JP2012189796A - 液晶パネル製造装置及び液晶パネルの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】被処理パネルに光を照射する実用的な液晶パネル製造装置及び液晶パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、処理槽と、光照射部と、液体除去部と、を備えた液晶パネル製造装置が提供される。前記処理槽は、内部に液体を溜め、光重合性材料と液晶組成物とを含む液晶層を含む被処理パネルを前記液体中に収容する。前記光照射部は、前記処理槽の前記内部に収容された前記被処理パネルに、前記光重合性材料が重合する光を照射する。前記液体除去部は、前記被処理パネルのうちで少なくとも前記液体から取り出された部分に付着した前記液体を除去する。
【選択図】図１

Description

本発明の実施形態は、液晶パネル製造装置及び液晶パネルの製造方法に関する。

光重合性材料と液晶とが混合されている液晶層を用いる液晶パネルがある。例えば、高分子分散型液晶においては、高分子のマトリクス中に液晶粒が分散される。さらに、配向性を付与するために、このような液晶層を用いる構成もある。さらに、例えばネマティック液晶とカイラル剤とを混合した液晶と、光重合性材料と、を混合した層に紫外線を照射することで、高分子安定化ブルー相を得ることもできる。

このような液晶パネルの製造において、光重合性材料の硬化のための光を照射するときの温度を制御するために、被処理パネルを液体中に入れ、その状態で光を照射する構成がある。例えば、光の照射後に被処理パネルを液体から取り出したときに被処理パネルに液体が付着していると、後の工程に悪影響を与えることがあり、実用的に問題となる。

特開２００９−２５１３３８号公報

本発明の実施形態は、被処理パネルに光を照射する実用的な液晶パネル製造装置及び液晶パネルの製造方法を提供する。

本発明の実施形態によれば、処理槽と、光照射部と、液体除去部と、を備えた液晶パネル製造装置が提供される。前記処理槽は、内部に液体を溜め、光重合性材料と液晶組成物とを含む液晶層を含む被処理パネルを前記液体中に収容する。前記光照射部は、前記処理槽の前記内部に収容された前記被処理パネルに、前記光重合性材料が重合する光を照射する。前記液体除去部は、前記被処理パネルのうちで少なくとも前記液体から取り出された部分に付着した前記液体を除去する。

実施形態によれば、被処理パネルに光を照射する実用的な液晶パネル製造装置及び液晶パネルの製造方法が得られる。

実施形態に係る液晶パネル製造装置の構成を例示する模式的平面図である。 実施形態に係る液晶パネル製造装置の構成を例示する模式的断面図である。 実施形態に係る液晶パネル製造装置の構成を例示する模式図である。 図４（ａ）〜図４（ｃ）は、実施形態に係る液晶パネル製造装置の一部の構成を例示する模式図である。 実施形態に係る別の液晶パネル製造装置の構成を例示する模式的平面図である。 実施形態に係る別の液晶パネル製造装置の構成を例示する模式的断面図である。 実施形態に係る別の液晶パネル製造装置の構成を例示する模式図である。 実施形態に係る液晶パネル製造装置の一部の構成を例示する模式的断面図である。 実施形態に係る別の液晶パネル製造装置の構成を例示する模式的断面図である。

以下に、各実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
なお、本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。

（実施の形態）
図１は、実施形態に係る液晶パネル製造装置の構成を例示する模式的平面図である。
図２は、実施形態に係る液晶パネル製造装置の構成を例示する模式的断面図である。
すなわち、図２は、図１のＡ１−Ａ２線断面を例示している。

図３は、実施形態に係る液晶パネル製造装置の構成を例示する模式図である。
すなわち、図３においては、構成要素の一部の断面（図１のＢ１−Ｂ２線断面）が図示され、他の一部が模式的に図示されている。
なお、図１においては、図２及び図３に例示された要素の一部が省略されている。

図１〜図３に表したように、実施形態に係る液晶パネル製造装置１１０は、処理槽１０と、光照射部３０と、液体除去部６０と、を備える。

処理槽１０は、処理槽１０の内部に液体５０を溜める。処理槽１０は、被処理パネル４０を液体５０中に収容する。

光照射部３０は、処理槽１０の内部に収容された被処理パネル４０に、光重合性材料が重合する光３０Ｌを照射する。

液体除去部６０は、被処理パネル４０のうちで少なくとも液体５０から取り出された部分に付着した液体５０を除去する。液体除去部６０は、被処理パネル４０が液体５０から取り出された後に被処理パネル４０に付着した液体５０を除去する。または、液体除去部６０は、液体５０から取り出されつつある被処理パネル４０において、液体５０から取り出された部分に付着している液体５０を除去する。例えば、被処理パネル４０の一部が液体５０中に入っており、他の一部が液体５０から取り出されているときに、その他の一部に付着した液体５０を除去する。

