JP2012180261A - 導電性ペースト及び該導電性ペーストを用いた太陽電池素子 - Google Patents

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Abstract

【課題】
半導体シリコン太陽電池に形成される電極として使用可能な鉛を含まない導電性ペーストを得ることを目的とした。
【解決手段】
半導体シリコン基板を用いる太陽電池用の導電性ペーストであって、該導電性ペーストに含まれるガラスフリットの組成は、実質的に鉛成分を含まず、質量%で
SiOを1〜20、Bを5〜30、Alを0〜10、ZnOを5〜35、RO(MgO、CaO、SrO、及びBaOからなる群から選ばれる少なくとも1種の合計)を5〜30、RO(LiO、NaO、及びKOからなる群から選ばれる少なくとも1種の合計)を0.1〜6、Biを10〜60、を含むことを特徴とする導電性ペースト。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体シリコン太陽電池に形成される電極として使用可能な鉛を含まない導電性ペーストに関する。
半導体シリコン基板を用いた電子部品として、図1に示すような太陽電池素子が知られている。図1に示すように、太陽電池素子は、厚みが200μm程度のp型半導体シリコン基板1の受光面側にn型半導体シリコン層2を形成し、受光面側表面に受光効率をあげるための窒化珪素膜などの反射防止膜3、さらにその反射防止膜3上に半導体と接続した表面電極4が形成されている。
また、p型半導体シリコン基板1の裏側には、アルミニウム電極層5が一様に形成されている。このアルミニウム電極層5は、一般に、アルミニウム粉末、ガラスフリット、エチルセルロースやアクリル樹脂などのバインダーを含む有機ビヒクルとからなるアルミニウムペースト材料を、スクリーン印刷などを用いて塗布し、600〜900℃程度の温度で短時間焼成することで形成される。
このアルミニウムペースト材料の焼成において、アルミニウムがp型半導体シリコン基板1に拡散することで、アルミニウム電極層5とp型半導体シリコン基板1との間にBSF(Back Surface Field)層6と呼ばれるSi−Al共晶層が形成され、さらにはアルミニウムの拡散による不純物層p層7が形成される。このp層7は、pn接合の光起電力効果によって生成したキャリアの再結合による損失を抑制する効果をもたらし、太陽電池素子の変換効率向上に寄与する。このBSF効果に関しては、例えば特許文献1や特許文献2などに開示されているように、アルミニウムペースト材料に含まれるガラスフリットとして、鉛を含有するガラスを用いることにより、高い効果を得ることが可能であると開示されている。
特開2007−59380号公報 特開2003−165744号公報
一般的に、p層の表面抵抗とBSF効果には相関があり、p層の表面抵抗が低いほどBSF効果が高く、太陽電池素子としての変換効率が高いとされている。
前述した鉛成分を含むガラスフリットは、アルミニウムペースト材料のような導電性ペーストに使用することにより、高いBSF効果を得ることができ、さらに上記導電性ペーストを低融点とする上で重要な成分であるものの、人体や環境に与える弊害が大きい。前述した特許文献1及び特許文献2は導電性ペーストに鉛成分を含むという問題がある。
そこで本発明は、半導体シリコン太陽電池に形成される電極として使用可能な鉛を含まない導電性ペーストを得ることを目的とした。
本発明は、半導体シリコン基板を用いる太陽電池用の導電性ペーストであって、該導電性ペーストに含まれるガラスフリットの組成は、実質的に鉛成分を含まず、質量%でSiOを1〜20、Bを5〜30、Alを0〜10、ZnOを5〜35、RO(MgO、CaO、SrO、及びBaOからなる群から選ばれる少なくとも1種の合計)を5〜30、RO(LiO、NaO、及びKOからなる群から選ばれる少なくとも1種の合計)を0.1〜6、Biを10〜60を含むことを特徴とする導電性ペーストである。
鉛を含有するガラスフリットを使用した導電性ペーストを用いた場合、p層の表面抵抗は20〜30Ω/□程度を示すことから、本発明の導電性ペーストを用いた際のp層の表面抵抗は、30Ω/□以下とすることが好ましい。該表面抵抗が低いほど太陽電池素子として用いた場合、変換効率が向上する。
また本発明の前記ガラスフリットは、30℃〜300℃における熱膨張係数が(70〜110)×10−7/℃、軟化点が450℃以上600℃以下であることを特徴とする。本発明において上記の熱膨張係数は線膨張係数を意味するものである。
また、本発明の導電性ペーストは、アルミニウム粉末を有するアルミニウムペースト材料であることを特徴とする。
また、本発明の導電性ペーストは、前記ガラスフリットの組成において、ROとして少なくともKOを含むことを特徴とする。
また、本発明の導電性ペーストは、前記ガラスフリットの組成において、ROとして少なくともBaOを含むことを特徴とする。
