JP2012152855A - ダイヤモンド被膜または硬質炭素被膜の脱膜方法 - Google Patents
ダイヤモンド被膜または硬質炭素被膜の脱膜方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012152855A JP2012152855A JP2011014089A JP2011014089A JP2012152855A JP 2012152855 A JP2012152855 A JP 2012152855A JP 2011014089 A JP2011014089 A JP 2011014089A JP 2011014089 A JP2011014089 A JP 2011014089A JP 2012152855 A JP2012152855 A JP 2012152855A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- coating
- discharge
- film removal
- plasma
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Abstract
【解決手段】ダイヤモンド被膜または硬質炭素被膜が基材にコーティングされた被覆部材Wをチャンバー2に収容し、直流パルス放電でチャンバー2内にプラズマを発生させる。パルス放電は、グロー放電またはアーク放電のような定常的な気体放電と比べて平均電力を小さくでき、被覆部材Wの表面温度を上昇し難くできるので、基材の熱影響を抑制できる。また、パルスの立ち上がり時に高エネルギー密度プラズマを生成できるので、脱膜速度を大きくして処理時間を短縮することができ、処理コストを抑制できる。
【選択図】図1
Description
被覆部材として、直径6mm、全長60mm、刃長15mmのエンドミルを用いた。このエンドミルは、基材がタングステンカーバイド製であり、刃部にはダイヤモンド被膜(膜厚10μm)がコーティングされている。この被覆部材を、脱膜装置のチャンバー(内寸420×395×380mm)に収容し、直流パルス電源の電極(銅製)に被覆部材のシャンクを着接し、チャンバーに刃部を露呈させた。
実施例1と同様に脱膜装置のチャンバーに被覆部材を収容した。次に、密閉したチャンバーを減圧した後、チャンバーに酸素−アルゴン混合ガス(酸素含有率50vol%)を導入し、ガス圧力を1333Pa(10Torr)に調整した。このガス圧力を保ちながら、パルス幅1μs、周期5kHzの直流電圧(173V,2.3A)を電極に印加し、パルスグロー放電によりチャンバー内にプラズマを8時間発生させた。この間、被覆部材(刃部)の表面は630〜640℃に維持された。
次に、被覆部材の表面温度と、ダイヤモンド被膜が全て除去されるまでの放電時間(脱膜達成時間)との関係を調べる実験を行った。まず、実施例1と同じ脱膜装置のチャンバーに実施例1と同様の被覆部材を収容し、密閉したチャンバーを減圧した。次いで、チャンバーに酸素ガスを導入し、チャンバーのガス圧力を133Pa(1Torr)に調整した。
次に、デューティ比と脱膜状態との関係を調べる実験を行った。まず、実施例1と同じ脱膜装置に実施例1と同様の被覆部材を収容し、密閉したチャンバーを減圧した。次いで、チャンバーに酸素ガスを導入し、チャンバーのガス圧力を133Pa(1Torr)に調整した。
次に、電力およびガス圧力と脱膜状態との関係を調べる実験を行った。まず、実施例1と同じ脱膜装置に実施例1と同様の被覆部材を収容し、密閉したチャンバーを減圧した。次いで、チャンバーに酸素ガスを導入し、チャンバーのガス圧力を調整した。
W 被覆部材
Claims (5)
- ダイヤモンド被膜またはダイヤモンド状の硬質炭素被膜で基材の表面が被覆された被覆部材をチャンバーに収容し、そのチャンバーを減圧する減圧工程と、
その減圧工程により減圧された前記チャンバーに酸素を含有する処理ガスを導入し、前記チャンバーを所定のガス圧力にする処理ガス導入工程と、
その処理ガス導入工程により所定のガス圧力にされた前記チャンバー内にパルス放電によりプラズマを発生させる放電工程とを備えていることを特徴とするダイヤモンド被膜または硬質炭素被膜の脱膜方法。 - 前記放電工程は、前記被覆部材の表面温度が520〜680℃になるようにプラズマを発生させることを特徴とする請求項1記載のダイヤモンド被膜または硬質炭素被膜の脱膜方法。
- 前記放電工程は、前記被覆部材の表面温度が600〜680℃になるようにプラズマを発生させることを特徴とする請求項1記載のダイヤモンド被膜または硬質炭素被膜の脱膜方法。
- 前記放電工程は、プラズマを発生させるために供給する直流電圧のパルス幅が0.5〜50μs、周期が0.5〜10kHzであることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のダイヤモンド被膜または硬質炭素被膜の脱膜方法。
- 前記放電工程は、プラズマを発生させるために供給する直流電圧のデューティ比によりパルス放電を制御することを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載のダイヤモンド被膜または硬質炭素被膜の脱膜方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011014089A JP2012152855A (ja) | 2011-01-26 | 2011-01-26 | ダイヤモンド被膜または硬質炭素被膜の脱膜方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011014089A JP2012152855A (ja) | 2011-01-26 | 2011-01-26 | ダイヤモンド被膜または硬質炭素被膜の脱膜方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012152855A true JP2012152855A (ja) | 2012-08-16 |
Family
ID=46835149
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011014089A Withdrawn JP2012152855A (ja) | 2011-01-26 | 2011-01-26 | ダイヤモンド被膜または硬質炭素被膜の脱膜方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2012152855A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016002603A (ja) * | 2014-06-13 | 2016-01-12 | 学校法人 芝浦工業大学 | 脱膜方法及び脱膜装置 |
JP2016121330A (ja) * | 2014-12-24 | 2016-07-07 | 株式会社ジェイテクト | 樹脂製部材の製造方法 |
CN115404487A (zh) * | 2022-08-29 | 2022-11-29 | 安徽光智科技有限公司 | Dlc膜的脱膜方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0252084A (ja) * | 1988-05-10 | 1990-02-21 | Prestations De Services Sps:Soc | アフターグロープラズマによる表面浄化方法 |
JPH03271200A (ja) * | 1990-03-19 | 1991-12-03 | Kobe Steel Ltd | ダイヤモンド薄膜のエッチング方法 |