処理槽１０は、容器１１を含む。容器１１は、容器１１の内部に液体５０を溜める。容器１１は、液体５０中に被処理パネル４０を収容する。

例えば、処理槽１０は、被処理パネル４０を保持するパネル保持部１５を含む。パネル保持部１５は、例えば、ベース部１５ａと、軸部１５ｂと、アーム部１５ｃと、載置部１５ｄと、を含む。ベース部１５ａは、容器１１の底部に固定される。軸部１５ｂは、ベース部１５ａに固定される。アーム部１５ｃは、載置部１５ｄと軸部１５ｂとを結合する。例えば、アーム部１５ｃの長さは可変である。載置部１５ｄの上に被処理パネル４０が載せられる。被処理パネル４０の上面及び下面には空間がある。その空間に、液体５０が充填される。

被処理パネル４０は、液晶層４３を含む。液晶層４３は、光重合性材料と液晶組成物とを含む。液晶組成物は、例えばネマティック液晶とカイラル剤とを含む。光重合性材料は、例えば紫外線硬化型のモノマーを含む。光重合性材料は、例えばアクリル系のモノマーを含む。実施形態は、これに限らず、任意の光重合性材料を用いることができ、任意の液晶組成物を用いることができる。

被処理パネル４０は、例えば、第１基板４１と、第２基板４２と、をさらに含む。第２基板４２は、第１基板４１に対向する。第１基板４１と第２基板４２との間に液晶層４３が配置される。第１基板４１と第２基板４２との間において、液晶層４３の周囲にシール剤（図示しない）が設けられる。これにより、液晶層４３は、第１基板４１、第２基板４２及びシール剤により密閉されている。

被処理パネル４０は、第１主面４０ａ（主面）と、第２主面４０ｂと、を有する、第１主面４０ａは、光照射部３０の側の面である。第２主面４０ｂは、第１主面４０ａとは反対の側の面である。

図１及び図３に表したように、液晶パネル製造装置１１０は、液体流動部２０をさらに備えることができる。液体流動部２０は必要に応じて設けられる。

液体流動部２０は、被処理パネル４０の第１主面４０ａに沿って液体５０を流動させる。さらに、液体流動部２０は、被処理パネル４０の第２主面４０ｂ（被処理パネル４０の光照射部３０とは反対の側の面）に接する液体５０をさらに流動させることができる。

このように、被処理パネル４０の主面に沿って液体５０が流れることで、被処理パネル４０の温度の均一性が高まる。実施形態においては、被処理パネル４０の主面に沿って液体５０が流れることで、被処理パネル４０の温度の均一性が高い。これにより、被処理パネル４０の温度の均一性が高い状態で、被処理パネル４０に光が照射される。そして、光重合性材料が重合し、液晶パネルが作製される。

図１〜図３に表したように、液晶パネル製造装置１１０においては、光照射部３０から、処理槽１０の被処理パネル４０の収容の位置に向かう軸（光照射部３０から、処理槽１０の被処理パネル４０の収容の位置のうちで光照射部３０に最も近い部分に向かう方向の軸）は、重力の方向（Ｚ方向）に対して、実質的に平行である。例えば、被処理パネル４０の主面は、Ｚ方向に対して実質的に垂直である。

図３に表したように、液体流動部２０は、例えば、液体５０の温度を制御する温度制御部２３を含むことができる。液体流動部２０は、例えば、供給部２１と、供給配管２１ｐと、排出部２２と、排出配管２２ｐと、をさらに含むことができる。

供給部２１は、液体５０を処理槽１０内に供給する。排出部２２は、処理槽１０内から液体５０を排出する。供給配管２１ｐは、温度制御部２３と供給部２１とを連結する。排出配管２２ｐは、排出部２２と温度制御部２３とを連結する。