本発明により、鉛を含まないガラスフリットを含む導電性ペーストを得ることが可能である。本発明の導電性ペーストを太陽電池素子として使用することにより、高いBSF効果を得ることができる。また、半導体シリコン基板と良好な密着性を得ることができる。さらに、実質的に鉛成分を含まないため人体や環境に与える弊害がない。
一般的な半導体シリコン太陽電池セルの概略断面図である。
本発明の導電性ペーストは、アルミニウム粉末とエチルセルロースやアクリル樹脂などのバインダーを含む有機ビヒクルに加えて、ガラスフリットを含み(1〜5質量%)、該ガラスフリットが実質的に鉛成分を含まず、質量%でSiOを1〜20、Bを5〜30、Alを0〜10、ZnOを5〜35、RO(MgO、CaO、SrO、及びBaOからなる群から選ばれる少なくとも1種の合計)を5〜30、RO(LiO、NaO、及びKOからなる群から選ばれる少なくとも1種の合計)を0.1〜6、Biを10〜60を含むことを特徴とする導電性ペーストである。
本発明のガラスフリットにおいて、SiOはガラス形成成分であり、別のガラス形成成分であるBと共存させることにより、安定したガラスを形成することが可能であり、1〜20%(質量%、以下においても同様である)含有させる。20%を越えると、ガラスの軟化点が上昇し導電性ペーストとして使用し難くなる。より好ましくは5〜17%、さらに好ましくは8〜15%の範囲である。
はガラス形成成分であり、ガラス溶融を容易とし、ガラスの熱膨張係数の過度の上昇を抑え、かつ、焼成時にガラスに流動性を与え、ガラスの誘電率を低下させるものであり、ガラス中に5〜30%含有させる。5未満ではガラスの流動性が不充分となることにより焼結性が損なわれ、一方で30%を越えるとガラスの安定性が低下する。また、より好ましくは10〜25%、さらに好ましくは15〜25%の範囲である。
Alは、ガラスの結晶化を抑制する任意成分である。ガラス中に0〜10%含有させるが、10%を超えるとガラスの軟化点が上昇し導電性ペーストとして使用し難くなる。また、より好ましくは0〜5%としてもよい。
ZnOはガラスの軟化点を下げる成分で、ガラス中に5〜35%含有させる。5%未満では上記作用を発揮し得ず、35%を超えるとガラスが不安定となり結晶を生じ易くなる。また、より好ましくは8〜30%、さらに好ましくは10〜20%の範囲である。
RO(MgO、CaO、SrO、及びBaOからなる群から選ばれる少なくとも1種の合計)はガラスの軟化点を下げるものであり、ガラス中に5〜30%含有させる。5%未満ではガラスの軟化点の低下が不十分となり焼結性が損なわれる。一方で30%を越えるとガラスの熱膨張係数が高くなりすぎることがある。好ましくは10〜30%、より好ましくは10〜20%の範囲である。また、ROは1成分でも、複数成分を混合して用いても良いが、BaOを含むのがさらに好ましい。
O(LiO、NaO、及びKOからなる群から選ばれる少なくとも1種の合計)はガラスの軟化点を下げ熱膨張係数を適宜範囲に調整するものであり、0.1〜6%の範囲で含有させる。0.1%未満ではガラスの軟化点の低下が不十分となり焼結性が損なわれる。一方で6%を越えると熱膨張係数を過度に上昇させることがある。より好ましくは1〜6%、さらに好ましくは1〜3%の範囲である。
本発明において、ガラスフリットに含有するRO量を増加させることにより、p層の表面抵抗を30Ω/□より低い値にすることが可能であるが、該ROを6質量%越えて含む場合、該ROのアルカリ成分が多くなることにより潮解性を呈することがあるため、本発明では該ROを6質量%以下とする。
また、ROは1成分でも、複数成分を混合して用いても良いが、特にRO成分中のKO量を主成分にする、又はKO成分のみを用いると、外観や基板との密着性が良好となるため好ましい。なお、上記の「主成分」とは、RO成分の質量の合計値に対するKOの質量が50質量%以上であればよく、好ましくは70質量%以上としてもよい。
Biはガラスの軟化点を下げ、熱膨張係数を調整するものであり、10〜60%の範囲で含有させる。10%未満ではガラスの軟化点の低下が不十分で、焼結性が損なわれる。他方60%を越えると熱膨張係数を過度に上昇させる。より好ましくは15〜55%の範囲である。
上記の他にも、一般的な酸化物で表すCuO、TiO、In、SnO、TeOなどを加えてもよい。
実質的に鉛(以下PbOと記載することもある)を含まないことにより、人体や環境に与える影響を皆無とすることができる。ここで、実質的にPbOを含まないとは、PbOがガラス原料中に不純物として混入する程度の量を意味する。例えば、低融点ガラス中における0.3%以下の範囲であれば、先述した弊害、すなわち人体、環境に対する影響、絶縁特性等に与える影響は殆どなく、実質的にPbOの影響を受けないことになる。
