JP2012189402A - Device and method for substrate inspection - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、フラットパネルディスプレイ用基板の表面や内部の状態を検査したり、カラーフィルターの製造工程において表面にカラー皮膜が形成された基板の色むらなどの有無、程度など、基板の検査をするための基板検査装置及び方法に関する。 The present invention inspects the surface and internal state of a flat panel display substrate, and inspects the substrate, such as the presence or absence, degree of color unevenness, etc., of a substrate having a color film formed on the surface in the color filter manufacturing process. The present invention relates to a substrate inspection apparatus and method.
従来から、フラットパネルディスプレイに用いられるカラーフィルターの製造工程などにおいて、顔料分散の不均一や、成分凝集、膜厚変動による色むらが発生する事が知られている。その色むらが生じたままで製造作業を継続するという不都合の発生を防止するために、カメラと透過照明とを用いて、色むらの有無、程度などを検査することが行われていた。（例えば特許文献１）。 2. Description of the Related Art Conventionally, it has been known that non-uniform pigment dispersion, component aggregation, and color unevenness due to film thickness variation occur in a manufacturing process of a color filter used for a flat panel display. In order to prevent the inconvenience of continuing the manufacturing operation with the color unevenness occurring, the presence / absence, degree, etc. of color unevenness has been inspected using a camera and transmitted illumination. (For example, patent document 1).
さらに、大型の前記ディスプレイ用基板を搬送する際に、前記基板に搬送用ローラの摩擦痕が生じるのを防ぐために、前記基板をエア浮上させながら、前記基板の両端側把持して搬送する技術が開示されている（例えば特許文献２）。 Further, when transporting the large display substrate, there is a technique for gripping and transporting the substrate while air floating to prevent the friction marks of the transport roller from being generated on the substrate. It is disclosed (for example, Patent Document 2).
基板を検査する際に、ローラコンベアと回転モータを組み合わせた搬送手段を用い、基板裏面を回転ローラで支えながら搬送すると、基板裏面とローラー部にスリップが生じて基板が位置ずれする場合がある。一方、基板をエア浮上させたり球面コロなどで保持させながら、基板の一部分を保持して搬送させる場合があるが、この場合、検査対象となる基板の一部分を保持しながら搬送し、基板全面の検査を行おうとすると、撮像部の撮像領域に基板保持部や基板移動部が写り込んでしまう。そのため、透過照明を用いる場合にあっては、基板保持している部分は光が遮られ、反射照明を用いる場合にあっては、基板保持している部分と基板保持していない部分との反射率の違いが生じるので、適切に基板全面の検査を行うことが困難であった。 When the substrate is inspected, if the conveyance means combining the roller conveyor and the rotary motor is used and the substrate back surface is conveyed while being supported by the rotation roller, the substrate may be displaced due to slippage between the substrate back surface and the roller portion. On the other hand, there is a case where a part of the substrate is held and transported while the substrate is floated on the air or held by a spherical roller, etc. In this case, the substrate is transported while holding a part of the substrate to be inspected. When the inspection is to be performed, the substrate holding unit and the substrate moving unit are reflected in the imaging area of the imaging unit. Therefore, when using transmitted illumination, light is blocked at the part holding the substrate, and when using reflected illumination, reflection between the part holding the substrate and the part not holding the substrate is performed. Because of the difference in rate, it was difficult to properly inspect the entire surface of the substrate.
また、表面に皮膜が形成された基板を検査する場合にあっては、皮膜のある部分を把持して搬送してしまっては、把持している部分の膜厚が検査できないだけでなく、形成された皮膜が剥がれたり、膜厚が変化したり、汚れが付着したり、種々の不具合を生じる。 In addition, when inspecting a substrate with a film formed on the surface, not only can the film thickness of the gripped part be inspected but also formed if the part with the film is gripped and transported. The peeled film peels off, the film thickness changes, dirt adheres, and various problems occur.
そこで本発明は、基板の保持部が撮像部の撮像領域に写り込まず、基板の位置ずれを起こすことなく、基板全面の検査を行うことができる装置及び方法を提供すること目的としている。 Therefore, an object of the present invention is to provide an apparatus and method that can inspect the entire surface of the substrate without causing the substrate holding portion to be reflected in the imaging region of the imaging unit and causing the substrate to be displaced.
以上の課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、
検査対象となる基板を保持して移動させる基板移動部と、
前記基板に対して光を照射する光源部と、
前記基板の皮膜が形成された面の少なくとも一部の領域を撮像する撮像部と、
前記撮像部で撮像された画像に基づいて基板の検査をする検査部とを含み、
前記基板を一方向に移動させながら、前記基板を検査する基板検査装置であって、
前記基板移動部は、
前記基板が前記撮像部の撮像領域を通過するように前記基板を保持して移動させる第１の基板移動部と、
前記基板の前記撮像領域を通過した部分を保持して前記基板を移動させる第２の基板移動部とを含んで構成され、
前記基板又は基板移動部の移動中の位置を検出する基板位置検出部を備え、
前記基板位置検出部の検出位置情報に基づいて、
前記基板を前記第１の基板移動部と第２の基板移動部とで共に保持して移動させる区間を有すること特徴とする基板検査装置である。
In order to solve the above problems, the invention described in claim 1
A substrate moving unit for holding and moving a substrate to be inspected;
A light source unit for irradiating the substrate with light;
An imaging unit that images at least a partial region of the surface on which the film of the substrate is formed;
An inspection unit that inspects a substrate based on an image captured by the imaging unit,
A substrate inspection apparatus for inspecting the substrate while moving the substrate in one direction,
The substrate moving unit is
A first substrate moving unit that holds and moves the substrate so that the substrate passes through an imaging region of the imaging unit;
A second substrate moving unit configured to move the substrate while holding a portion of the substrate that has passed through the imaging region;
A substrate position detecting unit for detecting a position of the substrate or the substrate moving unit during movement;
Based on the detection position information of the substrate position detection unit,
A substrate inspection apparatus having a section in which the substrate is held and moved together by the first substrate moving unit and the second substrate moving unit.