供給部２１から処理槽１０の内部に供給された液体５０は、被処理パネル４０の第１主面４０ａに沿って流れ、排出部２２から排出される。また、液体５０は、被処理パネル４０の第２主面４０ｂに沿って流れ、排出部２２から排出される。排出部２２により排出された液体５０は、温度制御部２３に到達する。

温度制御部２３は、液体５０の温度を制御する。温度制御部２３は、液体５０を加熱する。または、温度制御部２３は、液体５０を冷却する。これにより、液体５０の温度は所望の温度に制御される。温度制御部２３を出た液体５０は、供給配管２１ｐを経由して供給部２１に到達する。そして、液体５０は、供給部２１から処理槽１０に再度供給される。このように、液体５０は、処理槽１０の外部に設けられる温度制御部２３を経由しながら循環される。

ただし、上記は、一例であり、実施形態において液体流動部２０の構成は任意である。例えば、液体５０は、処理槽１０の内部だけで流動しても良い。

液体５０は、例えば水である。実施形態はこれに限らず液体５０には、技術的に可能な任意の材料を用いることができる。液体５０の温度は制御される。例えば液体５０の温度は、２５℃以上９０℃以下である。

図１に表したように、供給部２１は、複数の開口部２１ｏを有することができる。また、排出部２２は、複数の開口部２２ｏを有することができる。複数の開口部２１ｏから液体５０を供給し、複数の開口部２２ｏから液体５０を排出することで、液体５０の流れがより均一化される。

処理槽１０内において、供給部２１と排出部２２との間に被処理パネル４０が配置される。均一な流れの液体５０に被処理パネル４０が接することで、被処理パネル４０の温度の面内の均一性がさらに高まる。

これにより、被処理パネル４０の温度の均一性が高い状態で、被処理パネル４０に光が照射される。

被処理パネル４０の主面に沿った液体５０の流れの速度は、例えば１ｍ／ｓ（メートル／秒）以上、１０ｍ／ｓ以下である。流れの速度が高いと、被処理パネル４０の温度の均一性が高まる。

図３に例示したように、光照射部３０は、例えば、光源３１と、リフレクタ３２と、長波長光カットフィルタ３３と、短波長光カットフィルタ３４と、を含むことができる。光源３１は、光重合性材料が重合する光を生成する。光源３１は、リフレクタ３２と、被処理パネル４０の収容の位置との間に配置される。リフレクタ３２は、光源３１から出射した光の一部を反射し、その光を、被処理パネル４０の収容の位置に向かわせる。

長波長光カットフィルタ３３は、光源３１と、処理槽１０の被処理パネル４０の収容の位置と、の間に設けられる。長波長光カットフィルタ３３は、例えば赤外線を減衰させる赤外線カットフィルタである。長波長光カットフィルタ３３は、例えば４００ナノメートル（ｎｍ）以上の波長の光を減衰させる。これにより、光３０Ｌが照射される被処理パネル４０の温度の上昇が抑制される。

短波長光カットフィルタ３４は、光源３１と、処理槽１０の被処理パネル４０の収容の位置と、の間に設けられる。短波長光カットフィルタ３４は、例えば３４０ｎｍ以下の波長の光を減衰させる。これにより、被処理パネル４０に含まれる材料（例えば有機材料）が光３０Ｌにより分解することが抑制される。

長波長光カットフィルタ３３及び短波長光カットフィルタ３４を用いることで、被処理パネル４０の光重合性材料が重合するために必要な波長の光が効率良く、被処理パネル４０に照射される。

実施形態に係る液晶パネル製造装置１１０によれば、液体除去部６０により、被処理パネル４０に付着した液体５０を除去できる。これにより、光３０Ｌの照射の後の工程に悪影響を与えることが抑制できる。実施形態によれば、被処理パネル４０に光３０Ｌを照射する実用的な液晶パネル製造装置が提供できる。

実施形態において、被処理パネル４０に付着した液体５０はできるだけ早く除去することが望ましい。これにより、液体５０の液滴の跡が残り難くなる。例えば、被処理パネル４０を液体５０から出しながらエアジェットによる空気を当て、液体５０を除去する。例えば、被処理パネル４０の取り出し動作において、液体５０を吹き飛ばすことができる。なお、除去した液体５０は、処理槽１０に戻すのが望ましい。