前記ガラスフリットを用いることにより、30℃〜300℃における熱膨張係数が(70〜110)×10−7/℃、軟化点が450℃以上600℃以下の導電性ペーストを得ることが可能となる。熱膨張係数が(70〜110)×10−7/℃を外れると電極形成時に剥離、基板の反り等の問題が発生する。好ましくは、(75〜100)×10−7/℃の範囲である。また、軟化点が600℃を越えると焼成時に十分に流動しないため、半導体シリコン基板との密着性が悪くなる等の問題が発生する。好ましくは上記軟化点が480℃以上580℃以下である。
本発明の導電性ペーストは、前述したように太陽電池素子に使用することが可能である。またさらに、該導電性ペーストは低温で焼成が可能であることから、銀やアルミ等を用いた配線パターンの形成材料や各種電極等、電子材料用基板としても使用できる。
本発明の導電性ペーストの好適な実施形態のひとつは、ガラスフリット、アルミニウム粉末、有機ビヒクルを含有する導電性ペーストであり、該導電性ペーストの粘度を200Pa・s以下とするのが好ましい。該導電性ペーストは、半導体シリコン基板上に塗布・焼成しアルミニウム電極層を形成するものであるが、粘度が上記範囲を外れると、成形性や加工性が悪くなることがある。
上記導電体ペーストに含まれるガラスフリットの粒径は、平均粒径を1〜10μm、最大粒径を30μm以下とするのが好ましい。ガラスフリットの粒径は、レーザー回折・散乱式 粒子径・粒度分布測定装置(日機装(株)製)を用いて測定した。ガラスフリットの平均粒子径が10μmを超え、更に最大粒子径が30μmを超えると半導体シリコン基板上にアルミニウム電極層を形成した際に半導体シリコン基板とアルミニウム電極層との密着性が低下することがある。
また、アルミニウム粉末は導電性を有するものであり、アルミニウム電極層として利用可能な導電性を示すために、導電性ペーストに対して50〜80質量%有するのが好ましい。
また、有機ビヒクルは有機溶剤とバインダーとからなるものであり、焼成してアルミニウム電極層を形成する際、揮発するものである。該有機溶剤とバインダーは、粘度が前述した範囲となり、焼成過程で揮発するように含有量や種類等、適宜調整されればよいが、例えば、導電性ペーストに対して有機溶剤を10〜40質量%、バインダーを1〜10質量%含むものとしてもよい。
有機溶剤は、例えば、N、N’−ジメチルホルムアミド(DMF)、α−テルピネオール、高級アルコール、γ−ブチルラクトン(γ−BL)、テトラリン、ブチルカルビトールアセテート、酢酸エチル、酢酸イソアミル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ベンジルアルコール、トルエン、3−メトキシ−3−メチルブタノール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレンカーボネート、ジメチルスルホキシド(DMSO)、N−メチル−2−ピロリドン等が使用可能である。特に、α−テルピネオールは、高粘性であり、樹脂等の溶解性も良好であるため、好ましい。
バインダーは、例えば、アクリル酸エステル(アクリル樹脂)、エチルセルロース、ポリエチレングリコール誘導体、ニトロセルロース、ポリメチルスチレン、ポリエチレンカーボネート、メタクリル酸エステル等が使用可能である。特に、アクリル酸エステル、ニトロセルロース、エチルセルロースは、熱分解性が良好であるため、好ましい。
以下、実施例に基づき、説明する。
(導電性ペースト)
まず、ガラス粉末は、実施例に記載した所定組成となるように各種無機原料を秤量、混合して原料バッチを作製した。この原料バッチを白金ルツボに投入し、電気加熱炉内で1000〜1300℃、1〜2時間で加熱溶融して表1の実施例1〜6、表2の比較例1〜5に示す組成のガラスを得た。ガラスの一部は型に流し込み、ブロック状にして熱膨張係数測定用に供した。残余のガラスは急冷双ロール成形機にてフレーク状とし、粉砕装置で平均粒径1〜10μm、最大粒径30μm未満の粉末状に整粒した。
なお、軟化点は、熱分析装置TG―DTA(リガク(株)製)を用いて測定した。また、上記の熱膨張係数は熱膨張計を用い、5℃/分で昇温したときの30〜300℃での伸び量から線膨張係数を求めた。
次いで、αテルピネオールとブチルカルビトールアセテートの混合物からなるペーストオイル39質量%にバインダーとしてのエチルセルロース1質量%と上記ガラス粉3質量%、また導電性粉末としてアルミニウム粉末を57質量%で混合し、粘度100±50Pa・s程度の導電性ペーストを調製した。
次に、p型半導体シリコン基板1を準備し、その上部に上記で作製した導電性ペーストをスクリーン印刷した。これらの試験片を、140℃のオーブンで10分間乾燥させ、次に電気炉にて800℃条件下で1分間焼成し、p型半導体シリコン基板1にアルミニウム電極層5とBSF層6を形成した構造を得た。
次に、アルミニウム電極層5のp型半導体シリコン基板1との密着性を調べるために、メンディングテープ(ニチバン製)をアルミニウム電極層5に貼り付け、剥離したときのアルミニウム電極層5の剥がれ状態を目視にて評価した。
