JP2012097134A - フラットパネルディスプレイ用耐熱透明プラスチック基板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】それぞれ独立して炭素数3〜12の分岐状アルキル基又は環状アルキル基を有するフマル酸ジエステル残基単位を含むフマル酸ジエステル重合体(A)及び炭素数1〜12のアルキル基又は環状アルキル基を有するアクリル酸エステル残基単位を含むアクリル酸エステル重合体(B)を含有するフラットパネルディスプレイ用耐熱透明プラスチック基板。
【選択図】なし
Description
本発明の耐熱透明プラスチック基板に含有されるフマル酸ジエステル重合体(A)は、一般式(1)で示されるフマル酸ジエステル残基単位を含むものである。ここで、フマル酸ジエステル残基単位のエステル置換基であるR1、R2は、それぞれ独立して炭素数3〜12の分岐状アルキル基又は環状アルキル基であり、例えば、イソプロピル基、s−ブチル基、t−ブチル基、s−ペンチル基、t−ペンチル基、s−ヘキシル基、t−ヘキシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、特に耐熱性、機械特性に優れたものとなることからイソプロピル基、s−ブチル基、t−ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基であることが好ましく、特に耐熱性、機械特性のバランスに優れたものとなることからイソプロピル基が好ましい。ここで、R1又はR2が直鎖アルキルの場合、又は、炭素数が12を越える場合、フマル酸ジエステル系樹脂のガラス転移温度が低いものとなり、プラスチック基板の耐熱性が低下したり、機械特性が低いものとなる。一般式(1)で示されるフマル酸ジエステル残基単位としては、具体的には、フマル酸ジイソプロピル残基、フマル酸ジ−s−ブチル残基、フマル酸ジ−t−ブチル残基、フマル酸ジ−s−ペンチル残基、フマル酸ジ−t−ペンチル残基、フマル酸ジ−s−ヘキシル残基、フマル酸ジ−t−ヘキシル残基、フマル酸ジ−2−エチルヘキシル、フマル酸ジシクロプロピル残基、フマル酸ジシクロペンチル残基、フマル酸ジシクロヘキシル残基等が挙げられ、フマル酸ジイソプロピル残基、フマル酸ジ−s−ブチル残基、フマル酸ジ−t−ブチル残基、フマル酸ジシクロペンチル残基、フマル酸ジシクロヘキシル残基が好ましく、特にフマル酸ジイソプロピル残基が好ましい。
本発明の耐熱透明プラスチック基板は、ディスプレイに使用した際の画質、特にコントラストを維持するため、ヘーズが2%以下が好ましく、さらに1%以下が好ましい。
共重合体の組成は核磁気共鳴測定装置(日本電子製、商品名:JNM−GX270)を用い、プロトン核磁気共鳴分光(1H−NMR)スペクトル分析より求めた。
ゲルパーミエイションクロマトグラフィー(GPC)装置(東ソー製、商品名:C0−8011(カラムGMHHR−Hを装着))を用い、テトラヒドロフランを溶媒として、40℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。
作成したフィルムの光線透過率及びヘーズは、ヘーズメーター(日本電色工業製、商品名:NDH2000)を使用し、光線透過率の測定はJIS K 7361−1(1997版)に、ヘーズの測定はJIS−K 7136(2000年版)に、それぞれ準拠して測定した。
試料傾斜型自動複屈折計(王子計測機器株式会社製、商品名:KOBRA−WR)を用いて波長589nmの光りを用いて仰角を変えてプラスチック基板の厚み方向の位相差(Rth)を測定した。
200℃にセットしたオーブンにプラスチック基板を入れ30分加熱後の外観変化により評価した。
10mm×100mm(SSK 1874−1)に打ち抜いた試験片を、テンシロン型引張試験機(株式会社オリエンテック製、商品名:UTM−2.5T)にて速度5mm/minで引張り、最大点伸度を求めた。
5リットルオートクレーブ中に、ヒドロキシプロピルメチルセルロース0.2wt%を含む蒸留水2400g、フマル酸ジイソプロピル1388g、フマル酸ジエチル212g、重合開始剤としてパーブチルPV12.7gを仕込み、重合温度45℃、重合時間36時間の条件にて懸濁ラジカル重合反応を行った。得られ重合体粒子を濾過回収し、水、メタノールで十分に洗浄し80℃にて乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル・フマル酸ジエチル重合体を得た。得られたフマル酸ジイソプロピル・フマル酸ジエチル重合体の数平均分子量は120000、フマル酸ジイソプロピル単位87モル%、フマル酸ジエチル単位13モル%であった。
5リットルオートクレーブ中に、ヒドロキシプロピルメチルセルロース0.2wt%を含む蒸留水2600g、フマル酸ジイソプロピル1232g、フマル酸ジ−n−ブチル168g、重合開始剤としてパーブチルPV11gを仕込み、重合温度46℃、重合時間42時間の条件にて懸濁ラジカル重合反応を行った。得られ重合体粒子を濾過回収し、水、メタノールで十分に洗浄し80℃にて乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル・フマル酸ジ−n−ブチル重合体を得た。得られた重合体の数平均分子量は98000、フマル酸ジイソプロピル単位90モル%、フマル酸ジブチル単位10モル%であった。
200mLアンプルにフマル酸ジイソプロピル28g、パーブチルPV0.2gを仕込み、脱気−窒素置換を数回繰り返した後、重合温度50℃で24時間重合反応を行った。重合終了後アンプルにトルエン120mLを添加し内容物を溶解させた後、過剰のメタノールに内容物を注ぎ、重合体を析出させた。濾過、メタノール洗浄を3回繰り返し重合体を80℃で乾燥させた。得られた重合体の数平均分子量は146000、フマル酸ジイソプロピル単位100モル%であった。
合成例1により得られたフマル酸ジイソプロピル・フマル酸ジエチル重合体80g、アクリル酸エチル重合体(アルドリッチ製、分子量4.8万)20gをトルエン400gに溶解し20重量%溶液とし、さらに、酸化防止剤としてトリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト0.15gおよびペンタエリスリトール−テトラキス(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート)0.05gを添加した後、Tダイ法により溶液流延装置の支持体に流延し、乾燥温度80℃、次いで120℃と段階的に乾燥した後、幅200mm、厚み50μmのディスプレイ用耐熱透明プラスチック基板を得た。