請求項５に記載の発明は、
検査対象となる基板を保持して移動させる基板移動ステップと、
前記基板に対して光を照射する光照射ステップと、
前記基板の皮膜が形成された面の少なくとも一部の領域を撮像する撮像ステップと、
前記撮像部で撮像された画像に基づいて基板の検査をする検査ステップとを有し、
前記基板を一方向に移動させながら、前記基板を検査する基板検査方法であって、
前記基板移動ステップは、
第１の基板移動部にて保持した前記基板が前記撮像ステップにおける撮像領域を通過するように移動させる、第１の基板移動ステップと、
前記基板の前記撮像領域を通過した部分を第２の基板移動部にて保持して移動する、第２の基板移動ステップとを有し、
前記基板又は基板移動部の移動中の位置を検出する基板位置検出ステップを備え、
前記基板位置検出部の検出位置情報に基づいて、
前記第１の基板移動ステップから第２の基板移動ステップへの切り替えを行い、
前記切り替えの際に、前記基板を前記第１の基板移動部と第２の基板移動部とで共に保持して移動させるステップを有すること特徴とする基板検査方法である。
The invention described in claim 5
A substrate moving step for holding and moving the substrate to be inspected;
A light irradiation step of irradiating the substrate with light;
An imaging step of imaging at least a partial region of the surface on which the film of the substrate is formed;
An inspection step of inspecting a substrate based on an image captured by the imaging unit,
A substrate inspection method for inspecting the substrate while moving the substrate in one direction,
The substrate moving step includes
A first substrate moving step for moving the substrate held by the first substrate moving unit so as to pass through an imaging region in the imaging step;
A second substrate moving step in which the portion of the substrate that has passed through the imaging region is held and moved by a second substrate moving unit; and
A substrate position detecting step for detecting a position of the substrate or the substrate moving unit during movement;
Based on the detection position information of the substrate position detection unit,
Switching from the first substrate moving step to the second substrate moving step;
In the substrate switching method, the substrate may be held and moved together by the first substrate moving unit and the second substrate moving unit at the time of the switching.
上記基板検査装置及び方法を用いるので、
撮像領域を挟んで両側に配置された第１及び第２の基板移動部で基板を共に保持して移動させて、基板の検査を行うことができる。
Since the above substrate inspection apparatus and method are used,
The substrate can be inspected by holding and moving the substrate together by the first and second substrate moving units arranged on both sides of the imaging region.
請求項２に記載の発明は、
前記第１の基板移動部の移動方向と前記第２の基板移動部の移動方向とが、
一直線上に配置されていること特徴とする請求項１に記載の基板検査装置である。
The invention described in claim 2
The moving direction of the first substrate moving unit and the moving direction of the second substrate moving unit are:
The board inspection apparatus according to claim 1, wherein the board inspection apparatus is arranged on a straight line.
上記基板検査装置を用いれば、
前記第１の基板移動部と第２の基板移動部とは、互いの移動方向と移動速度を一致させやすくなる。そのため、前記第１の基板移動部と第２の基板移動部とで共に保持して移動させるときに、基板の位置ずれや回転ずれが発生しにくい状態にすることができる。
If you use the board inspection device,
The first substrate moving unit and the second substrate moving unit can easily match the moving direction and the moving speed of each other. For this reason, when the first substrate moving unit and the second substrate moving unit are held and moved together, it is possible to prevent the substrate from being displaced or rotated.
請求項３に記載の発明は、
前記第１の基板移動部と前記第２の基板移動部とが、
前記基板の幅方向の中心部分を保持して移動すること特徴とする
請求項２に記載の基板検査装置である。
The invention according to claim 3
The first substrate moving unit and the second substrate moving unit are
The substrate inspection apparatus according to claim 2, wherein the substrate inspection apparatus moves while holding a central portion in the width direction of the substrate.
上記基板検査装置を用いれば、
基板搬送時、特に基板搬送時の加速時や減速時、受け渡し時に、回転モーメントが発生しないので、回転ずれを起こしにくい。そのため、基板保持部の吸引力を必要以上に強めることなく、基板搬送中の回転ずれを防ぐことができる。
If you use the board inspection device,
A rotational moment is not generated during substrate transportation, particularly during acceleration or deceleration during substrate transportation, and during delivery, so that rotational deviation is unlikely to occur. Therefore, it is possible to prevent rotational deviation during substrate transport without increasing the suction force of the substrate holder more than necessary.
請求項６に記載の発明は、
前記基板を前記第１の基板移動部と第２の基板移動部とで共に保持して移動させるステップ直前の、前記第１の基板移動ステップにおいて、
第２の基板移動部の移動方向及び移動速度を、前記基板又は前記第１の基板移動部の移動方向及び移動速度に合わせるステップと、
前記基板を前記第１の基板移動部と第２の基板移動部とで共に保持して移動させるステップ直後の、前記第２の基板移動ステップにおいて、
第１の基板移動部の移動方向及び移動速度を、前記基板又は前記第２の基板移動部の移動方向及び移動速度に合わせるステップとをさらに含むこと特徴とする請求項５に記載の基板検査方法である。
The invention described in claim 6
In the first substrate moving step immediately before the step of holding and moving the substrate together with the first substrate moving unit and the second substrate moving unit,
Adjusting the moving direction and moving speed of the second substrate moving unit to the moving direction and moving speed of the substrate or the first substrate moving unit;
In the second substrate moving step immediately after the step of holding and moving the substrate together with the first substrate moving unit and the second substrate moving unit,
The substrate inspection method according to claim 5, further comprising: adjusting a moving direction and a moving speed of the first substrate moving unit to a moving direction and a moving speed of the substrate or the second substrate moving unit. It is.
上記基板検査方法を用いれば、
前記基板と前記第１又は第２基板移動部との相対速度が無い状態で、スムーズに基板を受け渡しすることができる。そのため、基板位置ずれや、基板保持部分にキズや汚れが生じことを防ぐことができる。
If the above substrate inspection method is used,
The substrate can be delivered smoothly without a relative speed between the substrate and the first or second substrate moving part. For this reason, it is possible to prevent the substrate from being displaced and the substrate holding portion from being scratched or soiled.
請求項４に記載の発明は、
前記検査対象となる基板の表面には皮膜が形成されており、
前記検査部では前記基板に形成された皮膜の色むらを検査することを特徴とする、
請求項１〜３のいずれかに記載の基板検査装置である。
The invention according to claim 4
A film is formed on the surface of the substrate to be inspected,
The inspection unit is characterized by inspecting color unevenness of the film formed on the substrate,
It is a board | substrate inspection apparatus in any one of Claims 1-3.
請求項７に記載の発明は、
前記検査対象となる基板の表面には皮膜が形成されており、
前記検査部では前記基板に形成された皮膜の色むらを検査することを特徴とする、
請求項５又は請求項６に記載の基板検査方法である。
The invention described in claim 7
A film is formed on the surface of the substrate to be inspected,
The inspection unit is characterized by inspecting color unevenness of the film formed on the substrate,
A substrate inspection method according to claim 5 or 6.
上記基板検査装置及び方法を用いれば、
基板の表面全面に皮膜が形成されていても、皮膜に触れずに基板を搬送させて、色むらを検査することができる。さらに、前記皮膜に触れずに基板を搬送できるので、前記皮膜にキズや汚れが付くことを防ぐことができ、皮膜付き基板を検査するには好適である。
If the substrate inspection apparatus and method are used,
Even if a film is formed on the entire surface of the substrate, color unevenness can be inspected by transporting the substrate without touching the film. Furthermore, since the substrate can be conveyed without touching the film, it is possible to prevent the film from being scratched or soiled, which is suitable for inspecting the substrate with the film.
