JP2012178601A - 金属積層板及びこれを用いたコア基板の製造方法 - Google Patents

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In-Ho Seo
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Abstract

【課題】絶縁基材の上下に2つのコア基板を対称に形成することで生産性が2倍になることができ、絶縁基材とキャリア層を、印刷回路基板の製造時にベア基板として活用できるため、ごみの発生を防止でき、資源をリサイクルすることができる金属積層板及びこれを用いたコア基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る金属積層板は、絶縁基材と、絶縁基材の両面に積層された金属材質のキャリア層と、キャリア層の一面に積層された第1金属薄膜と、を含むことを特徴とする。
【選択図】図1

Description

本発明は金属積層板及びこれを用いたコア基板の製造方法に関する。
電子部品の小型化、高密度化、薄型化に伴って、半導体パッケージ基板においても薄型化、高機能化に関する研究が活発に行われている。特に、複数の半導体チップを一つの基板にスタックして実装する技術(MCP:Multi Chip Package)またはチップが実装された複数の基板をスタックする技術(PoP:Package on Package)を実現するためには、チップに類似した熱膨脹挙動を有し、かつ実装後の反り特性に優れた基板の開発が求められる。
また、最近、チップの高性能化により動作速度が向上されて発熱の問題が深刻化しており、これに対する対策が必要となる。
従来の銅張積層板はプリプレグのような絶縁基材の上下面に2μm〜3μmの薄肉の銅箔(Cu Foil)を積層し、用途に応じて設計されたサイズに切断して使用する。銅箔は2μm〜3μmの厚さであって非常に薄く、ハンドリングなどの問題があるため、絶縁基材に直接積層できず、キャリア層に銅箔を積層して絶縁基材に積層する。また、銅張積層板は絶縁基材から銅箔を容易に分離し、かつ工程中の200℃を超える高温に耐えるように、耐熱性を有する離型フィルムなどを絶縁基材と銅箔との間に介在するが、高価の離型フィルムなどの使用は製造コストを上昇させるおそれがある。ここで、キャリア層と銅箔を分離するために、キャリア層と銅箔との間にリリース(release)層を備えることができる。
こうした従来技術の問題点に鑑み、本発明は、高価の離型フィルムを用いることなく、コア基板の製造に使用した絶縁基材を捨てることなくリサイクルできる金属積層板及びこれを用いたコア基板の製造方法を提供することを目的とする。
本発明の一実施形態によれば、絶縁基材と、上記絶縁基材の両面に積層された金属材質のキャリア層と、上記キャリア層の一面に積層された第1金属薄膜と、を含む金属積層板が提供される。
ここで、上記キャリア層と上記第1金属薄膜は銅を含むことができる。
本発明の他の実施形態によれば、絶縁基材、上記絶縁基材の両面に積層された金属材質のキャリア層、及び上記キャリア層の一面に積層された第1金属薄膜を含む金属積層板を用意する工程と、上記第1金属薄膜上に第1絶縁材を積層する工程と、上記第1絶縁材上に金属シートを積層する工程と、上記金属シートをカバーするように、上記金属シート上に第2絶縁材を積層する工程と、上記第2絶縁材上に第2金属薄膜を積層する工程と、上記キャリア層と上記第1金属薄膜を分離する工程と、を含むコア基板の製造方法が提供される。
ここで、上記金属積層板を用意する工程は、上記絶縁基材に上記キャリア層が付着されるように上記第1金属薄膜を加圧する工程を含むことができる。
ここで、上記キャリア層、上記第1金属薄膜、及び上記第2金属薄膜は銅を含むことができる。
本発明の実施例によれば、絶縁基材の上下に2つのコア基板を対称に形成することで生産性を2倍に向上させることができる。
また、本発明は従来と異なり、離型フィルムを使用しないため、製造コストを低減することができる。
また、本発明はコア基板を生産した後、上下面にキャリア層が積層された絶縁基材を印刷回路基板の製造に用いられるベア基板として活用できるため、ごみの発生を防止し、資源をリサイクルすることができる。
なお、上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではない。また、これらの特徴群のサブコンビネーションもまた、発明となりうる。
本発明の一実施例に係る金属積層板を示す図面である。 本発明の一実施例に係るコア基板の製造方法を示す順序図である。 本発明の一実施例に係るコア基板の製造方法を示す図面である。 本発明の一実施例に係るコア基板の製造方法を示す図面である。 本発明の一実施例に係るコア基板の製造方法を示す図面である。 本発明の一実施例に係るコア基板の製造方法を示す図面である。 本発明の一実施例に係るコア基板の製造方法を示す図面である。
本発明は多様な変換を加えることができ、様々な実施例を有することができるため、本願では特定実施例を図面に例示し、詳細に説明する。しかし、これは本発明を特定の実施形態に限定するものではなく、本発明の思想及び技術範囲に含まれるあらゆる変換、均等物及び代替物を含むものとして理解されるべきである。本発明の説明において、かかる公知技術に対する具体的な説明が本発明の要旨をかえって不明瞭にすると判断される場合、その詳細な説明を省略する。
「第1」、「第2」などの用語は、多様な構成要素を説明するために用いられるに過ぎなく、前記構成要素が前記用語により限定されるものではない。前記用語は一つの構成要素を他の構成要素から区別する目的だけに用いられる。
