JP2012097314A - 無排水による表面処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】処理槽2と、この処理槽2の側方に配置された水洗槽4と、処理槽2と水洗槽4との間に配置された回収槽3と、これら各槽2〜4の配置方向に沿って連設された複数の移動体6と、移動体6を処理槽2から回収槽3を経て水洗槽4へ向かう方向で搬送しつつ各槽2〜4の上方では移動体6を下降させ各槽間では移動体6を上昇させる搬送手段7とを有し、処理槽2と回収槽3とが第1向流手段11で接続されていると共に、回収槽3と水洗槽4とが第2向流手段12で接続されており、搬送手段7は、各槽2〜4間で移動体6を上昇させるときに移動体6の外面に生じている隅角部の一つが最低位となるように当該移動体6を斜めに傾斜させる。
【選択図】図1
Description
向流式とは、工程入口である処理槽から取り出した処理品を水洗槽へ向けて搬送するのとは反対に、工程出口側の水洗槽から工程入口の処理槽へ向けて、洗浄水を順次、逆流させる方式を言う。この向流式では、工程出口に近い水洗槽ほど洗浄水は綺麗で、工程入口(処理槽)に近い水洗槽ほど、水の汚れはひどくなる(処理液濃度が高い)という状態になる。
すなわち、処理槽から取り出した処理品を隣接の水洗槽へ浸漬させるときに、処理品による処理液の多量持ち出しが起こり、処理槽内の処理液は、常に減少してゆく状況が起こる。向流式の採用に伴い、水洗槽側から処理槽へ、処理液を含んだ洗浄水が逆流(供給)されるとしても、この逆流洗浄水の殆ど(水分)は濃縮器による蒸発で消失されるため、処理槽へ戻される処理液の量は、処理槽から持ち出される処理液の量に比して、格段に少ないものである。
即ち、本発明に係る無排水による表面処理装置は、処理液を貯留する処理槽と、この処理槽の側方に配置されて洗浄水を貯留する水洗槽と、処理槽と水洗槽との間に配置されて予洗用洗浄水を貯留する回収槽と、これら処理槽、回収槽、水洗槽の配置方向に沿って連設された複数の移動体と、これら移動体を処理槽から回収槽を経て水洗槽へ向かう方向で搬送しつつ各槽の上方では処理液、予洗用洗浄水、洗浄水のそれぞれと接触する高さに移動体を下降させ各槽間では槽と槽とを隔てる槽壁より上方となる高さに移動体を上昇させる搬送手段と、を有している。
そのうえで、前記搬送手段は、各槽間で移動体を上昇させるときに移動体の外面に生じている隅角部の一つが最低位となるように当該移動体を斜めに傾斜させることを特徴とする。
要するに、工程出口に設置される槽を「水洗槽」とおき、この水洗槽と工程入口に設置される処理槽との間に設置される槽を、全て「回収槽」と呼ぶものである。
前記搬送手段は、上昇し且つ傾斜した状態の移動体が槽壁を乗り越えるタイミングに合わせて、当該移動体の傾斜を解消させつつ、搬送方向下流側の槽内へ向けて下降開始させるように動作する構成にするのが好適である。
前記搬送手段は、前記昇降枠に対し各槽の槽外位置で搬送方向に平面視直交する軸心まわりに回転自在に保持された転動輪と、前記昇降枠が下方揺動したときにのみ前記転動輪に当接する高さで設置された回転付与レールと、前記転動輪が前記回転付与レールに当接して回転する回転動力を前記移動体に伝えて当該移動体を搬送方向に平面視直交する軸心まわりに回転させる回転駆動部と、を有したものとするのが好適である。
[第1実施形態]
図1乃至図5は、本発明に係る表面処理装置1の第1実施形態を示している。この表面処理装置1では、無排水操業が可能となっている。
図4及び図5に示すように、この表面処理装置1は、処理液を貯留する処理槽2と、予洗用洗浄水を貯留する回収槽3(3A〜3C)と、洗浄水を貯留する水洗槽4とを有しており、また、これら各槽2,3,4に沿って移動する複数の移動体6と、これら移動体6を移動させるための搬送手段7とを有している。