基板保持部や基板移動部が撮像部の撮像領域に写り込むことを防ぎ、基板の位置ずれを起こすことなく、基板の検査を行うことができる。 It is possible to prevent the substrate holding unit and the substrate moving unit from appearing in the imaging region of the imaging unit, and to inspect the substrate without causing a positional shift of the substrate.
本発明を実施するための形態について、図を用いながら説明する。
図１Ａは、本発明を具現化する形態の一例を示す平面図である。
図１Ｂは、本発明を具現化する形態の一例を示す断面図で、図１ＡのＡＡ矢視断面に対応している。
各図において直交座標系の３軸をＸ、Ｙ、Ｚとし、ＸＹ平面を水平面、Ｚ方向を鉛直方向
とする。特にＺ方向は矢印の方向を上とし、その逆方向を下と表現する。
DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1A is a plan view showing an example of a form embodying the present invention.
1B is a cross-sectional view showing an example of a form embodying the present invention, and corresponds to a cross section taken along the line AA in FIG. 1A.
In each figure, the three axes of the orthogonal coordinate system are X, Y, and Z, the XY plane is the horizontal plane, and the Z direction is the vertical direction. In particular, in the Z direction, the direction of the arrow is represented as the top, and the opposite direction is represented as the bottom.
基板検査装置１は、基板移動部２と、光源部３と、撮像部４と、検査部５と、制御部９とを含んで、構成されている。 The substrate inspection apparatus 1 includes a substrate moving unit 2, a light source unit 3, an imaging unit 4, an inspection unit 5, and a control unit 9.
基板移動部２は、位置検出部２０と、第１の基板移動部２５と、第１の基板保持部２６と、第２の基板移動部２７と、第２の基板保持部２８とが含まれて構成されている。
位置検出部２０としては、計測用ビーム２１を基板１０の端部に照射し、反射されて受光した光により基板１０の端部までの距離を計測するものが例示される。他に、基板１０と第１の基板移動部２５との相対位置を検出し、第１の基板移動部２５及び第２の基板移動部２７の位置を検出するものであっても良い。
The substrate moving unit 2 includes a position detecting unit 20, a first substrate moving unit 25, a first substrate holding unit 26, a second substrate moving unit 27, and a second substrate holding unit 28. Configured.
Examples of the position detection unit 20 include those that irradiate the end of the substrate 10 with the measurement beam 21 and measure the distance to the end of the substrate 10 by the reflected and received light. Alternatively, the relative position between the substrate 10 and the first substrate moving unit 25 may be detected, and the positions of the first substrate moving unit 25 and the second substrate moving unit 27 may be detected.
装置フレーム１１の上の中央部には、第１の基板移動部２５と第２の基板移動部２７がＹ方向に一直線上に移動可能となる様に取り付けられている。さらに、第１の基板移動部２５の上には第１の基板保持部２６が、第２の基板移動部２７の上には第２の基板保持部２８が取り付けられている。また、装置フレーム１１の上には、第１の基板移動部２５や第２の基板移動部２７の側方で基板が移動するときに通過する領域には、基板浮上ユニット２３が取り付けられている。 A first substrate moving unit 25 and a second substrate moving unit 27 are attached to the central portion on the apparatus frame 11 so as to be movable in a straight line in the Y direction. Further, a first substrate holding unit 26 is attached on the first substrate moving unit 25, and a second substrate holding unit 28 is attached on the second substrate moving unit 27. A substrate floating unit 23 is mounted on the apparatus frame 11 in a region through which the substrate moves when the substrate moves on the side of the first substrate moving unit 25 and the second substrate moving unit 27. .
基板浮上ユニット２３は、上面（つまり、基板１０と対向する面）から、圧縮エアを吹き出すこと（つまり、エアブロー）ができる構造をしており、基板１０と所定の隙間を保って基板１０を浮上させることができる。基板浮上ユニット２３は、図１で示すように基板１０が移動するＹ方向に長く、幅方向（Ｘ方向）に複数並べた形態のものを例示することができる。或いは、所定の面積を有するブロック状の基板浮上ユニットを、Ｙ方向に複数並べて配置しても良い。基板浮上ユニットは、上流工程から搬送された基板１０を下面から支え、基板１０の平面度が保たれた状態で、Ｙ方向に移動できる構成であれば良い。 The substrate floating unit 23 has a structure capable of blowing compressed air (that is, air blowing) from the upper surface (that is, the surface facing the substrate 10), and floats the substrate 10 with a predetermined gap from the substrate 10. Can be made. As shown in FIG. 1, the substrate levitation unit 23 is long in the Y direction in which the substrate 10 moves, and can be exemplified by a plurality of substrates arranged in the width direction (X direction). Alternatively, a plurality of block-like substrate levitation units having a predetermined area may be arranged side by side in the Y direction. The substrate floating unit may be configured to support the substrate 10 transported from the upstream process from the lower surface and move in the Y direction while maintaining the flatness of the substrate 10.
第１及び第２の基板保持部２６，２８は、上面（つまり、基板１０と対向する面）から、外気を吸引したり、圧縮エアを吹き出すことができる構造をしており、載置された基板１０を吸引保持したり、所定の隙間を保って浮上させたりすることができる。 The first and second substrate holders 26 and 28 have a structure that can suck outside air or blow out compressed air from the upper surface (that is, the surface facing the substrate 10), and is placed. The substrate 10 can be sucked and held or floated with a predetermined gap.
基板移動部２は、上述のような構造をしているため、基板浮上ユニット２３で浮上させつつ、第１基板保持部２６で基板１０を吸引保持した状態で、第１の基板移動部２５でＹ方向に移動させたり、第２基板保持部２８で基板１０を吸引保持した状態で、第２の基板移動部２７でＹ方向に移動させたりすることができる。さらに、基板１０の移動中の位置も検出するものであっても良い。 Since the substrate moving unit 2 has the above-described structure, the first substrate moving unit 25 holds the substrate 10 with the first substrate holding unit 26 while being levitated by the substrate floating unit 23. It can be moved in the Y direction, or can be moved in the Y direction by the second substrate moving unit 27 while the substrate 10 is sucked and held by the second substrate holding unit 28. Furthermore, the position during movement of the substrate 10 may also be detected.