その後、アルミニウム電極層5を形成したp型半導体シリコン基板1を水酸化ナトリウム水溶液に浸漬して、アルミニウム電極層5およびBSF層6をエッチングすることでp層7を表面に露出させ、p層7の表面抵抗を4探針式表面抵抗測定器で測定した。
(結果)
無鉛低融点ガラス組成および、各種試験結果を表に示す。
Figure 2012180261
Figure 2012180261
表1における実施例1〜6に示すように、本発明の組成範囲内においては、軟化点が450℃〜600℃であり、好適な熱膨張係数(70〜110)×10−7/℃を有しており、p型半導体シリコン基板1との密着性も良好であった。更には、太陽電池素子の変換効率に関係するp層7の抵抗値も26Ω/□以下となり、半導体シリコン太陽電池用の導電性ペーストとして用いることが可能である。
他方、本発明の組成範囲を外れる表2における比較例1〜5は、p型半導体シリコン基板1との良好な密着性が得られない、p層7の抵抗値が高い、または溶解後にガラスが潮解性を示すなど、半導体シリコン太陽電池用の導電性ペーストとしては適用し得ないものであった。
1 p型半導体シリコン基板
2 n型半導体シリコン層
3 反射防止膜
4 表面電極
5 アルミニウム電極層
6 BSF層
7 P

Claims (6)

  1. 半導体シリコン基板を用いる太陽電池用の導電性ペーストであって、該導電性ペーストはガラスフリットを含み、該ガラスフリットの組成は、実質的に鉛成分を含まず、質量%で
    SiOを1〜20、
    を5〜30、
    Alを0〜10、
    ZnOを5〜35、
    RO(MgO、CaO、SrO、及びBaOからなる群から選ばれる少なくとも1種の合計)を5〜30、
    O(LiO、NaO、及びKOからなる群から選ばれる少なくとも1種の合計)を0.1〜6、
    Biを10〜60、
    を含むことを特徴とする導電性ペースト。
  2. 前記ガラスフリットは、30℃〜300℃における熱膨張係数が(70〜110)×10−7/℃、軟化点が450℃以上600℃以下であることを特徴とする請求項1に記載の導電性ペースト。
  3. 前記導電性ペーストはアルミニウム粉末を有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の導電性ペースト。
  4. 前記ガラスフリットの組成において、ROとして少なくともKOを含むことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の導電性ペースト。
  5. 前記ガラスフリットの組成において、ROとして少なくともBaOを含むことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の導電性ペースト。
  6. 請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の導電性ペーストを焼成させたアルミニウム電極層を有することを特徴とする太陽電池素子。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015041741A (ja) * 2013-08-23 2015-03-02 旭硝子株式会社 電極形成用ガラス粉末、電極形成用導電ペーストおよび太陽電池
JP2015115400A (ja) * 2013-12-10 2015-06-22 東洋アルミニウム株式会社 導電性アルミニウムペースト
JP2020075843A (ja) * 2018-11-09 2020-05-21 Agc株式会社 ガラス、ガラス粉末、導電ペーストおよび太陽電池
JP2020198380A (ja) * 2019-06-04 2020-12-10 Agc株式会社 ガラス組成物、ガラス組成物の製造方法、導電ペースト、及び太陽電池

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103440899B (zh) * 2013-08-15 2015-10-07 广东风华高新科技股份有限公司 银电极浆料
CN103440900B (zh) * 2013-09-10 2016-06-15 乐凯胶片股份有限公司 一种晶体硅太阳能电池用无铅正银浆料
CN103617824B (zh) * 2013-12-06 2016-10-05 苏州柏特瑞新材料有限公司 一种高附着力太阳能电池正面银浆及其制备方法
KR20170108577A (ko) * 2016-03-18 2017-09-27 대주전자재료 주식회사 태양전지용 무연 도전 페이스트
JP6688500B2 (ja) * 2016-06-29 2020-04-28 ナミックス株式会社 導電性ペースト及び太陽電池
JP6714275B2 (ja) * 2016-08-23 2020-06-24 ナミックス株式会社 導電性ペースト及び太陽電池