図5に示すように、処理槽2は工程入口に設けられ、この処理槽2の側方となる工程出口に水洗槽4が設けられる。そしてこれら処理槽2と水洗槽4との間に、単数又は複数の回収槽3が設けられている。本第1実施形態では、回収槽3として三槽(3A〜3C)が設けられているものとした。
これら処理槽2、回収槽3(3A〜3C)、水洗槽4に対し、処理品は、最初に処理槽2へ浸漬され、次に処理槽2に隣接する回収槽3Aに浸漬され、続いてこの回収槽3Aに隣接する回収槽3Bに浸漬され、以下同様に、回収槽3C、水洗槽4へと浸漬され、その後に次工程へ送られるようになっている。
これに対し、水洗槽4には洗浄水が貯留され、回収槽3には予洗用洗浄水が貯留される。この予洗用洗浄水は、使用開始時点では、水洗槽4で貯留される洗浄水と同じもの(即ち、水)である。しかし、後述するように、回収槽3を使用するにしたがい、予洗用洗浄水は水洗槽4で貯留される洗浄水に比べて処理液の濃度が高くなる。
更に、本第1実施形態において、処理槽2には配管部材16を介して予備槽15が接続されており、処理槽2の処理液を予備槽15へ送給できるようになっている。この予備槽15には、ヒーター17が設けられ、槽内の処理液を加熱昇温(例えば、25℃〜45℃、又は45℃より高温)させることができるようになっている。また、この予備槽15には濃縮器18が設けられ、この濃縮器18に対して、ポンプ19を具備した吸い上げ管20が接続されている。
移動体6は、処理品を収納するバレルとしてある。図1及び図2に示すように、本第1実施形態において移動体6は、正六角形の角筒形とされた胴体部6aと、この胴体部6aの両端側を、端部に近くなるにしたがって角錐台形にしぼませた胴端部6bとを有した空洞箱状のものとしている。従って、この移動体6の外面には、角筒形の胴体部6aと角錐台形の胴端部6bとの境界部分の全周を取り囲むようにして、隅角部6cが生じたものとなっている。
また、移動体6における一端側(図1及び図2の各左側)には開口部が形成されており、この開口部を介して処理品の出し入れができるようになっている。この開口部は、当該開口部の外周側に設けられた枢支部25を支点として揺動する蓋部材26により、開閉可能とされている。
搬送手段7は、全ての移動体6を、一斉に、処理槽2から回収槽3を経て水洗槽4へ向かう方向で搬送するものである。そしてこの搬送手段7には、搬送枠30、昇降枠31、及びカム32を有して構成される移動部昇降機構33と、転動輪34、回転付与レール35、及び回転駆動部36を有して構成される移動部回転機構37とを具備している。
この移動部昇降機構33が有する搬送枠30、及び昇降枠31は、それぞれの移動体6に対応させて、各別に設けられている。またこの移動部昇降機構33が有するカム32は、移動体6の移動方向に沿って複数設けられている。なお、この移動部昇降機構33は、更に移動体6の移動をガイドするガイドレール40を有している。
昇降枠31は、搬送枠30から各槽2〜4の上方へ向けて略水平に突出するように、片持ち支持されている。搬送枠30に対して昇降枠31が支持される部分には、軸心を搬送方向に沿って水平にした枢軸45が設けられており、この枢軸45を中心として昇降枠31は、各槽2〜4の上方を通過する先端側が上下するように、揺動自在となっている。
支持部材46,47のうち、移動体6において開口部が設けられた側(蓋部材26が設けられた方)の胴端部6bを支持する方の支持部材46は、この開口部の外周部を回転自在に外嵌している。
すなわち、昇降枠31に対し、移動体6は自転軸48まわりで回転自在に保持されている。昇降枠31が搬送枠30から突出する方向と、移動体6における自転軸48の軸心方向とは略平行している。
この上昇時の移動体6は、単に槽壁より高くされるだけではなく、胴体部6aと胴端部6bとの間に生じている隅角部6cが最低位となるように、斜めに傾斜した状態とされる。