光源部３は、照明部３１と、光量調整部３２とを含んで構成されている。透過照明の場合、照明部３１は、第１の基板移動部２５と第２の基板移動部２７との間に配置された、装置フレーム１１に取り付けられている。さらに照明部３１は、発光部から上方に（つまり、基板１０に向けて）、所定の波長領域を含む光を照射することができる。
照明部３１としては、ＬＥＤ、ハロゲン、白熱電球、蛍光灯その他の発光手段が例示でき、後述する撮像部４の感度波長や感度特性に合わせた所定の波長を含む光線を放射するもので、その所定の波長が、基板１０の表面に形成された皮膜に一部吸収され一部通過する波長であれば良い。照明部３１は、光量調整部３２に接続されており、基板１０に照射する光の量を調整することができる。
The light source unit 3 includes an illumination unit 31 and a light amount adjustment unit 32. In the case of transmitted illumination, the illumination unit 31 is attached to the apparatus frame 11 disposed between the first substrate moving unit 25 and the second substrate moving unit 27. Furthermore, the illumination unit 31 can irradiate light including a predetermined wavelength region upward from the light emitting unit (that is, toward the substrate 10).
Examples of the illuminating unit 31 include LEDs, halogens, incandescent bulbs, fluorescent lamps and other light emitting means, which emit light rays including a predetermined wavelength that matches the sensitivity wavelength and sensitivity characteristics of the imaging unit 4 described later. The predetermined wavelength may be a wavelength that is partly absorbed by the film formed on the surface of the substrate 10 and partly passes. The illumination unit 31 is connected to the light amount adjustment unit 32 and can adjust the amount of light applied to the substrate 10.
撮像部４は、装置フレーム１１に取り付けられた支柱４２と梁４３とで構成される、門型の構造物に取り付けられている。前記門型の構造物は、その中を基板１０が通過できる様に構成されており、照明部３１と撮像部４とは、基板１０を挟んで対向する位置に配置されている。そのため、撮像部４は、下方に（つまり、基板１０に向けて）受光部を配置することで、基板１０を通過した光の一部を受光することができる。撮像部４は、Ｘ方向に所定の長さを有するものを用い、その長さが基板１０の幅より長ければ１つ、基板１０の幅より短ければ複数台用いることで、基板全面のＸ方向全域に渡って撮像をすることができる。この撮像部位が、本発明における撮像部の撮像領域となる。そして、後述で詳細の説明をするが、Ｙ方向に基板１０を走行させることで、基板全面に対して撮像、観察、検査をすることができる。 The imaging unit 4 is attached to a gate-shaped structure including a column 42 and a beam 43 attached to the apparatus frame 11. The portal structure is configured so that the substrate 10 can pass therethrough, and the illumination unit 31 and the imaging unit 4 are arranged at positions facing each other with the substrate 10 in between. Therefore, the imaging unit 4 can receive a part of the light that has passed through the substrate 10 by disposing the light receiving unit below (that is, toward the substrate 10). The imaging unit 4 has a predetermined length in the X direction. If the length is longer than the width of the substrate 10, one is used. If the length is shorter than the width of the substrate 10, a plurality of imaging units 4 are used. Imaging can be performed over the entire area. This imaging region is an imaging region of the imaging unit in the present invention. As will be described in detail later, by moving the substrate 10 in the Y direction, the entire surface of the substrate can be imaged, observed, and inspected.
［システム構成］
図２は、本発明を具現化する形態の一例を示すシステム構成図である。図２に示すように、上述で図１を用いながら説明した基板移動部２、光源部３、撮像部４、検査部５の各機器は、制御部９の各機器と接続されている。
[System configuration]
FIG. 2 is a system configuration diagram showing an example of a form embodying the present invention. As shown in FIG. 2, each device of the substrate moving unit 2, the light source unit 3, the imaging unit 4, and the inspection unit 5 described above with reference to FIG. 1 is connected to each device of the control unit 9.
制御部９には、制御用コンピュータ９０と、情報入力手段９１と、情報出力手段９２と、発報手段９３と、情報記録手段９４と、機器制御ユニット９５とが接続されて含まれている。 The control unit 9 includes a control computer 90, an information input unit 91, an information output unit 92, a notification unit 93, an information recording unit 94, and a device control unit 95 connected to each other.
制御用コンピュータ９０としては、マイコン、パソコン、ワークステーションなどの、数値演算ユニットが搭載されたものが例示される。
情報入力手段９１としては、キーボードやマウスやスイッチなどが例示される。
情報出力手段９２としては、画像表示ディスプレイやランプなどが例示される。
Examples of the control computer 90 include a computer equipped with a numerical operation unit such as a microcomputer, a personal computer, or a workstation.
Examples of the information input unit 91 include a keyboard, a mouse, and a switch.
Examples of the information output unit 92 include an image display display and a lamp.
発報手段９３としては、ブザーやスピーカ、ランプなど、作業者に注意喚起をすることができるものが例示される。
情報記録手段９４としては、メモリーカードやデータディスクなどの、半導体記録媒体や磁気記録媒体や光磁気記録媒体などが例示される。
機器制御ユニット９５としては、プログラマブルコントローラやモーションコントローラと呼ばれる機器などが例示される。
Examples of the reporting means 93 include a buzzer, a speaker, and a lamp that can alert the worker.
Examples of the information recording means 94 include a semiconductor recording medium, a magnetic recording medium, a magneto-optical recording medium, such as a memory card and a data disk.
Examples of the device control unit 95 include devices called programmable controllers and motion controllers.
制御用コンピュータ９０には、検査部５の画像処理ユニット９６を介して、撮像部４から出力された映像信号が入力される。前記入力画像は、画像処理ユニット９６で、基板の表面や内部の状態を検査したり、基板表面に形成された皮膜の色むらなどの有無、程度などの検査をしたりするのに適した画像処理が施される。その後、画像の輝度信号の差や変化度合いなどから、検査部５にて、基板表面の粗さ、キズの有無や大きさ、基板内部の気泡の有無や大きさ、色むらの有無や程度、或いは製品としての良否について判断を行う検査が行われる。この良否判断をする検査においては、従来周知の技術を採用することができる。画像処理ユニット９６は、一般にＧＰＵ（グラフィックプロセッシングユニット）と呼ばれ、制御用コンピュータ９０の外部に設置される形態のもの、制御用コンピュータ９０の筐体内に接続される形態のもの、制御用コンピュータ９０の画像処理部を利用したものなどが例示できる。 A video signal output from the imaging unit 4 is input to the control computer 90 via the image processing unit 96 of the inspection unit 5. The input image is an image suitable for the image processing unit 96 to inspect the surface and internal state of the substrate, and to inspect the presence / absence, degree, and the like of the color unevenness of the film formed on the substrate surface. Processing is performed. After that, from the difference or change degree of the luminance signal of the image, in the inspection unit 5, the roughness of the substrate surface, the presence or absence and size of scratches, the presence or absence of bubbles inside the substrate, the presence or absence of color irregularity, Alternatively, an inspection is performed to determine whether the product is good or bad. In this inspection for determining pass / fail, a conventionally known technique can be employed. The image processing unit 96 is generally called a GPU (graphic processing unit), and is installed outside the control computer 90, connected to the housing of the control computer 90, or the control computer 90. The one using the image processing unit can be exemplified.
