JP2012190821A - 基板処理装置および群管理装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】蓄積されたトレースログファイルを適切に管理することで、ハードディスクの容量制限機能を維持したまま容易にそのファイルの参照や比較が可能となる機能を提供する。
【解決手段】基板を処理する際に生成される種々のデータを記憶手段に蓄積する基板処理装置は、長期保存指定可能なファイルの最大数を指定するレコードを少なくとも含む制御情報ファイルと、長期保存する対象のファイル、前記ファイルの最大保存期間及び前記ファイルを検索する速度を向上させる為に作成されるインデックス部とで少なくとも構成されるファイル管理テーブルとを少なくとも有する記憶手段を備える。
【選択図】図1

Description

本発明は、基板処理装置および少なくとも一つの基板処理装置と該基板処理装置を管理する郡管理装置において、記憶部に蓄積されるトレースログデータの適切な管理に関するものである。
基板処理装置の一種である半導体製造装置およびこの半導体製造装置と群管理装置で構成される基板処理システムの群管理装置は、種々のファイルが格納される記憶部を有する。従来、半導体製造装置およびこの半導体製造装置を管理する郡管理装置は、稼働状況を確認するために、装置稼動時に発生したデータ値を保持するロギング情報ファイル(以下、トレースログファイル)が自動で生成され、記憶部の一つの例であるハードディスクの特定のエリアに保存される。更に、24時間連続運転による信頼性確保等のため、半導体製造装置のハードディスク容量は、一般的なコンピュータシステムに比べてかなり制限されている。ここで、とても短い周期でデータを収集し、且つデータ項目数が多いためトレースログファイルは、個々のファイルサイズが大きくまってしまう。このため、トレースログを大量に長期間保存するのはかなり困難である。
このような理由から、図7のように、半導体製造装置では従来からトレースログファイルが占有するディスク容量を監視し、一定量に達したら自動で削除する仕組みを取り入れている。しかしながら、従来方式では、日付の最も古いものから無条件に削除する方式だったため、長期間保存を要するファイルでも削除対象となってしまっていた。これまでにも、上記のようにディスク容量を監視する技術に関連する特許はあった。特許文献1には、レシピファイルを作成日ではなく編集日により管理することが記載されている。また、特許文献2には、DBの容量(ディスク容量)に応じてデータ更新日を管理し、所定のDB容量に達したらバックアップデータを削除することが記載されている。但し、これら特許文献1や特許文献2も、結局、削除するタイミングが異なるだけで、従来と同様に最も古いデータ順に削除する方式であった。
また、トレースログファイルの管理も自動生成/削除しやすいように蓄積開始日と一部の情報(サブストレートID等)のみで行われていた。その結果、その他の情報(ロットID、キャリア名、各JOB名、レシピ名称等)は、図2に示すように、個別にファイル内に格納していたため、特定のトレースログファイルを検索することが困難になっていた。
特開2010−040837号公報 特開2010−040796号公報
そこで、本発明の目的は、蓄積されたトレースログファイルを適切に管理することで、ハードディスクの容量制限機能を維持したまま容易にそのファイルの参照や比較が可能となる機能を提供することである。
本発明の特徴は、基板を処理する際に生成される種々のデータを記憶手段に蓄積する基板処理装置または群管理装置であって、前記記憶手段は、長期保存指定可能なファイルの最大数を指定するレコードを少なくとも含む制御情報ファイルと、長期保存する対象のファイル、前記ファイルの最大保存期間及び前記ファイルを検索する速度を向上させる為に作成されるインデックス部とで少なくとも構成されるファイル管理テーブルとを少なくとも有する基板処理装置または群管理装置にある。
本発明によれば、以下のような効果のうち少なくとも1つ以上の効果を奏する。
(1)本発明によれば、所望のトレースログデータをハードディスクの容量を抑えながら不必要な削除を防ぐことができ、長期間保存することが可能となる。
(2)本発明によれば、トレースログデータを簡単に検索することが可能となる。例えば、トレースログデータに所望の名称を設定することにより、検索効率を向上することが可能となる。