以下、液体除去部６０の例について説明する。
図４（ａ）〜図４（ｃ）は、実施形態に係る液晶パネル製造装置の一部の構成を例示する模式図である。
図４（ａ）に表したように、実施形態に係る液晶パネル製造装置１１１においては、液体除去部６０は、被処理パネル４０に気体流６１を吹き付ける。具体的には、液体除去部６０は、第１気体吐出部６１ａと第２気体吐出部６１ｂとを含む。第１気体吐出部６１ａは、被処理パネル４０の第１主面４０ａに気体流６１を吹き付ける。第２気体吐出部６１ｂは、被処理パネル４０の第２主面４０ｂに気体流６１を吹き付ける。気体流６１は、例えば空気である。第１気体吐出部６１ａ及び第２気体吐出部６１ｂは、例えばエアブロワである。気体流６１により、被処理パネル４０に付着した液体５０の液滴５１を除去できる。

図４（ｂ）に表したように、実施形態に係る液晶パネル製造装置１１２においては、液体除去部６０は、被処理パネル４０を加熱する。具体的には、液体除去部６０は、第１加熱部６２ａと第２加熱部６２ｂとを含む。第１加熱部６２ａは、被処理パネル４０の第１主面４０ａに赤外線６２を照射する。第２加熱部６２ｂは、被処理パネル４０の第２主面４０ｂに赤外線６２を照射する。赤外線６２により、被処理パネル４０に付着した液体５０の液滴５１を除去できる。

図４（ｃ）に表したように、実施形態に係る液晶パネル製造装置１１３においては、液体除去部６０は、被処理パネル４０に高温かつ高圧の気体流６１を吹き付ける。具体的には、液体除去部６０は、第１高温気体吐出部６３ａと第２高温気体吐出部６３ｂとを含む。第１高温気体吐出部６３ａは、被処理パネル４０の第１主面４０ａに高温の気体流６３を吹き付ける。第２高温気体吐出部６３ｂは、被処理パネル４０の第２主面４０ｂに高温の気体流６３を吹き付ける。高温の気体流６３は、例えば高温の空気である。高温の気体流６３により、被処理パネル４０に付着した液体５０の液滴５１を除去できる。液晶パネル製造装置１１３においては、液体除去部６０は、被処理パネル４０を加熱しつつ、被処理パネル４０に気体流（高温の気体流６３）を吹き付ける。

また、液体除去部６０として、例えば、機械的な方法で液体５０を除去する構成を用いることができる。例えば、液体除去部６０として、被処理パネル４０に接触する、可撓性の構造体を用いることができる。具体的には、液体除去部６０として、例えばゴム状の材料によるへら（スキージ、ワイパブレード）などを用いることができる。

上記の液体除去部６０に関する各種の構成は、組み合わせて使用することができる。例えば、液体除去部６０は、気体吐出部と加熱部とを含むことができる。例えば、被処理パネル４０に付着した液体５０の大半をエアジェットで除去した後、残った僅かな液体５０をヒータで確実に除去することができる。液体除去部６０として、任意の複数の構成を含むことができる。

図５は、実施形態に係る別の液晶パネル製造装置の構成を例示する模式的平面図である。
図６は、実施形態に係る別の液晶パネル製造装置の構成を例示する模式的断面図である。
すなわち、図６は、図５のＡ１−Ａ２線断面を例示している。
図５のＢ１−Ｂ２線断面は、図３と同様なので図示を省略する。

図５及び図６に表したように、実施形態に係る液晶パネル製造装置１２０は、濡れ性向上部７０をさらに備える。濡れ性向上部７０は、液体５０に被処理パネル４０を収容する前に、被処理パネル４０の表面の濡れ性を向上させる。

これにより、被処理パネル４０を液体５０中に収容したときに、被処理パネル４０の表面に気泡などが付着することが抑制できる。もし、被処理パネル４０の表面に気泡などが付着している状態で、光３０Ｌが照射されると、照度分布が不均一になる場合がある。また、温度分布が不均一になる場合がある。

これに対し、濡れ性向上部７０によって被処理パネル４０の表面に気泡などが付着することが抑制できるため、照度の均一性が向上できる。また、温度の均一性が向上できる。

例えば、濡れ性向上部７０は、被処理パネル４０の表面をプラズマで処理する。例えば、濡れ性向上部７０は、常圧プラズマ処理を実施する。例えば、濡れ性向上部７０は、被処理パネル４０の表面に紫外線を照射する。例えば、濡れ性向上部７０は、被処理パネル４０の表面を洗浄液で処理する。これらの処理により、被処理パネル４０の表面の濡れ性が向上できる。

