JP2012119426A - 可変キャパシタとその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1のレジストパターン11をマスクにするエッチングで第2の犠牲膜9に開口9aを形成する工程と、開口9a内と第1のレジストパターン11の上に、第2の誘電体膜13とキャパシタ電極14とを順に形成する工程と、第1のレジストパターン11を除去することにより、開口9a内に第2の誘電体膜13とキャパシタ電極14とを残す工程と、第2の犠牲膜9とキャパシタ電極14の上に第3の犠牲膜17を形成する工程と、第3の犠牲膜17の上面17bの凹部17xに突起抵抗21aを形成する工程と、第3の犠牲膜17と突起抵抗21aの上に可動上部電極25を形成する工程と、可動上部電極25を形成した後、第2の犠牲膜9と第3の犠牲膜17とを除去する工程とを有する可変キャパシタ100の製造方法による。
【選択図】図1
Description
前記下部電極の上に第1の犠牲膜を形成する工程と、
前記第1の犠牲膜の上に、窓を備えたレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンをマスクにして前記第1の犠牲膜をエッチングし、前記窓の下の前記第1の犠牲膜に開口を形成する工程と、
前記開口内と前記レジストパターンの上に、前記キャパシタの誘電体膜を形成する工程と、
前記誘電体膜の上にキャパシタ電極を形成する工程と、
前記キャパシタ電極を形成した後、前記レジストパターンを除去することにより、前記開口内に前記誘電体膜と前記キャパシタ電極とを残す工程と、
前記レジストパターンを除去した後、前記第1の犠牲膜と前記キャパシタ電極の上に第2の犠牲膜を形成する工程と、
前記第2の犠牲膜の上面において、前記キャパシタ電極の上面の凹凸を反映して凹部が形成された部分に、突起抵抗を形成する工程と、
前記第2の犠牲膜と前記突起抵抗の上に、前記キャパシタの可動上部電極を形成する工程と、
前記可動上部電極を形成した後、前記第1の犠牲膜と前記第2の犠牲膜とを除去し、前記可動上部電極を前記キャパシタ電極に向けて弾性変形可能にする工程と、
を有することを特徴とする可変キャパシタの製造方法。
前記第1の犠牲膜に前記開口を形成する工程において、前記第1の犠牲膜のエッチングを、SF6ガスをエッチングガスとするドライエッチングにより行うことを特徴とする付記3に記載の可変キャパシタの製造方法。
前記基板の上に形成されたキャパシタの下部電極と、
前記下部電極の上に順に形成された第1の誘電体膜及びキャパシタ電極と、
前記キャパシタ電極の上方に設けられ、該キャパシタ電極に近接可能な可動上部電極と、
前記可動上部電極の下面に形成され、先端の形状が先鋭な突起抵抗とを備え、
前記可動上部電極が前記キャパシタ電極に向けて弾性変形したときに、前記突起抵抗の前記先端が前記キャパシタ電極に当接することを特徴とする可変キャパシタ。
前記固定電極の上に形成された第2の誘電体膜と、
前記第2の誘電体膜の上に形成された導電性の台座とを更に有し、
前記可動上部電極の一部が、前記台座に固定されたことを特徴とする付記7又は付記8に記載の可変キャパシタ。
Claims (5)
- 基板の上にキャパシタの下部電極を形成する工程と、
前記下部電極の上に第1の犠牲膜を形成する工程と、
前記第1の犠牲膜の上に、窓を備えたレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンをマスクにして前記第1の犠牲膜をエッチングし、前記窓の下の前記第1の犠牲膜に開口を形成する工程と、
前記開口内と前記レジストパターンの上に、前記キャパシタの誘電体膜を形成する工程と、
前記誘電体膜の上にキャパシタ電極を形成する工程と、
前記キャパシタ電極を形成した後、前記レジストパターンを除去することにより、前記開口内に前記誘電体膜と前記キャパシタ電極とを残す工程と、
前記レジストパターンを除去した後、前記第1の犠牲膜と前記キャパシタ電極の上に第2の犠牲膜を形成する工程と、
前記第2の犠牲膜の上面において、前記キャパシタ電極の上面の凹凸を反映して凹部が形成された部分に、突起抵抗を形成する工程と、
前記第2の犠牲膜と前記突起抵抗の上に、前記キャパシタの可動上部電極を形成する工程と、
前記可動上部電極を形成した後、前記第1の犠牲膜と前記第2の犠牲膜とを除去し、前記可動上部電極を前記キャパシタ電極に向けて弾性変形可能にする工程と、
を有することを特徴とする可変キャパシタの製造方法。 - 前記第1の犠牲膜の厚さを、前記誘電体膜と前記キャパシタ電極との合計膜厚の最大値よりも薄くすることを特徴とする請求項1に記載の可変キャパシタの製造方法。
- 前記第1の犠牲膜に前記開口を形成する工程において、該開口の側面を前記窓の側面から後退させることにより、前記開口の上方に前記レジストパターンのオーバーハング部を形成することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の可変キャパシタの製造方法。
- 前記突起抵抗を形成する工程は、前記第2の犠牲膜の前記凹部に抵抗膜を埋め込むことにより行われることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の可変キャパシタの製造方法。
- 基板と、
前記基板の上に形成されたキャパシタの下部電極と、
前記下部電極の上に順に形成された第1の誘電体膜及びキャパシタ電極と、
前記キャパシタ電極の上方に設けられ、該キャパシタ電極に近接可能な可動上部電極と、
前記可動上部電極の下面に形成され、先端の形状が先鋭な突起抵抗とを備え、
前記可動上部電極が前記キャパシタ電極に向けて弾性変形したときに、前記突起抵抗の前記先端が前記キャパシタ電極に当接することを特徴とする可変キャパシタ。
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