(3)本発明によれば、例えば、実行中のレシピデータのリアルタイム比較ができる。それにより、トレースログデータの比較が簡単に実現可能となる。
本発明の一実施の形態に係る基板処理システムの一例を示す構成図である。 トレースログファイル構造。 本発明の一実施の形態に係る基板処理装置の記憶部(ハードディスク)内の構造を例示する図である。 本発明の一実施の形態に係る基板処理装置の記憶部(ハードディスク)内に設けられたトレースログファイル管理テーブル構造を例示する図である。 本発明の一実施の形態に係る基板処理装置の記憶部(ハードディスク)内に設けられた制御情報ファイル構造を例示する図である。 本発明の一実施の形態に係る基板処理装置内に蓄積されたトレースログファイルの管理処理手順を例示する図である。 従来のトレースログファイル管理方式を示す図である。 本発明の一実施例に係る基板処理装置の構成を示す図である。 本発明の一実施例に係る基板処理装置における運用例を示す図である。 本発明の一実施例に係る基板処理装置のコントローラ構成を示す図である。
まず、図1を用いて、本発明の一実施形態に係る基板処理システムの構成及び動作について説明する。
図1に示すとおり、基板処理システム1は、基板に処理を行う少なくとも一台以上の基板処理装置100と、基板処理装置100に接続される群管理装置10とを備える。尚、基板処理装置100と群管理装置10との接続は、通信ケーブル等による直接接続であっても良いし、構内回線を介したネットワーク接続でも良いし、インターネットや専用線網などの広域回線を介したネットワーク接続であっても良い。また、基板処理装置100は、基板を処理するための基板処理系250と、基板処理系250に接続された基板処理用コントローラ240と、基板処理用コントローラ240に接続された操作部241を備え、群管理装置10は、ネットワーク等を介して基板処理装置100に接続される郡管理コントローラ20と、郡管理コントローラ20に接続され、ユーザ(作業者)が郡管理装置10を操作する際に用いる入出力装置を担う操作端末22とを備える。基板処理システム1は、このような構成において、基板処理装置100は、群管理装置10に稼動状態や障害を含む各種情報を送信している。また、送信する情報(データ)は、基板処理装置100で生成される情報を全て送信しても良いし、予め設定された所定の情報のみを送信するようにしても良い。一方、郡管理装置10は、送信された情報を格納すると共に、基板処理装置100の稼動状態や発生した障害を含む情報を操作画面に表示するように構成されている。また、前記情報に基づいて接続される前記基板処理装置100の稼動率を算出するようにしてもよい。従って、オペレータは、群管理装置10の操作画面上に表示される情報から、基板処理装置100の稼動状態を把握できる。又、障害が発生した場合は解析を行うことができる。
次に、図8を参照して本発明に係る基板処理装置を説明する。
基板処理装置は、本実施の形態においては、半導体装置の製造方法における処理工程を実施する半導体製造装置として構成されている。
なお、以下の説明では、基板処理装置として基板に所定の処理を施すVFM装置に適用した場合について説明する。
本発明の一実施例の半導体製造装置であるVFM装置は、基板に所定の処理を施す処理室としてのプロセスモジュールPMと、基板が搬送される搬送室としてのフロントエンドモジュールEFEMと、基板が収納された基板収容器を装置外部の搬送装置と受渡しする基板載置台としてのロードポートLPとで少なくとも構成される。プロセスモジュールPMは、少なくとも1つ設けられる。本実施の形態において、図1では、3つ設けられているが一例であって図の構成に限定されない。
プロセスモジュールPMは、CVD、ALD等による成膜、アッシング、エッチング及び膜質改善などのような処理をウェハ200に実施する。また、プロセスモジュールPMは、ガス導入機構、ガス排気機構、及び温度制御機構、プラズマ放電機構など処理方式に合わせ、種々の機構が備えられる。フロントエンドモジュールEFEMは、冷却機構としてのクーリングステージCSを備える。ここで、図1では、プロセスモジュールPMの数分のクーリングステージCSが設けられている。また、フロントエンドモジュールEFEMは、ウェハ200を搬送する搬送手段が備えられている。また、搬送手段は、基板保持機構としてのブレードを1つ備え、このブレードには、ウェハ200を保持する基板保持部としてのアームが上下に2つ設けられている。そして、各プロセスモジュールに対してウェハ200を搬入出可能に構成されている。尚、フロントエンドモジュールEFEM内は、大気圧でウェハ搬送が行われる。容器載置台としてのロードポートLPは、基板収容器としてのキャリアが外部装置よりいつ送られてきてもよいように、複数の載置台が設けられている。尚、ロードポートLPも同様にプロセスモジュールPMと同じ数だけ備えられる。