合成例2により得られたフマル酸ジイソプロピル・フマル酸ジ−n−ブチル重合体90g、アクリル酸エチル重合体(アルドリッチ製、分子量4.8万)10gをトルエン400gに溶解し20重量%溶液とし、さらに、酸化防止剤としてトリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト0.15gおよびペンタエリスリトール−テトラキス(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート)0.05gを添加した後、Tダイ法により溶液流延装置の支持体に流延し、乾燥温度80℃、次いで120℃と段階的に乾燥した後、幅200mm、厚み47μmのディスプレイ用耐熱透明プラスチック基板を得た。
合成例1により得られたフマル酸ジイソプロピル・フマル酸ジエチル重合体75g、アクリル酸エチル重合体(アルドリッチ製、分子量4.8万)25gをトルエン400gに溶解し20重量%溶液とし、さらに、酸化防止剤としてトリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト0.15gおよびペンタエリスリトール−テトラキス(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート)0.05gを添加した後、Tダイ法により溶液流延装置の支持体に流延し、乾燥温度80℃、次いで120℃と段階的に乾燥した後、幅200mm、厚み45μmのディスプレイ用耐熱透明プラスチック基板を得た。
合成例3により得られたフマル酸ジイソプロピル単独重合体85g、アクリル酸エチル重合体(アルドリッチ製、分子量4.8万)15gをトルエン400gに溶解し20重量%溶液とし、さらに、酸化防止剤としてトリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト0.15gおよびペンタエリスリトール−テトラキス(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート)0.05gを添加した後、Tダイ法により溶液流延装置の支持体に流延し、乾燥温度80℃、次いで120℃と段階的に乾燥した後、幅200mm、厚み50μmのディスプレイ用耐熱透明プラスチック基板を得た。
合成例2により得られたフマル酸ジイソプロピル・フマル酸ジ−n−ブチル重合体90g、アクリル酸ブチル重合体(総研化学製、分子量15万)10gをトルエン400gに溶解し20重量%溶液とし、さらに、酸化防止剤としてトリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト0.15gおよびペンタエリスリトール−テトラキス(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート)0.05gを添加した後、Tダイ法により溶液流延装置の支持体に流延し、乾燥温度80℃、次いで120℃と段階的に乾燥した後、幅200mm、厚み47μmのディスプレイ用耐熱透明プラスチック基板を得た。
合成例1により得られたフマル酸ジイソプロピル・フマル酸ジエチル重合体100gをトルエン400gに溶解し20重量%溶液とし、さらに、酸化防止剤としてトリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト0.15gおよびペンタエリスリトール−テトラキス(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート)0.05gを添加した後、Tダイ法により溶液流延装置の支持体に流延し、乾燥温度80℃、次いで120℃と段階的に乾燥した後、幅200mm、厚み50μmのディスプレイ用耐熱透明プラスチック基板を得た。
アクリル酸エチル重合体(アルドリッチ製、分子量4.8万)100gをトルエン400gに溶解し20重量%溶液とし、さらに、酸化防止剤としてトリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト0.15gおよびペンタエリスリトール−テトラキス(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート)0.05gを添加した後、Tダイ法により溶液流延装置の支持体に流延し、乾燥温度80℃、次いで120℃と段階的に乾燥した後、幅200mm、厚み50μmのプラスチック基板を得た。
Claims (7)
- フマル酸ジエステル重合体(A)が、一般式(1)で示されるフマル酸ジエステル残基単位60モル%以上、及びフマル酸ジエステル類と共重合可能な残基単位40モル%以下を含む重合体であることを特徴とする請求項1に記載のフラットパネルディスプレイ用耐熱透明プラスチック基板。
- フマル酸ジエステル重合体(A)が、一般式(1)で示されるフマル酸ジエステル残基単位60〜90モル%、及びフマル酸ジエチル残基単位、フマル酸ジ−n−プロピル残基単位、フマル酸ジ−n−ブチル残基単位から選ばれるフマル酸ジエステル残基単位10〜40モル%を含む重合体であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のフラットパネルディスプレイ用耐熱透明プラスチック基板。
- アクリル酸エステル重合体(B)が、一般式(2)で示されるアクリル酸エステル残基単位60モル%以上を含む重合体であることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかの項に記載のフラットパネルディスプレイ用耐熱透明プラスチック基板。
- フマル酸ジエステル重合体(A)60〜99重量%及びアクリル酸エステル重合体(B)1〜40重量%を含有することを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれかの項に記載のフラットパネルディスプレイ用耐熱透明プラスチック基板。
- 基板の厚みが10〜200μmであり、基板厚み方向の位相差(Rth)が0〜−200nmであることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれかの項に記載のフラットパネルディスプレイ用耐熱透明プラスチック基板。
- ヘーズが2%以下であることを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれかの項に記載のフラットパネルディスプレイ用耐熱透明プラスチック基板。
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