濡れ性向上部７０が被処理パネル４０に紫外線を照射する場合は、濡れ性向上のための紫外線の波長は、液体５０中でパネルに照射する紫外線の波長よりも短いことが望ましい。すなわち、濡れ性向上部７０が被処理パネル４０に照射する紫外線の波長は、光照射部３０が被処理パネル４０に照射する光３０Ｌ（紫外線）の波長よりも短いことが望ましい。濡れ性向上部７０が照射する紫外線の波長（主波長）は、例えば、１８５ｎｍまたは２５４ｎｍである。光照射部３０が照射する紫外線の波長（主波長）は、例えば、約３４０ｎｍである。これにより、濡れ性向上部７０が照射する紫外線により、光重合性材料の重合が進行することが抑制できる。例えば、濡れ性向上部７０が照射する紫外線のエネルギーは、光照射部３０が照射する光３０Ｌのエネルギーよりも低いことが望ましい。

図７は、実施形態に係る別の液晶パネル製造装置の構成を例示する模式図である。
すなわち、図７においては、構成要素の一部の断面が図示され、他の一部が模式的に図示されている。
図７に表したように、実施形態に係る液晶パネル製造装置１３０においては、処理槽１０には窓部１２が付設されている。なお、図７には図示しないが、液晶パネル製造装置１３０は、液体除去部６０を備える。さらに、液晶パネル製造装置１３０は、濡れ性向上部７０をさらに備えても良い。

窓部１２は、液体５０に接する。窓部１２は、透光性である。具体的には、窓部１２は、光照射部３０から照射される光３０Ｌに対して透過性である。

液体流動部２０は、被処理パネル４０と窓部１２との間の液体５０を被処理パネル４０の主面（例えば第１主面４０ａ）に沿って流動させる。光照射部３０は、窓部１２を介して被処理パネル４０に、光重合性材料が重合する光３０Ｌを照射する。

この例では、処理槽１０は、容器１１と窓部１２とを含む。容器１１は、容器１１の内部に液体５０を溜める。容器１１は、液体５０中に被処理パネル４０を収容する。

窓部１２は、液体５０を介して被処理パネル４０に対向する。すなわち、窓部１２と被処理パネル４０との間の液体５０は、窓部１２と被処理パネル４０とに接する。

液晶パネル製造装置１３０においては、光源３１（光照射部３０）は、窓部１２の外に設けられる。このため、窓部１２と光源３１（光照射部３０）との間に例えば空気が介在できる。これにより、熱の伝達を抑制できる。これにより、被処理パネル４０の温度が上昇し難く、温度は面内で均一である。

窓部１２が、液体５０に接触しているので、液体５０の表面における波及び泡の発生が抑制される。さらに、曇りの発生も抑制される。これにより、光３０Ｌの強度の均一性が維持される。

液体５０の温度は、例えば室温よりも高い。液体５０の温度は、例えば４０℃以上である。すなわち、被処理パネル４０に光３０Ｌが照射されるときの被処理パネル４０の温度は、例えば４０℃以上である。このように、液体５０の温度が４０℃のときに液体５０は蒸発し易い。実施形態においては、このような条件においても、曇りの発生が抑制される。

なお、窓部１２が液体５０を覆っても良い。液体５０は、処理槽１０により実質的に密閉されることができる。

図８は、実施形態に係る液晶パネル製造装置の一部の構成を例示する模式的断面図である。
図８に表したように、光照射部３０は、光源３１と、２重管液冷部３５と、を含むことができる。光源３１は、光重合性材料が重合する光（例えば紫外線）を放出する。

２重管液冷部３５は、内管３５ｉと、外管３５ｏと、中間壁３５ｍと、を含む。内管３５ｉは、光源３１と離間し光源３１を内包する。外管３５ｏは、内管３５ｉの外側に設けられる。中間壁３５ｍは、内管３５ｉと外管３５ｏとの間に設けられる。内管３５ｉと中間壁３５ｍとの間には、冷却液３５ｌが導入可能である。外管３５ｏと中間壁３５ｍとの間には、冷却液３５ｌが導入可能である。冷却液３５ｌは、内管３５ｉと中間壁３５ｍとの間の空間、及び、外管３５ｏと中間壁３５ｍとの間の空間を相互に循環可能である。これにより、冷却効率が高い。