図9を用いて、本願の実施の形態における運用方式について説明する。ここでは、振分方式について説明する。
ロードポートLP1に載置されたキャリアとしてのFOUP(以下、Podと称す)からウェハ200(Wafer#1)が取り出され、プロセスモジュールPM1に搬送される。そして、プロセスレシピが実行される。ここで、プロセスレシピは、ウェハ200をマイクロ波で熱処理する処理ステップと、前記処理されたウェハ200を冷却する冷却ステップとで少なくとも構成される。尚、処理ステップでは、RF電源を使って周波数を変えながら、ウェハ200上の膜の組成を変える(膜質改善)処理が行われ、その際に結果としてウェハ200の温度が上昇する。よって、冷却ステップでは、N2ガスを流しながらウェハ200の温度を下げる。そして、搬送ロボットのアームが耐え得る温度まで強制的に冷却される。
図10は、本発明に於けるコントローラ構成を示す図である。本発明に於ける装置コントローラとしてのコントローラシステム700は、操作部701と、メインコントローラとしての統括制御部702と、第二搬送装置としての大気ロボットコントローラ704と、第一搬送装置としての外側移載装置(真空ロボット)30を制御する真空ロボットコントローラ705とを制御する搬送制御部としてのメカコントローラ706がそれぞれLAN等の通信回線を介して接続されている。
コントローラシステム700の構成について詳述する。操作部701は、モニタ表示、ロギングデータやアラームなどの解析、及びパラメータ編集などを行うための操作画面を表示する図示しない表示部と、該表示部等を介して入力された指示データや各種レシピや各種パラメータをファイルとして格納する図示しない記憶部と、システム制御コマンドなどのコマンドや各種レシピ作成時における各種パラメータの設定値を入力する図示しない入力部とを少なくとも備えている。統括制御部702は、コントローラシステム700全体の運用制御を行う。また、メカコントローラ706は、真空ロボットコントローラ705、大気ロボットコントローラ704等を制御し、真空排気系制御、搬送系制御をそれぞれ行う。サブコントローラ703は、各プロセスチャンバPCとしてのプロセス制御(温度、カ゛ス、圧力、RF等)を行う。また、サブコントローラ703は、統括制御部702の直下の通信回線であるセンサバスを介してウェハ検知センサからの信号を取り込みウェハ情報を確認しながら各ロボット(真空ロボットや大気ロボット)と連動して、搬送制御を実施する。サブコントローラ703は、前記統括制御部702の命令(指示)に対して、MFCやAPC(オートプレッシャーコントローラ)やRF発信機や温調(温度調節器)などに数値データを出力したり、反対に、数値を受信し、前記統括制御コントローラ702に送信する。また、サブコントローラ703は、命令(指示)されたバルブパターンに対してバルブインターロックを実行し、また、前記バルブパターンに対してハードインターロックを検出し適切な処理を実施する。尚、上記表示部、記憶部、入力部は、操作部701と別体であってもよいし、また、メインコントローラ701に対して別体であってもよい。尚、図示しないGEMコントローラと、該GEMコントローラを介して図示しないユーザ(顧客)側のHostコンピュータと接続され、工場内の自動化システムを実現するよう構成される。
コントローラシステム700の動作について詳述する。操作部701は、図示しない前記入力部または図示しない前記ホストコンピュータからの指示により、基板を処理する旨の指示を受け付けると、操作部701は、基板を搬送するための搬送レシピや基板を処理するためのプロセスレシピを統括制御部702にダウンロードして、該統括制御部702は、これらのレシピに基づいてサブコントローラ703やメカコントローラ706に対して制御を行う。そして、サブコントローラ703は、前記プロセスレシピに基づいて基板に所定の処理を施し、真空ロボットコントローラ705、大気ロボットコントローラ704は、搬送レシピや上記ウェハ情報に基づいて真空ロボットや大気ロボットを動作させて基板の搬送を行う。