カム32は、各槽2〜4に対応する配置とされており、それぞれ、各槽2〜4の槽外位置に設けられている。本第1実施形態では、各槽2〜4を介して搬送枠30を見るようにしたとき、搬送枠30を通り越した裏側位置にカム32が配置されているものとした。
本第1実施形態では、昇降枠31にカムフォロワー50を設けて、このカムフォロワー50によりカム32との当接が行われるようにしてある。このカムフォロワー50を設けることにより、カム32の下端縁と昇降枠31との当接が円滑になり、またカム32の下端縁に当接したままでの昇降枠31の円滑な移動が可能になる。また、昇降枠31と搬送枠30との間に、昇降枠31を引き上げる方向でバネ51を設けてある。このバネ51を設けることにより、カム32に昇降枠31(カムフォロワー50)が当接したとき、この昇降枠31が確実に上方揺動するようになっている。
一方、搬送枠30の搬送に伴って昇降枠31が移動する方向において、カム32の配置は次の関係が成り立つようにしてある。すなわち、カム32に昇降枠31(カムフォロワー50)が当接して昇降枠31(移動体6)が上昇したとき、次に、この上昇状態の昇降枠31が各槽2〜4間の槽壁を乗り越えるタイミングに合わせて、昇降枠31を下降開始させることができるように、カム32の配置を決めてある。
この移動部回転機構37は、前記したように転動輪34、回転付与レール35、及び回転駆動部36を有している。転動輪34、及び回転駆動部36は、それぞれの移動体6(昇降枠31)に対応させて、各別に設けられている。また回転付与レール35は、移動部昇降機構33のカム32やガイドレール40と同様に、各槽2〜4の槽外となる位置に固定状態で設けられている。
次に、本発明に係る表面処理装置1の動作について説明する。
まず、搬送手段7が、チェーン等の連結部材43による牽引動作として各搬送枠30を搬送させると、この搬送枠30と共に、昇降枠31及び移動体6が移動される。この移動により、昇降枠31によって保持された移動体6が、各槽2〜4の配置方向(図4の左右方向)に沿ってそれらの上方を通過するようになる。各移動体6には、ボルトやナット等の小物の処理品が多数、入れられているものとする。
このとき、転動輪34が回転付与レール35と当接して回転動力を受ける。そのため、この回転動力が回転駆動部36を介して移動体6の自転軸48へ伝えられ、移動体6は自転軸48のまわりに回転するようになる。
搬送手段7の搬送に伴う移動体6の移動が続行されて、上昇し且つ傾斜した状態の移動体6が、処理槽2と回収槽3Aとを隔てる槽壁を乗り越えるとき、カムフォロワー50がカム32に設けられた搬送方向下流側(図3左側)の斜辺部へ移行し、これによって昇降枠31が下方揺動を始める。従って移動体6は、上昇時の傾斜姿勢(図1参照)を解消させつつ回収槽3A内へ向けて下降開始する。
そしてまた、移動体6は、次の回収槽3Cの上方で予洗用洗浄水と接触する高さに下降し、当該回収槽3Cの槽内を移動後に上昇して槽壁を乗り越え、次の水洗槽4の上方では、洗浄水と接触する高さに下降し、当該水洗槽4の槽内を移動後に上昇して槽壁を乗り越えるといった具合に、各動作を繰り返し、そのうえで次工程へと搬送されてゆくものである。
図5に示すように、各槽2〜4間では、常に、水洗槽4から第2向流手段12を介して 回収槽3Cへと洗浄水が向流送給され、各回収槽3C→3B→3Aへと中間向流手段13を介して予洗用洗浄水が向流送給され、回収槽3Aから第1向流手段11を介して処理槽2へと予洗用洗浄水が向流送給されている。
[第2実施形態]
図6は、本発明に係る表面処理装置1の第2実施形態を示している。
なお、搬送枠30から昇降枠31が各槽2〜4の上方へ向けて略水平に突出するように、片持ち支持されている点、搬送枠30に対して昇降枠31が枢軸45を中心として上下揺動自在となっている点は、第1実施形態と同じである。