CN106396417A (zh) * 2016-08-31 2017-02-15 安徽斯迈尔电子科技有限公司 一种大功率电阻中玻璃相的制备方法
CN106571172A (zh) * 2016-09-27 2017-04-19 东莞珂洛赫慕电子材料科技有限公司 一种铝合金基板厚膜电路中温烧结介质浆料及其制备方法
CN109994247A (zh) * 2017-12-29 2019-07-09 白金光学科技(苏州)有限公司 一种导电浆料

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001139345A (ja) * 1999-11-10 2001-05-22 Asahi Glass Co Ltd 無鉛低融点ガラスおよびガラスフリット
CN101840744A (zh) * 2010-02-10 2010-09-22 武汉伊莱瑞尔高新技术有限公司 环保型无铅铝浆及其制备方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7176152B2 (en) * 2004-06-09 2007-02-13 Ferro Corporation Lead-free and cadmium-free conductive copper thick film pastes
JP5349791B2 (ja) * 2007-11-19 2013-11-20 旭硝子株式会社 色素増感型太陽電池製造用無鉛ガラスおよびガラスセラミックス組成物
JP2011525887A (ja) * 2008-06-26 2011-09-29 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 光起電力電池用導体に用いるガラス組成物
US8007930B2 (en) * 2008-07-10 2011-08-30 Ferro Corporation Zinc containing glasses and enamels
JP5541605B2 (ja) * 2009-04-16 2014-07-09 日本電気硝子株式会社 電極形成用ガラス組成物および電極形成材料
JP5703539B2 (ja) * 2009-01-30 2015-04-22 旭硝子株式会社 ガラス組成物
JP2010192480A (ja) * 2009-02-16 2010-09-02 Nippon Electric Glass Co Ltd 電極形成用ガラス組成物および電極形成材料
JP5796270B2 (ja) * 2009-04-16 2015-10-21 日本電気硝子株式会社 電極形成材料
JP2010280554A (ja) * 2009-06-08 2010-12-16 Nippon Electric Glass Co Ltd 色素増感型太陽電池用ガラスおよび色素増感型太陽電池用材料
JP5685813B2 (ja) * 2009-12-29 2015-03-18 セントラル硝子株式会社 絶縁被覆用無鉛低融点ガラスペースト
JP5569094B2 (ja) * 2010-03-28 2014-08-13 セントラル硝子株式会社 低融点ガラス組成物及びそれを用いた導電性ペースト材料

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001139345A (ja) * 1999-11-10 2001-05-22 Asahi Glass Co Ltd 無鉛低融点ガラスおよびガラスフリット
CN101840744A (zh) * 2010-02-10 2010-09-22 武汉伊莱瑞尔高新技术有限公司 环保型无铅铝浆及其制备方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015041741A (ja) * 2013-08-23 2015-03-02 旭硝子株式会社 電極形成用ガラス粉末、電極形成用導電ペーストおよび太陽電池
JP2015115400A (ja) * 2013-12-10 2015-06-22 東洋アルミニウム株式会社 導電性アルミニウムペースト
JP2020075843A (ja) * 2018-11-09 2020-05-21 Agc株式会社 ガラス、ガラス粉末、導電ペーストおよび太陽電池
JP7088811B2 (ja) 2018-11-09 2022-06-21 Agc株式会社 ガラス、ガラス粉末、導電ペーストおよび太陽電池
JP2020198380A (ja) * 2019-06-04 2020-12-10 Agc株式会社 ガラス組成物、ガラス組成物の製造方法、導電ペースト、及び太陽電池
JP7444552B2 (ja) 2019-06-04 2024-03-06 Agc株式会社 ガラス組成物、ガラス組成物の製造方法、導電ペースト、及び太陽電池

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