次に、本発明の一実施形態にかかる基板処理装置100の記憶部としてのハードディスク内の構造を例示する図3について説明する。図3は、ハードディスクの全体を示すものである。図3では、実行環境用エリアと前記基板処理装置100が稼動しているときに自動的に生成されるトレースログファイルが格納されるトレースログエリアが設けられている。更に、実行環境用エリアには、基板処理装置100内で実行される各種ファイルであるプログラム実行ファイル、プログラムを実行する際に利用される制御パラメータが定義されているプログラム実行パラメータファイル、制御情報ファイル、テンポラリファイル等が格納されている。トレースログエリアには、トレースログファイルを管理する為のトレースログファイル管理テーブルと複数のトレースログファイルが格納されている。尚、図において、トレースログファイルは、日毎に複数のトレースログファイルがまとめて格納される。個々のログファイル名は、年月日時分秒とサブストレートIDで作成されている。例えば、2010年3月1日午前8時5分8秒に作成されたログファイルは、‘20100301080508.xx.log’となる。ここで、実行環境用エリアとは、基板処理システム実行に必須のファイルを保持するエリアのことであり、制御情報ファイルとは、トレースログファイルの出力方式を制御しているファイルのことであり、テンポラリファイルとは、プログラム実行中にデータの一時的保持を目的として作成するファイルのことである。
図4は、本発明の一実施形態にかかる基板処理装置100の記憶部としてのハードディスク内のトレースログエリアに格納されるトレースログファイル管理テーブルの構造を例示する図である。トレースログファイル管理テーブルを設けることにより、トレースログファイルを適切に保持および管理することができる。
図4に示すトレースログファイル管理テーブルは、レコード数(レコードの総数)を定義するレコードとトレースログ情報を定義するレコードで構成される。このレコードは、前記基板処理装置100が稼動中に自動生成されたトレースログファイルの数だけ設けられている。
トレースログ情報を定義するレコードは、トレースログファイルを長期保存するか否か定義するレコードと、トレースログファイルを保存する最大期間を定義するレコードと、トレースログファイルの名称(エイリアス名称)を定義するレコードで少なくとも構成される管理情報部と、トレースログファイルで実行されたレシピについて、少なくとも開始時刻、終了時刻、蓄積件数、ロットID、キャリアID、サブストレートID、JOB名、レシピ名で構成される詳細情報部とを有する。ここで、開始時刻とは、CJOB(Control JOB)が開始した時刻、終了時刻とは、CJOBが終了した時刻である。CJOBとは、PJOB(Process JOB)の実行順序を指定した制御情報であり、PJOBとは、ウェハとレシピを指定した制御情報である。そして、CJOB名とは、CJOBの名称であり、PJOB名とは、PJOBの名称である。また、蓄積件数とは、開始時刻と終了時刻の間で取得したトレースデータの蓄積件数であり、ロットIDとは、ロット(所定の製品単位)の名称であり、キャリアIDとは、キャリア(FOUP等)の名称であり、サブストレートIDとは、基板(ウェハ)の名称であり、レシピ名とは、レシピ(ウェハに対する制御情報)の名称である。
図5は、トレースログファイル全体を管理する制御情報ファイルの構造を例示する図である。本実施の形態において、長期保存指定できる最大数を設定する為のレコードを追加している。また、図5に示す制御情報ファイルは、上記レコードの他に個々のトレースログファイルの最大のサイズを設定するレコードと、トレースログデータをロギング(収集)する周期を設定するレコードと、収集したトレースログデータ数を設定するレコードと、収集されるトレースログデータの項目を設定するレコードとで少なくとも構成される。
本実施の形態において、トレースログファイル管理テーブルを設け、制御情報ファイルにトレースログファイル全体を長期保存指定できる最大数を設定する為のレコードを追加した。
それらにより、所望のトレースログファイルを容易に検索や参照するだけでなく、所望のトレースログファイルの長期保存が可能となりつつ、一方で、フレキシブルなトレースログファイルの削除が可能となったため、長期保存ログ肥大化によるディスク圧迫も防止される。
