JP2012153977A5 - - Google Patents
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本発明は、上記課題を解決するものであり、その要旨とするところは、以下の通りである。
（１）パルスレーザビームを集光した後、レーザ媒質を介して被処理材の表面に照射し、該表面の照射スポット近傍に圧縮残留応力を形成するレーザピーニング処理方法において、前記照射スポットが、予め想定された繰り返し荷重の付加方向（Ｙ方向）に対して垂直な方向（Ｘ方向）において、隣り合う照射スポット同士の重畳率が面積％で９２〜９９％となるように、前記パルスレーザビームを走査させ、照射スポットの表面を溶融させ、繰り返し荷重の付加方向（Ｙ方向）の圧縮残留応力を選択的に高めることを特徴とするレーザピーニング処理方法。
（１）パルスレーザビームを集光した後、レーザ媒質を介して被処理材の表面に照射し、該表面の照射スポット近傍に圧縮残留応力を形成するレーザピーニング処理方法において、前記照射スポットが、予め想定された繰り返し荷重の付加方向（Ｙ方向）に対して垂直な方向（Ｘ方向）において、隣り合う照射スポット同士の重畳率が面積％で９２〜９９％となるように、前記パルスレーザビームを走査させ、照射スポットの表面を溶融させ、繰り返し荷重の付加方向（Ｙ方向）の圧縮残留応力を選択的に高めることを特徴とするレーザピーニング処理方法。
（２）パルスレーザビームを集光した後、レーザ媒質を介して被処理材の表面に照射し、該表面の照射スポット近傍に圧縮残留応力を形成するレーザピーニング処理方法において、前記被処理材の表面にレーザ吸収材料層が施され、前記照射スポットが、予め想定された繰り返し荷重の付加方向（Ｙ方向）に対して垂直な方向（Ｘ方向）において、隣り合う照射スポット同士の重畳率が面積％で８１．８〜９９％となるように、前記パルスレーザビームを走査させ、照射スポットの表面を溶融させ、繰り返し荷重の付加方向（Ｙ方向）の圧縮残留応力を選択的に高めることを特徴とするレーザピーニング処理方法。
（３）前記レーザ吸収材料層が金属箔であることを特徴とする上記（２）記載のレーザピーニング処理方法。
Claims (5)
- パルスレーザビームを集光した後、レーザ媒質を介して被処理材の表面に照射し、該表面の照射スポット近傍に圧縮残留応力を形成するレーザピーニング処理方法において、前記照射スポットが、予め想定された繰り返し荷重の付加方向（Ｙ方向）に対して垂直な方向（Ｘ方向）において、隣り合う照射スポット同士の重畳率が面積％で９２〜９９％となるように、前記パルスレーザビームを走査させ、照射スポットの表面を溶融させ、繰り返し荷重の付加方向（Ｙ方向）の圧縮残留応力を選択的に高めることを特徴とするレーザピーニング処理方法。
- パルスレーザビームを集光した後、レーザ媒質を介して被処理材の表面に照射し、該表面の照射スポット近傍に圧縮残留応力を形成するレーザピーニング処理方法において、前記被処理材の表面にレーザ吸収材料層が施され、前記照射スポットが、予め想定された繰り返し荷重の付加方向（Ｙ方向）に対して垂直な方向（Ｘ方向）において、隣り合う照射スポット同士の重畳率が面積％で８１．８〜９９％となるように、前記パルスレーザビームを走査させ、照射スポットの表面を溶融させ、繰り返し荷重の付加方向（Ｙ方向）の圧縮残留応力を選択的に高めることを特徴とするレーザピーニング処理方法。
- 前記レーザ吸収材料層が金属箔であることを特徴とする請求項２記載のレーザピーニング処理方法。
- 前記レーザ媒質が水であり、前記パルスレーザビームは、Ｎｄ：ＹＡＧレーザの第二高調波（波長５３１ｎｍ）であることを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載のレーザピーニング処理方法。
- 前記パルスレーザビームのパルス幅は１００ｎｓｅｃ以下であり、かつ集光後の１パルス当りのピークパワー密度が０．１〜１００ＴＷ／m２であることを特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載のレーザピーニング処理方法。
Priority Applications (1)
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| JP2012064210A JP5360253B2 (ja) | 2012-03-21 | 2012-03-21 | レーザピーニング処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012064210A JP5360253B2 (ja) | 2012-03-21 | 2012-03-21 | レーザピーニング処理方法 |
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| JP2006129151A Division JP2007301566A (ja) | 2006-05-08 | 2006-05-08 | レーザピーニング処理方法 |
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|---|---|
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| JP5360253B2 JP5360253B2 (ja) | 2013-12-04 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012064210A Expired - Fee Related JP5360253B2 (ja) | 2012-03-21 | 2012-03-21 | レーザピーニング処理方法 |
Country Status (1)
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| JP (1) | JP5360253B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
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2012
- 2012-03-21 JP JP2012064210A patent/JP5360253B2/ja not_active Expired - Fee Related
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