機器制御ユニット９５は、その他の制御機器（図示せず）と接続されており、それらに対して制御用信号を与えることにより、各機器を動作させたり静止させたりすることができるようになっている。 The device control unit 95 is connected to other control devices (not shown), and by giving control signals to them, each device can be operated or stopped. Yes.
［検査フロー］
図３は、本発明を具現化する形態の一例を示すタイミングチャートである。
図３では、横軸を時刻ｔとして、１段目には検査対象となる基板１０の位置が、２段目には第１の基板移動部２５の速度が、３段目には第１の基板保持部２６のブロー／吸引状態が、４段目には第２の基板移動部２７の速度が、５段目には第２の基板保持部２８のブロー／吸引状態が、それぞれ縦軸に示されている。
[Inspection flow]
FIG. 3 is a timing chart showing an example of a form embodying the present invention.
In FIG. 3, the horizontal axis is time t, the position of the substrate 10 to be inspected is in the first stage, the speed of the first substrate moving unit 25 is in the second stage, and the first stage is in the third stage. In the blow / suction state of the substrate holding unit 26, the speed of the second substrate moving unit 27 is in the fourth stage, and the blow / suction state of the second substrate holding unit 28 is in the fifth stage on the vertical axis. It is shown.
基板１０は、上流工程から基板検査装置１へと搬送される。この時、ローラコンベアやロボットハンドなどで基板１０の下面を支えられ、エアブロー状態の基板浮上ユニット２３及び第１の基板保持部２６上に載置される。続いて、基板１０をＸ方向及びＹ方向に外側から挟み込んでアライメントを行った後、第１の基板保持部２６を吸引状態に切り替えて基板１０を保持する。そして、その状態で第１の基板移動部２５を所定の速度で移動させることで、基板１０はＹ方向＋側に移動する。その後、基板１０の位置情報に基づいて、検査を開始する。第１の基板移動部２５を所定の速度を保って移動させながら検査を続け（時刻ｔ１）、基板１０の位置情報に基づいて、第２の基板移動部２７を同じ速度で併走させる。このとき、第２の基板保持部２８はエアブロー状態とし、基板１０は第１の基板保持部２６のみで保持されている（時刻ｔ２）。 The substrate 10 is transferred from the upstream process to the substrate inspection apparatus 1. At this time, the lower surface of the substrate 10 is supported by a roller conveyor, a robot hand, or the like, and placed on the substrate floating unit 23 and the first substrate holding unit 26 in an air blow state. Subsequently, after alignment is performed by sandwiching the substrate 10 from the outside in the X direction and the Y direction, the first substrate holding unit 26 is switched to the suction state to hold the substrate 10. In this state, the substrate 10 is moved in the Y direction + side by moving the first substrate moving unit 25 at a predetermined speed. Thereafter, the inspection is started based on the position information of the substrate 10. The inspection is continued while moving the first substrate moving unit 25 at a predetermined speed (time t1), and the second substrate moving unit 27 is allowed to run at the same speed based on the positional information of the substrate 10. At this time, the second substrate holding unit 28 is in an air blow state, and the substrate 10 is held only by the first substrate holding unit 26 (time t2).
そして、基板１０が撮像部４の撮像領域を通過し、前記基板１０の撮像が済んだ部分に、第２の基板保持部２８が位置するように、第２の基板移動部２７を併走させる。基板１０を移動させている第１の基板移動部２５と第２の基板移動部２７とをＹ方向に同じ速度にして、第２の基板保持部２８で吸引保持させる。この状態で、引き続き、第１の基板移動部２５と第２の基板移動部２７とをＹ方向に同じ速度で併走させる（時刻ｔ３）。その後、第１の基板保持部２６をエアブロー状態とし、基板１０を第２の基板移動部２７のみで移動させる。そして、第１の基板保持部２６をエアブロー状態のまま、第１の基板移動部２５を減速させ、停止させる（時刻ｔ４）。基板１０が検査区間を通りすぎた後、第２の基板移動部２７を停止させ、第２の基板保持部２８をエアブロー状態にし、基板１０を取り出す。 And the 2nd board | substrate movement part 27 is made to run side by side so that the board | substrate 10 may pass the imaging area of the imaging part 4, and the 2nd board | substrate holding | maintenance part 28 may be located in the part which the imaging of the said board | substrate 10 was completed. The first substrate moving unit 25 and the second substrate moving unit 27 moving the substrate 10 are sucked and held by the second substrate holding unit 28 at the same speed in the Y direction. In this state, the first substrate moving unit 25 and the second substrate moving unit 27 continue to run in the Y direction at the same speed (time t3). Thereafter, the first substrate holding unit 26 is brought into an air blow state, and the substrate 10 is moved only by the second substrate moving unit 27. Then, the first substrate moving unit 25 is decelerated and stopped (time t4) while the first substrate holding unit 26 is in the air blow state. After the substrate 10 passes the inspection section, the second substrate moving unit 27 is stopped, the second substrate holding unit 28 is brought into an air blow state, and the substrate 10 is taken out.
［検査中の基板搬送］
図４Ａは、本発明を具現化する形態の一例の時刻ｔ１での状態を示す断面図である。この時刻ｔ１は、上述の時刻ｔ１と対応している（以下、ｔ２〜ｔ４についても同じ）。
基板１０ａは、第１の基板保持部２６により吸引保持されている。そして、第１の基板移動部２５がＹ方向に移動しており、第１の基板保持部２６と共に、基板１０ａが矢印１０ｖで示す方向（つまりＹ方向）に所定の速度で移動している様子を示している。また、基板１０ａのエッジが撮像部４の撮像領域に差しかかり、検査を開始する位置を示している。このとき、第２の基板保持部２８は圧縮エアを吹き出した状態で、第２の基板移動部２７は静止している。
[Substrate transport during inspection]
FIG. 4A is a cross-sectional view showing a state at time t1 as an example of a form embodying the present invention. This time t1 corresponds to the above-described time t1 (hereinafter, the same applies to t2 to t4).
The substrate 10 a is sucked and held by the first substrate holding unit 26. Then, the first substrate moving unit 25 is moving in the Y direction, and the substrate 10a is moving together with the first substrate holding unit 26 in the direction indicated by the arrow 10v (that is, the Y direction) at a predetermined speed. Is shown. In addition, the edge of the substrate 10a reaches the imaging region of the imaging unit 4 and indicates the position where the inspection is started. At this time, the second substrate moving unit 27 is stationary while the second substrate holding unit 28 blows out compressed air.