移動体6は、支持部材47に設けられた回転駆動部36の出力歯車36cを基礎として、この出力歯車36cからその回転軸方向に沿って突出する状態に連結された複数本の支持杆71と、出力歯車36cに近接した位置で支持杆71により保持された円盤形のホルダー部材72と、このホルダー部材72と対を成すように、出力歯車36cから離れた位置で支持杆71により保持された円盤形のホルダー73とを有している。
出力歯車36cに近接する方のホルダー部材72は、コップ形をした処理品Wのコップ口側を支持するもので、処理品Wのコップ口側をガタツキの無い嵌合状態に嵌め込む位置決め凸部74が形成されている。このホルダー部材72には、処理品W内へ向けて突出するようにして陽極電極75が支持されている。またこのホルダー部材72には、処理品Wの筒内面及び陽極電極75に対して処理液を接触流通させるための通孔が形成されている。
従って、本第2実施形態では、搬送手段7による搬送枠30の搬送に伴って昇降枠31が移動しつつ、この昇降枠31に保持された移動体6は、処理槽2などの各槽の上方で槽内へ向けた下降動作をし、またこの下降動作後に、槽壁を乗り越えるための上昇動作を行う。そして移動体6が上昇したときには、当該移動体6が、外形状の円柱形状をその長手方向が水平になる状態を越えて、その更に上方へ傾けるように保持される。
なお、本第2実施形態でも、移動体6の下降時には昇降枠31に設けられた転動輪34が回転付与レール35に当接して回転駆動部36を回転駆動される構成である。そのため、この回転駆動部36により、移動体6が、出力歯車36cの回転中心(すなわち、搬送方向に平面視直交する軸心)まわりに回転するものとなる。
[第3実施形態]
図7は、本発明に係る表面処理装置1の第3実施形態を示している。
本第3実施形態では、板状乃至ブロック状に形成された処理品Wを対象にしている。そして、この処理品Wの特徴的な形状に伴い、移動体6が、処理品W自体として構成されているものである。
昇降枠31には、移動体6(すなわち、処理品W)を着脱自在な状態として保持できるようにした保持機構85が設けられている。この保持機構85は、例えば、移動体6を挟持するクランプ装置であったり、移動体6を吊り下げるハンガー装置であったり、或いは移動体6をねじ止めする取付部材であったりする。このように、保持機構85の構造は、移動体6の形状や構造等に応じて適宜変更可能なものであり、何ら限定されるものではない。
従って、本第3実施形態では、移動体6各槽間の槽壁を乗り越えるための上昇動作を行ったときに、前記隅角部6cが最低位となるように傾斜して保持されることになる。そのため、移動体6の外面に付着残留する処理液が、最低位となっている隅角部6cへ向けて集中し、この処理液が、この隅角部6cから下方、すなわち、処理槽2等の槽内へ流下乃至滴下するようになる。
なお、本第3実施形態では移動部回転機構37を備えず、昇降枠31に回転駆動部36も設けられていない。本第3実施形態におけるその他の構成や動作状況及び作用効果は、第1、第2実施形態と略同様であり、ここでの詳説は省略する。
[第4実施形態]
図8は、本発明に係る表面処理装置1の第4実施形態を示している。本第4実施形態では、回収槽3(3A)から処理槽2へ向流接続するための第1向流手段11が、回収槽3Aから直接、処理槽2へ接続されるのではなく、一旦、予備槽15へ接続され、この予備槽15を介して支流配管57により処理槽2へ接続されるといった向流接続構造となっている。
[その他の実施形態]
本発明は、前記各実施形態に限定されるものではなく、実施の形態に応じて適宜変更可能である。
予備槽15は必ずしも必要ではない。すなわち、予備槽15を省略し、そのうえで処理槽2に対して濃縮器18やヒーター17を設けるようにしてもよい。なお、場合によっては、予備槽15(濃縮器18やヒーター17を設けたもの)を併用しつつ、処理槽2にも濃縮器18やヒーター17を設けるようにしてもよい。