また、中間壁３５ｍは、長波長光カットフィルタ３３及び短波長光カットフィルタ３４の少なくともいずれかの機能を有することができる。例えば、中間壁３５ｍは、赤外線カットフィルタである。

また、内管３５ｉ及び外管３５ｏの少なくともいずれかは、長波長光カットフィルタ３３及び短波長光カットフィルタ３４の少なくともいずれかの機能を有することができる。これにより、長波長光カットフィルタ３３または短波長光カットフィルタ３４を別途設けることが省略できる。

実施形態に係る液晶パネル製造装置において、パネル保持部１５は、被処理パネル４０の主面（例えば第１主面４０ａ）に対して垂直な方向を軸にして、被処理パネル４０を回転させても良い。例えば、軸部１５ｂを軸にして、アーム部１５ｃが回転する。これにより、載置部１５ｄに載せられた被処理パネル４０が軸部１５ｂを軸にして回転する。すなわち、被処理パネル４０を回転しつつ被処理パネル４０に光３０Ｌを照射しても良い。これにより、被処理パネル４０の温度が面内でさらに均一化される。そして、被処理パネル４０へ照射される光３０Ｌの強度が面内でさらに均一化される。

図９は、実施形態に係る別の液晶パネル製造装置の構成を例示する模式的断面図である。
図９に表したように、実施形態に係る液晶パネル製造装置１４０においては、光照射部３０から、処理槽１０の被処理パネル４０の収容の位置に向かう軸（光照射部３０から、処理槽１０の被処理パネル４０の収容の位置のうちで光照射部３０に最も近い部分に向かう方向の軸）は、重力の方向（Ｚ方向）に対して、実質的に垂直である。例えば、被処理パネル４０の主面は、Ｚ方向に対して実質的に平行である。

例えば、処理槽１０の上部分に供給部２１が設けられ、下部分に排出部２２が設けられる。供給部２１から液体５０が供給され、液体５０は下に向かって流動し、液体５０は排出部２２から排出される。

被処理パネル４０と窓部１２との間の液体５０は、被処理パネル４０の主面（第１主面４０ａ）に沿って流動する。さらに、被処理パネル４０の窓部１２とは反対側の面（第２主面４０ｂ）に接する液体５０が流動する。液体５０の温度は、温度制御部２３により制御される。液晶パネル製造装置１４０においては、例えば、装置の設置面積を小さくすることができる。

なお、液晶パネル製造装置１４０において、例えば、処理槽１０の下部分に供給部２１が設けられ、上部分に排出部２２が設けられても良い。

被処理パネル４０の主面は、Ｚ方向に対して実質的に垂直でもよく、実質的に平行でも良い。さらに、実施形態において、被処理パネル４０の主面は、Ｚ方向に対して傾斜していても良い。被処理パネル４０の主面がＺ方向に対して傾斜することで、例えば、被処理パネル４０の液体５０への導入及び取り出しが容易になる。

被処理パネル４０において、例えば、第１基板４１は、複数の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を含む。複数の薄膜トランジスタのそれぞれに画素電極が接続される。第１基板４１及び第２基板４２のいずれかにカラーフィルタが設けられる。光３０Ｌは、カラーフィルタが設けられない基板を介して液晶層４３に照射されることが望ましい。これにより、例えば、光３０Ｌがカラーフィルタで吸収されることが抑制できる。これにより、温度の上昇が抑制できる。また、カラーフィルタの特性が劣化することが抑制できる。

例えば、第２基板４２に画素電極に対向する対向電極が設けられる。液晶層４３には、第１基板４１から第２基板４２に向かう軸に沿った電界が印加される。

または、例えば、第１基板４１に画素電極に対向する対向電極が設けられる。液晶層４３には、第１基板４１から第２基板４２に向かう軸に対して垂直な成分を有する電界が印加される。

液晶層４３は、例えばブルー相を有することができる。ブルー相は、例えば２重ねじれ構造のフラストレーション系の構成を有する。ブルー相の液晶層４３は、例えば、可視光の波長に対応する長さの３次元周期構造を有する。ブルー相においては、例えばフォトニクスの特性が得られる。ブルー相においては、高速の電気光学応答が得られる。実施形態において、被処理パネル４０の構成は任意である。