図４Ｂは、本発明を具現化する形態の一例の時刻ｔ２での状態を示す断面図である。時刻ｔ２における基板１０ｂが、時刻ｔ１の位置にあった基板１０ａの位置から、距離Ｄａｂだけ移動している様子を示している。このとき、基板１０ｂは、第１の基板保持部２６により吸引保持されている。そして、第１の基板移動部２５がＹ方向に移動しており、第１の基板保持部２６と共に、基板１０ｂが矢印１０ｖで示す方向（つまりＹ方向）に所定の速度で移動している。また、第２の基板保持部２８は圧縮エアを吹き出した状態で、第２の基板移動部２７が基板１０ｂと同じ速度で矢印１０ｖで示す方向（つまりＹ方向）に移動している。 FIG. 4B is a cross-sectional view showing a state at time t2 of an example of a form embodying the present invention. A state is shown in which the substrate 10b at time t2 is moved by a distance Dab from the position of the substrate 10a that was at the position of time t1. At this time, the substrate 10 b is sucked and held by the first substrate holding unit 26. The first substrate moving unit 25 is moving in the Y direction, and the substrate 10b is moving at a predetermined speed in the direction indicated by the arrow 10v (that is, the Y direction) together with the first substrate holding unit 26. Further, the second substrate holding unit 28 is moving in the direction indicated by the arrow 10v (that is, the Y direction) at the same speed as the substrate 10b while the compressed air is blown out.
図４Ｃは、本発明を具現化する形態の一例の時刻ｔ３での状態を示す断面図である。時刻ｔ３における基板１０ｃが、時刻ｔ２の位置にあった基板１０ｂの位置から、距離Ｄｂｃだけ移動している様子を示している。このとき、基板１０ｃは、第１の基板保持部２６及び第２の基板保持部２８により吸引保持されている。そして、第１の基板移動部２５及び第２の基板移動部２７が、第１の基板保持部２６及び第２の基板保持部２８と共に、基板１０ｃが矢印１０ｖで示す方向（つまりＹ方向）に同じ速度で移動している。 FIG. 4C is a cross-sectional view showing a state at time t3 as an example of a form embodying the present invention. A state is shown in which the substrate 10c at the time t3 is moved by a distance Dbc from the position of the substrate 10b at the position of the time t2. At this time, the substrate 10 c is sucked and held by the first substrate holding unit 26 and the second substrate holding unit 28. Then, the first substrate moving unit 25 and the second substrate moving unit 27 together with the first substrate holding unit 26 and the second substrate holding unit 28 are in the direction indicated by the arrow 10v (that is, the Y direction). They are moving at the same speed.
図４Ｄは、本発明を具現化する形態の一例の時刻ｔ４での状態を示す断面図である。時刻ｔ４における基板１０ｄが、時刻ｔ３の位置にあった基板１０ｃの位置から、距離Ｄｃｄだけ移動している様子を示している。このとき、基板１０ｄは、第２の基板保持部２８により吸引保持されている。そして、第２の基板移動部２７が、第２の基板保持部２８と共に、基板１０ｄが矢印１０ｖで示す方向（つまりＹ方向）に同じ速度で移動している。このとき、第１の基板保持部２６は圧縮エアを吹き出した状態で、第１の基板移動部２５は静止している。 FIG. 4D is a cross-sectional view showing a state at time t4 in an example of a form embodying the present invention. A state is shown in which the substrate 10d at the time t4 is moved by a distance Dcd from the position of the substrate 10c at the position of the time t3. At this time, the substrate 10 d is sucked and held by the second substrate holding unit 28. Then, the second substrate moving unit 27 and the second substrate holding unit 28 move the substrate 10d at the same speed in the direction indicated by the arrow 10v (that is, the Y direction). At this time, the first substrate holding unit 26 blows out compressed air, and the first substrate moving unit 25 is stationary.
基板１０の位置に応じて、第１搬送区間、第２搬送区間及び第３搬送区間と定義する。
第１搬送区間にあっては、図４Ａ，Ｂを用いて説明した様に、基板１０が第１の基板保持部２６で吸引保持されて、第１の基板移動部２５により搬送される。しかし、第２の基板保持部２８からは圧縮エアが吹き出されており、基板１０は第２の基板移動部２７では搬送されない。このとき、基板１０と第２の基板移動部２７とが同一方向に同一速度で移動し、相対速度が０であっても、第２の基板保持部２８で基板１０を吸引保持していなければ、第１搬送区間にあるとする。
Depending on the position of the substrate 10, it is defined as a first transport section, a second transport section, and a third transport section.
In the first transfer section, as described with reference to FIGS. 4A and 4B, the substrate 10 is sucked and held by the first substrate holding unit 26 and transferred by the first substrate moving unit 25. However, the compressed air is blown out from the second substrate holding unit 28, and the substrate 10 is not transported by the second substrate moving unit 27. At this time, even if the substrate 10 and the second substrate moving unit 27 move in the same direction at the same speed and the relative speed is 0, the second substrate holding unit 28 does not suck and hold the substrate 10. Suppose that it is in the 1st conveyance section.
第２搬送区間にあっては、図４Ｃを用いて説明した様に、基板１０が第１の基板保持部２６及び第２の基板保持部２８で吸引保持されて、第１の基板移動部２５及び第２の基板移動部２７によって移動される。つまり基板１０は、第１及び第２の基板保持部２６，２８を介して第１の基板移動部２５及び第２の基板移動部２７とで共に保持して移動される。 In the second transport section, as described with reference to FIG. 4C, the substrate 10 is sucked and held by the first substrate holding unit 26 and the second substrate holding unit 28, and the first substrate moving unit 25 and It is moved by the second substrate moving unit 27. That is, the substrate 10 is held and moved together by the first substrate moving unit 25 and the second substrate moving unit 27 via the first and second substrate holding units 26 and 28.
第３搬送区間にあっては、図４Ｄを用いて説明した様に、基板１０が第２の基板保持部２８で吸引保持されて、第２の基板移動部２７により搬送される。しかし、第１の基板保持部２６からは圧縮エアが吹き出されており、基板１０は第１の基板移動部２５では搬送されない。このとき、基板１０と第１の基板移動部２５とが同一方向に同一速度で移動し、相対速度が０であっても、第１の基板保持部２６で基板１０を吸引保持していなければ、第３搬送区間にあるとする。 In the third transfer section, as described with reference to FIG. 4D, the substrate 10 is sucked and held by the second substrate holding unit 28 and transferred by the second substrate moving unit 27. However, compressed air is blown out from the first substrate holding unit 26, and the substrate 10 is not transported by the first substrate moving unit 25. At this time, even if the substrate 10 and the first substrate moving unit 25 move in the same direction at the same speed and the relative speed is 0, the first substrate holding unit 26 does not suck and hold the substrate 10. Suppose that it is in the 3rd conveyance section.