本願で用いた用語は、ただ特定の実施例を説明するために用いたものであって、本発明を限定するものではない。単数の表現は、文の中で明らかに表現しない限り、複数の表現を含む。本願において、「含む」または「有する」などの用語は明細書上に記載された特徴、数字、段階、動作、構成要素、部品、またはこれらを組み合わせたものの存在を指定するものであって、一つまたはそれ以上の他の特徴や数字、段階、動作、構成要素、部品、またはこれらを組み合わせたものの存在または付加可能性を予め排除するものではないと理解しなくてはならない。
以下、本発明に係る金属積層板及びこれを用いたコア基板の製造方法の実施例を添付図面を参照して詳しく説明するが、添付図面を参照して説明することにおいて、同一かつ対応する構成要素は同一の図面番号を付し、これに対する重複説明は省略する。
図1は、本発明の一実施例に係る金属積層板を示す図面であり、図2は、本発明の一実施例に係るコア基板の製造方法を示す順序図であり、図3から図7は本発明の一実施例に係るコア基板の製造方法を示す図面である。
先ず、ステップS110で、絶縁基材110と、絶縁基材110の両面に積層された金属材質のキャリア層120と、キャリア層120の一面に積層された第1金属薄膜130と、を含む金属積層板100を用意する。
通常の金属積層板は、金属薄膜が絶縁基材に直接積層されるため、これを容易に分離するために離型フィルムなどを用いることになり、製造コストが上昇するが、本実施例に係るコア基板の製造方法は、金属積層板を用意するために(S110)、ステップS111で、絶縁基材110にキャリア層120が付着されるように第1金属薄膜130を加圧する。この工程によれば、絶縁基材110からキャリア層120を分離しないため、離型フィルムなどの別途の資材を使用することなく、製造コストを低減できる。第1金属薄膜130の加圧は、絶縁基材110の硬化温度に対応して真空プレス機(図示せず)を加熱した後にすることができる。
図1には、絶縁基材110と、絶縁基材110の両面に積層された金属材質のキャリア層120と、キャリア層120の一面に積層された第1金属薄膜130と、を含む金属積層板100が示されている。
このように形成された金属積層板100の第1金属薄膜130上に、ステップS120で、図3に示すように、第1絶縁材210を積層する。次に、ステップS130で、図4に示すように、第1絶縁材210上に金属シート220を積層する。その後、ステップS140で、図5に示すように、金属シート220をカバーするように、金属シート220上に第2絶縁材230を積層する。金属シート220は絶縁樹脂などに比べて熱伝導度の高い金属材質から形成されて、後に印刷回路基板の動作により発生する熱を効率的に放出することができ、かつコア基板200の反りを防止することができる。一例として、金属シートは銅(Cu)あるいはアルミニウム(Al)を含むことができる。
次に、ステップS150で、第2絶縁材230上に第2金属薄膜240を積層する。ここで、キャリア層120、第1金属薄膜130、及び第2金属薄膜240は、銅を含むことができる。このような工程により、図6に示すように、絶縁基材110の上下面に2つのコア基板200が形成される。すなわち、絶縁基材110の上下面に同じ工程を同時に行うことで、生産性を2倍に増加させることができる。図示されていないが、第2金属薄膜240は、第2金属薄膜240にリリース層とキャリア層を順に積層した後、第2絶縁材230に第2金属薄膜240が接するように積層することができることは明らかである。そして、第2金属薄膜240を積層した後、リリース層により容易にキャリア層を除去することができる。
その後、ステップS160で、キャリア層120と第1金属薄膜130を分離する。一例として、第1金属薄膜130は、キャリア層120と第1金属薄膜130との間にリリース層を介在して容易に分離することができる。
上述したように、本実施例による、絶縁基材110の上下に2つのコア基板200が対称に形成される工程は上下から同時に行われて一対の形態でコア基板200が形成されるため、生産性が2倍に増加する。
また、コア基板200を絶縁基材110から分離した後、キャリア層120が積層された絶縁基材110を、印刷回路基板の製造時に用いられるベア基板として活用できるため、ごみの発生を防止でき、資源をリサイクルすることができる。
図7にはコア基板200が示されている。このようなコア基板200の表面に回路パターン(図示せず)及びパッド(図示せず)を形成して印刷回路基板を製造することができ、パッドはコア基板200の表面に形成された回路パターンの一部が露出され、半導体チップまたはマザーボードなどの外部部品に接続するための端子としての役割をする。
ここで、本実施例の金属積層板及びこれを用いたコア基板の製造方法は、例えば、金属積層板を用意する工程、第1絶縁材を積層する工程等の各工程は駆動制御部(図示せず)の駆動により行われるものである。各工程の工程順等のプログラム(命令)が記憶されたメモリ(図示せず)からCPU(図示せず)は、プログラムを読み出して制御信号を当該駆動制御部(図示せず)等に送信することにより各工程が実行される。
以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更または改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
110 絶縁基材
120 キャリア層
130 第1金属薄膜
200 コア基板
210 第1絶縁材
220 金属シート
230 第2絶縁材
240 第2金属薄膜