（第２の実施の形態）
第２の実施形態は、液晶パネルの製造方法に関する。
本製造方法は、光重合性材料と液晶組成物とを含む液晶層４３を含む被処理パネル４０を処理槽１０の内部に導入した液体５０中に収容する（ステップＳ１１０）を含む。

本製造方法は、被処理パネル４０に光重合性材料が重合する光３０Ｌを照射する（ステップＳ１２０）ことをさらに含む。

本製造方法は、被処理パネル４０のうちで少なくとも液体５０から取り出された部分に付着した液体５０を除去する（ステップＳ１３０）ことをさらに含む。

この除去においては、例えば、図４（ａ）〜図４（ｃ）に関して説明した各種の方法、及び、機械的な方法の少なくともいずれかを用いることができる。そして、複数の手法を組み合わせて用いることができる。

実施形態によれば、被処理パネルに光を照射する実用的な液晶パネル製造装置及び液晶パネルの製造方法が提供される。

なお、本願明細書において、「垂直」及び「平行」は、厳密な垂直及び厳密な平行だけではなく、例えば製造工程におけるばらつきなどを含むものであり、実質的に垂直及び実質的に平行であれば良い。

以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明の実施形態は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、液晶パネル製造装置に含まれる処理槽、窓部、液体流動部、光照射部、光源などの各要素の具体的な構成に関しては、当業者が公知の範囲から適宜選択することにより本発明を同様に実施し、同様の効果を得ることができる限り、本発明の範囲に包含される。
また、各具体例のいずれか２つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。

その他、本発明の実施の形態として上述した液晶パネル製造装置及び液晶パネルの製造方法を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての液晶パネル製造装置及び液晶パネルの製造方法も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。

その他、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

１０…処理槽、 １１…容器、 １２…窓部、 １５…パネル保持部、 １５ａ…ベース部、 １５ｂ…軸部、 １５ｃ…アーム部、 １５ｄ…載置部、 ２０…液体流動部、 ２１…供給部、 ２１ｏ…開口部、 ２１ｐ…供給配管、 ２２…排出部、 ２２ｉ…開口部、 ２２ｐ…排出配管、 ２３…温度制御部、 ３０…光照射部、 ３０Ｌ…光、 ３１…光源、 ３２…リフレクタ、 ３３…長波長光カットフィルタ、 ３４…短波長光カットフィルタ、 ３５ｉ…内管、 ３５ｌ…冷却液、 ３５ｍ…中間壁、 ３５ｏ…外管、 ４０…被処理パネル、 ４０ａ…第１主面（主面）、 ４０ｂ…第２主面、 ４１…第１基板、 ４２…第２基板、 ４３…液晶層、 ５０…液体、 ５１…液滴、 ６０…液体除去部、 ６１…気体流、 ６１ａ、６１ｂ…第１、第２気体吐出部、 ６２…赤外線、 ６２ａ、６２ｂ…第１、第２加熱部、 ６３…高温の気体流、 ６３ａ、６３ｂ…第１、第２高温気体吐出部、 ７０…濡れ性向上部、 １１０、１１１、１１２、１１３、１２０、１３０、１４０…液晶パネル製造装置

Claims (4)

1. 内部に液体を溜め、光重合性材料と液晶組成物とを含む液晶層を含む被処理パネルを前記液体中に収容する処理槽と、
   前記処理槽の前記内部に収容された前記被処理パネルに、前記光重合性材料が重合する光を照射する光照射部と、
   前記被処理パネルのうちで少なくとも前記液体から取り出された部分に付着した前記液体を除去する液体除去部と、
   を備えたことを特徴とする液晶パネル製造装置。
2. 前記液体除去部は、前記被処理パネルに気体流を吹き付けることを特徴とする請求項１記載の液晶パネル製造装置。
3. 前記液体に前記被処理パネルを収容する前に、前記被処理パネルの表面の濡れ性を向上させる濡れ性向上部をさらに備えたことを特徴とする請求項１または２に記載の液晶パネル製造装置。
4. 光重合性材料と液晶組成物とを含む液晶層を含む被処理パネルを処理槽の内部に導入した液体中に収容し、
   前記被処理パネルに前記光重合性材料が重合する光を照射し、
   前記被処理パネルのうちで少なくとも前記液体から取り出された部分に付着した前記液体を除去することを特徴とする液晶パネルの製造方法。

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