前記第２搬送区間、第１搬送区間及び第３搬送区間、つまり、第１及び第２の基板保持部２６，２８を介して、基板１０を第１の基板移動部２５及び第２の基板移動部２７とで共に保持して移動させる区間とその前後の区間の、開始及び終了する位置は、使用条件を基に、適宜決定する。つまり、検査対象となる基板１０の長さや移動速度、基板保持部の吸着保持とエアブローの切替り時間などを考慮して決定すれば良い。 The substrate 10 is moved through the second transport section, the first transport section, and the third transport section, that is, the first and second substrate holders 26 and 28, and the first substrate moving section 25 and the second substrate moving. The start and end positions of the section to be held and moved together with the section 27 and the sections before and after the section are appropriately determined based on the use conditions. That is, it may be determined in consideration of the length and moving speed of the substrate 10 to be inspected, the time for switching between holding and holding the substrate holding portion and air blow.
上述の様に、第１の基板移動部２５及び第２の基板移動部２７を移動させながら、基板１０を、第１の基板保持部２６及び第２の基板保持部２８にて吸引保持又はエア浮上させることで、撮像部３の撮像領域に基板移動部２を構成する機器や部材の一部が写り込むこと無く、基板の表面や内部の状態を検査したり、基板表面に形成された皮膜の色むらなどを検査することが可能となる。 As described above, while the first substrate moving unit 25 and the second substrate moving unit 27 are moved, the substrate 10 is sucked and held by the first substrate holding unit 26 and the second substrate holding unit 28 or air. By floating, the surface of the substrate and the internal state are inspected and the film formed on the substrate surface without any part of the devices and members constituting the substrate moving unit 2 appearing in the imaging region of the imaging unit 3 It becomes possible to inspect the color unevenness of the.
第１の基板移動部２５及び第２の基板移動部２７は、走行方向が同じであれば良いが、それぞれが一直線上に配置されていることが好ましい。
また、第１の基板移動部２５と第２の基板移動部２７とは、１つずつであっても良いし、どちらか一方又は両方が複数であっても良い。この場合、第１の基板移動部２５及び第２の基板移動部２７は、互いに一直線上に配置されていることが好ましい。そうすれば、設置して調整する作業が容易となり、基板の移動方向と移動速度が合わせやすくなる。
The first substrate moving unit 25 and the second substrate moving unit 27 are only required to have the same traveling direction, but are preferably arranged on a straight line.
Moreover, the 1st board | substrate moving part 25 and the 2nd board | substrate moving part 27 may be one each, and one or both may be plural. In this case, it is preferable that the first substrate moving unit 25 and the second substrate moving unit 27 are arranged on a straight line. If it does so, the operation | work which installs and adjusts becomes easy, and it becomes easy to match | combine the moving direction and moving speed of a board | substrate.
さらに、第１の基板移動部２５及び第２の基板移動部２７は、前記基板の幅方向の中心部分を保持して移動することが、より好ましい。そうすれば、第１の基板移動部２５及び第２の基板移動部２７を１つずつしか備えていない場合であっても、基板の搬送中に回転モーメントが発生しない。そのため、基板保持部の吸引力を上げずに基板を搬送することができ、基板搬送中の回転ずれを防ぐことができる。また、基板搬送中の回転ずれを防ぐために、基板保持部の吸引力を上げすぎることがなくなり、基板吸着部にたわみが発生することを防ぐことができる。 Furthermore, it is more preferable that the first substrate moving unit 25 and the second substrate moving unit 27 move while holding the central portion in the width direction of the substrate. By doing so, even if the first substrate moving unit 25 and the second substrate moving unit 27 are provided one by one, no rotational moment is generated during the transfer of the substrate. For this reason, the substrate can be transported without increasing the suction force of the substrate holding portion, and rotational deviation during substrate transport can be prevented. Moreover, in order to prevent rotational deviation during substrate transport, the suction force of the substrate holding portion is not increased too much, and it is possible to prevent the substrate suction portion from being bent.
前記基板の幅方向の中心部分を保持して移動することが、より好ましい。そうすれば、第１の基板移動部２５及び第２の基板移動部２７を１つずつしか備えていない場合であっても、基板の搬送中に回転モーメントが発生しない。そのため、基板保持部の吸引力を上げずに基板を搬送することができる。 It is more preferable to move while holding the center portion of the substrate in the width direction. By doing so, even if the first substrate moving unit 25 and the second substrate moving unit 27 are provided one by one, no rotational moment is generated during the transfer of the substrate. Therefore, the substrate can be transported without increasing the suction force of the substrate holding part.
上述では、第１の基板保持部２６及び第２の基板保持部２８が、それぞれ１つずつの形態について例示したが、一方又は双方を複数にしても良い。第１の基板保持部２６又は第２の基板保持部２８を複数にすれば、前記保持部が１つの場合と比較して、基板搬送時に発生するモーメントが低減できる。この場合、基板保持部は基板の幅方向中心に対して等距離で離れて配置されていることが好ましい。そうすることで、基板搬送時に発生するモーメントを互いに打ち消し合い、基板の位置ずれ効果を高めることができる。 In the above description, each of the first substrate holding unit 26 and the second substrate holding unit 28 is illustrated as being one by one. However, one or both of them may be plural. If a plurality of the first substrate holding units 26 or the second substrate holding units 28 are used, the moment generated when the substrate is transferred can be reduced as compared with the case where the number of the holding units is one. In this case, it is preferable that the board | substrate holding | maintenance part is arrange | positioned equidistantly with respect to the width direction center of a board | substrate. By doing so, it is possible to cancel the moments generated when the substrate is transported and to enhance the effect of substrate displacement.
上述では、光を照射する光源部として、透過照明を用いた場合について説明を行ったが、撮像領域に向けて光を照射して反射した光を撮像する、いわゆる反射照明を用いる形態としても、本発明を適用することが出来る。 In the above description, the case where transmitted illumination is used as the light source unit that irradiates light has been described. However, as a form using so-called reflected illumination that images light reflected by irradiating light toward the imaging region, The present invention can be applied.
上述では、基板支持の手段として基板浮上ユニット２３を用いたエア浮上による支持形態を例示したが、本発明はこの支持形態に限定されることなく、球面コロや他の接触式支持を適用しても良い。しかし、前記基板はエア浮上により支持されてることがより好ましい。基板全体を非接触で支持すれば、基板にキズが付くのを防止できたり、ゴミの発生や付着が防止できるからである。 In the above, the support form by air levitation using the substrate levitation unit 23 is exemplified as the means for supporting the substrate. However, the present invention is not limited to this support form, and a spherical roller or other contact type support is applied. Also good. However, it is more preferable that the substrate is supported by air levitation. This is because if the entire substrate is supported in a non-contact manner, the substrate can be prevented from being scratched, and the generation and adhesion of dust can be prevented.