Claims (5)

  1. 絶縁基材と、
    前記絶縁基材の両面に積層された金属材質のキャリア層と、
    前記キャリア層の一面に積層された第1金属薄膜と、
    を含むことを特徴とする金属積層板。
  2. 前記キャリア層と前記第1金属薄膜が銅を含むことを特徴とする請求項1に記載の金属積層板。
  3. 絶縁基材、前記絶縁基材の両面に積層された金属材質のキャリア層、及び前記キャリア層の一面に積層された第1金属薄膜を含む金属積層板を用意する工程と、
    前記第1金属薄膜上に第1絶縁材を積層する工程と、
    前記第1絶縁材上に金属シートを積層する工程と、
    前記金属シートをカバーするように、前記金属シート上に第2絶縁材を積層する工程と、
    前記第2絶縁材上に第2金属薄膜を積層する工程と、
    前記キャリア層と前記第1金属薄膜を分離する工程と、
    を含むことを特徴とするコア基板の製造方法。
  4. 前記金属積層板を用意する工程は、
    前記絶縁基材に前記キャリア層が付着されるように前記第1金属薄膜を加圧する工程を含むことを特徴とする請求項3に記載のコア基板の製造方法。
  5. 前記キャリア層、前記第1金属薄膜、及び前記第2金属薄膜が銅を含むことを特徴とする請求項3または4に記載のコア基板の製造方法。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130057313A (ko) * 2011-11-23 2013-05-31 삼성전기주식회사 인쇄회로기판 및 그 제조방법
CN106062088B (zh) * 2013-10-07 2018-12-07 Ppg工业俄亥俄公司 经处理的填料、包含该填料的组合物和由该填料制备的制品
KR20150111877A (ko) * 2014-03-26 2015-10-06 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 수지제의 판상 캐리어와 금속층으로 이루어지는 적층체
TWI621381B (zh) * 2014-04-02 2018-04-11 Jx Nippon Mining & Metals Corp Laminated body with metal foil with carrier

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001127429A (ja) * 1999-10-25 2001-05-11 Hitachi Chem Co Ltd 多層印刷配線板の製造方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6007652A (en) * 1990-11-05 1999-12-28 Murata Manufacturing Co., Ltd. Method of preparing metal thin film having excellent transferability
EP1041624A1 (en) 1999-04-02 2000-10-04 Interuniversitair Microelektronica Centrum Vzw Method of transferring ultra-thin substrates and application of the method to the manufacture of a multilayer thin film device
JP4273895B2 (ja) * 2003-09-24 2009-06-03 日立化成工業株式会社 半導体素子搭載用パッケージ基板の製造方法
JP4541763B2 (ja) * 2004-01-19 2010-09-08 新光電気工業株式会社 回路基板の製造方法
JP5000310B2 (ja) 2006-01-12 2012-08-15 新日鐵化学株式会社 Cof用積層板及びcofフィルムキャリアテープ並びに電子装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001127429A (ja) * 1999-10-25 2001-05-11 Hitachi Chem Co Ltd 多層印刷配線板の製造方法

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