
27 フィードバック流量制御部
28 第1の相対湿度センサ
29 第2の相対湿度センサ
30 においセンサ
Claims (2)
- 通風路に配置され、前記通風路を流れる処理対象ガスに加湿を行う水処理部と、
前記水処理部より前記通風路の下流側に設けられ、前記水処理部によって加湿された処理対象ガスに、前記水処理部によって加湿を行う前の処理対象ガスを混合して湿度調整を行う混合部と、
前記混合部より前記通風路の下流側に設けられ、前記混合部において湿度調整が行われた混合処理対象ガスが通過する多数の貫通孔を有するハニカム構造体、および前記混合処理対象ガスが通過する方向に対して前記ハニカム構造体の上流側と下流側にそれぞれ配置される電極を有し、前記ハニカム構造体の前記貫通孔にプラズマを発生させるプラズマ処理部と、
前記水処理部によって加湿を行う前の処理対象ガスの相対湿度を計測する第1の湿度計測部と、
前記混合部において湿度調整が行われた前記混合処理対象ガスの相対湿度を計測する第2の湿度計測部と、
前記第1の湿度計測部の計測結果、または前記第1の湿度計測部の計測結果および前記第2の湿度計測部の計測結果に基づいて、前記混合部に供給する前記処理対象ガスの供給流量を算出し、前記処理対象ガスを算出した供給流量で前記混合部に供給する制御を行う制御部とを備え、
前記制御部は、前記第2の湿度計測部の計測結果が設定されている相対湿度から所定範囲以上ずれている場合に、前記第1の湿度計測部の計測結果および前記第2の湿度計測部の計測結果に基づいて、前記供給流量を算出するガス処理装置。 - 前記プラズマ処理部を通過した処理済みガスの成分を検出するセンサを備え、
前記制御部は、前記センサの検出結果に基づいて、前記処理済みガスを前記水処理部の上流側の通風路に前記処理対象ガスとして循環させる循環流量を算出し、算出した循環流量で前記処理済みガスの循環を制御することを特徴とする請求項1記載のガス処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015147729A JP6671118B2 (ja) | 2015-07-27 | 2015-07-27 | ガス処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2015147729A JP6671118B2 (ja) | 2015-07-27 | 2015-07-27 | ガス処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017023974A JP2017023974A (ja) | 2017-02-02 |
JP6671118B2 true JP6671118B2 (ja) | 2020-03-25 |
Family
ID=57945370
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015147729A Active JP6671118B2 (ja) | 2015-07-27 | 2015-07-27 | ガス処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6671118B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102359322B1 (ko) * | 2021-06-14 | 2022-02-08 | 세마엔지니어링(주) | 가습된 오염가스와 저온 플라스마를 이용한 대용량 휘발성 유기화합물 및 악취물질 처리시스템 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6774346B2 (ja) * | 2017-01-26 | 2020-10-21 | アズビル株式会社 | ガス処理装置 |
JP6774345B2 (ja) * | 2017-01-26 | 2020-10-21 | アズビル株式会社 | ガス処理装置 |
JP6757267B2 (ja) * | 2017-01-26 | 2020-09-16 | アズビル株式会社 | ガス処理装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0674451B2 (ja) * | 1983-04-27 | 1994-09-21 | 大同ほくさん株式会社 | ガス調湿法 |
JP2001239239A (ja) * | 2000-03-01 | 2001-09-04 | Takuma Co Ltd | 脱臭装置、生ゴミ処理機および脱臭方法 |
JP2002018231A (ja) * | 2000-07-05 | 2002-01-22 | Daikin Ind Ltd | 気体処理方法及び気体処理装置 |
JP4618936B2 (ja) * | 2001-06-15 | 2011-01-26 | 三機工業株式会社 | ガス供給装置及び検査システム |
KR20100073304A (ko) * | 2008-12-23 | 2010-07-01 | 삼성전자주식회사 | 대기정화장치 및 그의 대기정화방법 |
JP5723195B2 (ja) * | 2011-03-31 | 2015-05-27 | アズビル株式会社 | ガス処理装置 |
-
2015
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102359322B1 (ko) * | 2021-06-14 | 2022-02-08 | 세마엔지니어링(주) | 가습된 오염가스와 저온 플라스마를 이용한 대용량 휘발성 유기화합물 및 악취물질 처리시스템 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017023974A (ja) | 2017-02-02 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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