2 処理槽
3 回収槽
3A〜3C 回収槽
4 水洗槽
5 移動体
6 移動体
6a 胴体部
6b 胴端部
6c 隅角部
7 搬送手段
10 メッキライン
11 向流手段
12 向流手段
13 中間向流手段
15 予備槽
16 配管部材
17 ヒーター
18 濃縮器
19 ポンプ
20 管
25 枢支部
26 蓋部材
30 搬送枠
31 昇降枠
32 カム
33 移動部昇降機構
34 転動輪
35 回転付与レール
36 回転駆動部
36a 入力歯車
36b 中間歯車
36c 出力歯車
37 移動部回転機構
40 ガイドレール
41 支持部材
42 車輪
43 連結部材
45 枢軸
46 支持部材
47 支持部材
48 自転軸
49 架設フレーム
50 カムフォロワー
51 バネ
55 輪軸
57 支流配管
58 除去器
71 支持杆
72 ホルダー部材
73 ホルダー部材
74 凸部
75 謡曲電極
76 口
77 蓋部材
80 押えピン
85 保持機構
W 処理品
Claims (5)
- 処理液を貯留する処理槽と、
この処理槽の側方に配置されて洗浄水を貯留する水洗槽と、
処理槽と水洗槽との間に配置されて予洗用洗浄水を貯留する回収槽と、
これら処理槽、回収槽、水洗槽の配置方向に沿って連設された複数の移動体と、
これら移動体を処理槽から回収槽を経て水洗槽へ向かう方向で搬送しつつ各槽の上方では処理液、予洗用洗浄水、洗浄水のそれぞれと接触する高さに移動体を下降させ各槽間では槽と槽とを隔てる槽壁より上方となる高さに移動体を上昇させる搬送手段と、を有し、
処理槽と回収槽とが回収槽の予洗用洗浄水を処理槽へ送給する第1向流手段によって接続されていると共に、回収槽と水洗槽とが水洗槽の洗浄水を回収槽へ送給する第2向流手段によって接続されており、
前記搬送手段は、各槽間で移動体を上昇させるときに移動体の外面に生じている隅角部の一つが最低位となるように当該移動体を斜めに傾斜させる
ことを特徴とする無排水による表面処理装置。 - 前記搬送手段は、
上昇し且つ傾斜した状態の移動体が槽壁を乗り越えるタイミングに合わせて当該移動体の傾斜を解消させつつ搬送方向下流側の槽内へ向けて下降開始させるように動作する
ことを特徴とする請求項1記載の無排水による表面処理装置。 - 前記搬送手段は、
各槽に沿った槽外を移動する搬送枠と、
この搬送枠から各槽の上方へ向けて上下揺動自在に片持ち支持されて各槽の上方を通過する位置で前記移動体を保持する昇降枠と、
前記搬送枠の移動に伴って搬送される昇降枠に対して各槽の槽外位置で当接することによりこの昇降枠に前記移動体を上昇させるための揺動力を付与するカムと、
を有していることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の無排水による表面処理装置。 - 前記搬送手段は、
前記昇降枠に対し各槽の槽外位置で搬送方向に平面視直交する軸心まわりに回転自在に保持された転動輪と、
前記昇降枠が下方揺動したときにのみ前記転動輪に当接する高さで設置された回転付与レールと、
前記転動輪が前記回転付与レールに当接して回転する回転動力を前記移動体に伝えて当該移動体を搬送方向に平面視直交する軸心まわりに回転させる回転駆動部と、
を有していることを特徴とする請求項3記載の無排水による表面処理装置。 - 前記移動体は、処理品を収納するバレル又は処理品を保持するホルダー又は処理品自体であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の無排水による表面処理装置。
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