１ 基板検査装置
２ 基板移動部
３ 光源部
４ 撮像部
５ 検査部
９ 制御部
１０ 基板
１１ 装置フレーム
２０ 位置検出部
２１ 測距ビーム
２３ 基板浮上ユニット
２５ 第１の基板移動部
２６ 第１の基板保持部
２７ 第２の基板移動部
２８ 第２の基板保持部
３１ 照明部
３２ 光量調整部
４２ 支柱
４３ 梁
４４ 撮像手段
９０ 制御用コンピュータ
９１ 情報入力手段
９２ 情報出力手段
９３ 発報手段
９４ 情報記録手段
９５ 制御ユニット
９６ 画像処理ユニット
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Board | substrate inspection apparatus 2 Board | substrate moving part 3 Light source part 4 Imaging part 5 Inspection part 9 Control part 10 Board | substrate 11 Apparatus frame 20 Position detection part 21 Ranging beam 23 Board | substrate floating unit 25 1st board | substrate moving part 26 1st board | substrate holding | maintenance Unit 27 second substrate moving unit 28 second substrate holding unit 31 illuminating unit 32 light quantity adjusting unit 42 column 43 beam 44 imaging unit 90 control computer 91 information input unit 92 information output unit 93 reporting unit 94 information recording unit 95 Control unit 96 Image processing unit
Claims (7)
前記基板に対して光を照射する光源部と、
前記基板の少なくとも一部の領域を撮像する撮像部と、
前記撮像部で撮像された画像に基づいて基板の検査をする検査部とを含み、
前記基板を一方向に移動させながら、前記基板を検査する基板検査装置であって、
前記基板移動部は、
前記基板が前記撮像部の撮像領域を通過するように前記基板を保持して移動させる第１の基板移動部と、
前記基板の前記撮像領域を通過した部分を保持して前記基板を移動させる第２の基板移動部とを含んで構成され、
前記基板又は基板移動部の移動中の位置を検出する基板位置検出部を備え、
前記基板位置検出部の検出位置情報に基づいて、
前記基板を前記第１の基板移動部と第２の基板移動部とで共に保持して移動させる区間を有すること特徴とする基板検査装置。 A substrate moving unit for holding and moving a substrate to be inspected;
A light source unit for irradiating the substrate with light;
An imaging unit for imaging at least a partial region of the substrate;
An inspection unit that inspects a substrate based on an image captured by the imaging unit,
A substrate inspection apparatus for inspecting the substrate while moving the substrate in one direction,
The substrate moving unit is
A first substrate moving unit that holds and moves the substrate so that the substrate passes through an imaging region of the imaging unit;
A second substrate moving unit configured to move the substrate while holding a portion of the substrate that has passed through the imaging region;
A substrate position detecting unit for detecting a position of the substrate or the substrate moving unit during movement;
Based on the detection position information of the substrate position detection unit,
A substrate inspection apparatus comprising a section for holding and moving the substrate together by the first substrate moving unit and the second substrate moving unit.
一直線上に配置されていること特徴とする請求項１に記載の基板検査装置。 The moving direction of the first substrate moving unit and the moving direction of the second substrate moving unit are:
The board inspection apparatus according to claim 1, wherein the board inspection apparatus is arranged on a straight line.
前記基板の幅方向の中心部分を保持して移動すること特徴とする
請求項２に記載の基板検査装置。 The first substrate moving unit and the second substrate moving unit are
The substrate inspection apparatus according to claim 2, wherein the substrate inspection apparatus moves while holding a central portion in the width direction of the substrate.
前記検査部では前記基板に形成された皮膜の色むらを検査することを特徴とする、
請求項１〜３のいずれかに記載の基板検査装置。
A film is formed on the surface of the substrate to be inspected,
The inspection unit is characterized by inspecting color unevenness of the film formed on the substrate,
The board | substrate inspection apparatus in any one of Claims 1-3.
前記基板に対して光を照射する光照射ステップと、
前記基板の少なくとも一部の領域を撮像する撮像ステップと、
前記撮像部で撮像された画像に基づいて基板の検査をする検査ステップとを有し、
前記基板を一方向に移動させながら、前記基板を検査する基板検査方法であって、
前記基板移動ステップは、
第１の基板移動部にて保持した前記基板が前記撮像ステップにおける撮像領域を通過するように移動させる、第１の基板移動ステップと、
前記基板の前記撮像領域を通過した部分を第２の基板移動部にて保持して移動する、第２の基板移動ステップとを有し、
前記基板又は基板移動部の移動中の位置を検出する基板位置検出ステップを備え、
前記基板位置検出部の検出位置情報に基づいて、
前記第１の基板移動ステップから第２の基板移動ステップへの切り替えを行い、
前記切り替えの際に、前記基板を前記第１の基板移動部と第２の基板移動部とで共に保持して移動させるステップを有すること特徴とする基板検査方法。 A substrate moving step for holding and moving the substrate to be inspected;
A light irradiation step of irradiating the substrate with light;
An imaging step of imaging at least a portion of the substrate;
An inspection step of inspecting a substrate based on an image captured by the imaging unit,
A substrate inspection method for inspecting the substrate while moving the substrate in one direction,
The substrate moving step includes
A first substrate moving step for moving the substrate held by the first substrate moving unit so as to pass through an imaging region in the imaging step;
A second substrate moving step in which the portion of the substrate that has passed through the imaging region is held and moved by a second substrate moving unit; and
A substrate position detecting step for detecting a position of the substrate or the substrate moving unit during movement;
Based on the detection position information of the substrate position detection unit,
Switching from the first substrate moving step to the second substrate moving step;
A substrate inspection method comprising the step of holding and moving the substrate together by the first substrate moving unit and the second substrate moving unit at the time of the switching.
第２の基板移動部の移動方向及び移動速度を、前記基板又は前記第１の基板移動部の移動方向及び移動速度に合わせるステップと、
前記基板を前記第１の基板移動部と第２の基板移動部とで共に保持して移動させるステップ直後の、前記第２の基板移動ステップにおいて、
第１の基板移動部の移動方向及び移動速度を、前記基板又は前記第２の基板移動部の移動方向及び移動速度に合わせるステップとをさらに含むこと特徴とする請求項５に記載の基板検査方法。 In the first substrate moving step immediately before the step of holding and moving the substrate together with the first substrate moving unit and the second substrate moving unit,
Adjusting the moving direction and moving speed of the second substrate moving unit to the moving direction and moving speed of the substrate or the first substrate moving unit;
In the second substrate moving step immediately after the step of holding and moving the substrate together with the first substrate moving unit and the second substrate moving unit,
The substrate inspection method according to claim 5, further comprising: adjusting a moving direction and a moving speed of the first substrate moving unit to a moving direction and a moving speed of the substrate or the second substrate moving unit. .
前記検査部では前記基板に形成された皮膜の色むらを検査することを特徴とする、
請求項５又は請求項６に記載の基板検査方法。 A film is formed on the surface of the substrate to be inspected,
The inspection unit is characterized by inspecting color unevenness of the film formed on the substrate,
The substrate inspection method according to claim 5 or 6.
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