図6を用いて、処理手順を説明する。
トレースログデータの追加時、トレースログファイルの追加およびトレースログ管理テーブル(トレースログ管理レコード総数&レコード)の更新(追加)を行う。そして、所望のトレースログファイルを抽出時、トレースログ管理レコードより該当するものを検索し、対応するトレースログファイルを抽出する。トレースログファイル削除時(自動的な定周期)、トレースログ管理レコードより削除可能なものを検索し、対応するトレースログファイルの削除およびトレースログ管理テーブル(トレースログ管理レコード総数&レコード)の更新(削除)を行う。
なお、本発明の実施の形態では、半導体製造装置として枚葉式の基板処理装置を説明したが縦型の基板処理装置や横型の基板処理装置にも適用できる。また、基板(ウェハ)を処理する半導体製造装置だけでなく、LCD装置のようなガラス基板を処理する処理装置にも適用することができる。
このように、本発明は種々の改変が可能であり、本発明はこのように改変された発明に及ぶことは当然である。
次に、本発明の好ましい他の態様を付記するが、以下の記載に限定されないのは言うまでもない。
[実施の態様1]
基板を処理する際に生成されるデータを記憶手段にファイルとして蓄積する基板処理装置であって、
前記記憶手段は、長期保存指定可能なファイルの最大数を指定するレコードを少なくとも含む制御情報ファイルと、長期保存対象ファイル、前記ファイルの最大保存期間及びファイル検索速度を向上させる為に作成されるインデックス部とで少なくとも構成されるファイル管理テーブルとを少なくとも有する。
[実施の態様2]
前記記憶手段は、前記ファイルに応じて各エリアに保存されるように構成される。
[実施の態様3]
前記ファイルは、トレースログデータファイルである。
[実施の態様4]
前記ファイルは、周期的に前記記憶手段内を検索される。
[実施の態様5]
前記ファイルが、長期保存対象ファイルで無い場合、蓄積日時が最も古いファイルを削除され、長期保存対象ファイル且つ指定された長期保存期間内であれば、蓄積日時が最も古いファイルであっても、削除されない。
[実施の態様6]
基板を処理する際に生成されるデータを記憶手段にファイルとして蓄積する群管理装置であって、
前記記憶手段は、長期保存指定可能なファイルの最大数を指定するレコードを少なくとも含む制御情報ファイルと、長期保存対象ファイル、前記ファイルの最大保存期間及びファイル検索速度を向上させる為に作成されるインデックス部とで少なくとも構成されるファイル管理テーブルとを少なくとも有する。
[実施の態様7]
基板を処理する際に生成されるデータを記憶手段にファイルとして蓄積する基板処理装置と、前記基板処理装置を管理する群管理装置で構成される基板処理システムであって、
前記記憶手段は、長期保存指定可能なファイルの最大数を指定するレコードを少なくとも含む制御情報ファイルと、長期保存対象ファイル、前記ファイルの最大保存期間及びファイル検索速度を向上させる為に作成されるインデックス部とで少なくとも構成されるファイル管理テーブルとを少なくとも有する。
1 基板処理システム
10 基板処理装置
20 群管理装置
200 ウェハ(基板)

Claims (2)

  1. 基板を処理する際に生成されるデータをファイルで記憶手段に蓄積する基板処理装置であって、
    前記記憶手段は、長期保存指定可能なファイルの最大数を指定するレコードを少なくとも含む制御情報ファイルと、長期保存する対象のファイル、前記ファイルの最大保存期間及び前記ファイルを検索する速度を向上させる為に作成されるインデックス部とで少なくとも構成されるファイル管理テーブルとを少なくとも有することを特徴とする基板処理装置。
  2. 基板を処理する際に生成される種々のデータを記憶手段に蓄積する群管理装置であって、
    前記記憶手段は、長期保存指定可能なファイルの最大数を指定するレコードを少なくとも含む制御情報ファイルと、長期保存する対象のファイル、前記ファイルの最大保存期間及び前記ファイルを検索速度を向上させる為に作成されるインデックス部とで少なくとも構成されるファイル管理テーブルとを少なくとも有することを特徴とする群管理装置。


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