JPH05339758A (ja) * | 1992-06-08 | 1993-12-21 | Nachi Fujikoshi Corp | ダイヤモンド被覆工具の再研磨・再被覆方法 |
JP2006185992A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Plasma Ion Assist Co Ltd | プラズマ成膜装置のクリーニング方法 |
JP2007194110A (ja) * | 2006-01-20 | 2007-08-02 | Ngk Insulators Ltd | 放電プラズマ発生方法 |
JP2007201029A (ja) * | 2006-01-25 | 2007-08-09 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 炭素材料が被着した被処理物の清浄方法 |
JP2008042078A (ja) * | 2006-08-09 | 2008-02-21 | Hyogo Prefecture | スズ除去方法及び装置 |
JP2008130503A (ja) * | 2006-11-24 | 2008-06-05 | Toyota Gakuen | 大気圧プラズマジェット装置 |
-
2011
- 2011-01-26 JP JP2011014089A patent/JP2012152855A/ja not_active Withdrawn
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0252084A (ja) * | 1988-05-10 | 1990-02-21 | Prestations De Services Sps:Soc | アフターグロープラズマによる表面浄化方法 |
JPH03271200A (ja) * | 1990-03-19 | 1991-12-03 | Kobe Steel Ltd | ダイヤモンド薄膜のエッチング方法 |
JPH05339758A (ja) * | 1992-06-08 | 1993-12-21 | Nachi Fujikoshi Corp | ダイヤモンド被覆工具の再研磨・再被覆方法 |
JP2006185992A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Plasma Ion Assist Co Ltd | プラズマ成膜装置のクリーニング方法 |
JP2007194110A (ja) * | 2006-01-20 | 2007-08-02 | Ngk Insulators Ltd | 放電プラズマ発生方法 |
JP2007201029A (ja) * | 2006-01-25 | 2007-08-09 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 炭素材料が被着した被処理物の清浄方法 |
JP2008042078A (ja) * | 2006-08-09 | 2008-02-21 | Hyogo Prefecture | スズ除去方法及び装置 |
JP2008130503A (ja) * | 2006-11-24 | 2008-06-05 | Toyota Gakuen | 大気圧プラズマジェット装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016002603A (ja) * | 2014-06-13 | 2016-01-12 | 学校法人 芝浦工業大学 | 脱膜方法及び脱膜装置 |
JP2016121330A (ja) * | 2014-12-24 | 2016-07-07 | 株式会社ジェイテクト | 樹脂製部材の製造方法 |
CN115404487A (zh) * | 2022-08-29 | 2022-11-29 | 安徽光智科技有限公司 | Dlc膜的脱膜方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5025614B2 (ja) | 大気圧プラズマ処理方法 | |
EP2754730B1 (en) | Carbon film forming apparatus | |
US8888982B2 (en) | Reduction of copper or trace metal contaminants in plasma electrolytic oxidation coatings | |
WO2020080058A1 (ja) | 窒化処理装置および窒化処理方法 | |
US10481330B2 (en) | System and method providing partial vacuum operation of arc discharge for controlled heating | |
JP2012152855A (ja) | ダイヤモンド被膜または硬質炭素被膜の脱膜方法 | |
JP6483266B2 (ja) | 基板処理方法、および、基板処理装置 | |
JP4145925B2 (ja) | プラズマエッチング方法 | |
US4900371A (en) | Method and apparatus for thermochemical treatment | |
JP2018206913A (ja) | 部材及びプラズマ処理装置 | |
JP4677612B2 (ja) | 炭素材料が被着した被処理物の清浄方法 | |
KR20110005661A (ko) | 표면 처리 방법 | |
JP3439423B2 (ja) | ダイヤモンド被膜除去方法およびダイヤモンド被覆部材の製造方法 | |
JP2006328510A (ja) | プラズマ処理方法及び装置 | |
JP2006249539A (ja) | 複合表面改質処理方法、装置および表面改質処理物 | |
EP3296419B1 (en) | Method for surface nitriding titanium material | |
WO2014156753A1 (ja) | 成膜装置 | |
JP6417103B2 (ja) | 表面処理装置および表面処理方法 | |
EP2243857A1 (en) | A method for the production of cubic boron nitride-containing films | |
JP7275927B2 (ja) | スパッタ装置の使用方法 | |
JP6883274B2 (ja) | 金属酸化物薄膜の製造方法及び薄膜製造装置 | |
JP2006005287A (ja) | 基板処理方法 | |
JP4255815B2 (ja) | ガス浸炭方法 | |
JP2013049898A (ja) | 真空加熱炉の絶縁抵抗改善方法 | |
JP4436987B2 (ja) | 成膜方法及び装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130821 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140414 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140520 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140714 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141224 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20150120 |