JP2012078152A - 投光ビームの調整方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】シャインプルーフ光学系を用いた光学式変位センサにおいて、測定精度が安定した投光ビームの調整方法を提供する。
【解決手段】シャインプルーフ光学系を用いた光学式変位センサ10は、測定対象物に対して光を照射する投光モジュール9と、投光モジュール9からの光が測定対象物で反射して、反射光を受光面で受光する受光部13と、測定対象物と受光部13との間に位置して、反射光を受光面に結像する受光レンズ14とを備える。投光ビームの調整方法は、受光部13における像のサイズが、投光モジュール9を構成する投光レンズ12と測定対象物との距離によらず一定になるように光源11から照射される光の焦点位置を調整する。
【選択図】図6

Description

この発明は光学式変位センサにおける投光ビームの調整方法に関し、特に、測定精度が安定した光学式変位センサにおける投光ビームの調整方法に関する。
従来の光学式変位センサが、例えば、特開2008−145160号公報(特許文献1)に開示されている。図7は、特許文献1に開示の従来の光学式変位センサ100を示す図である。図7を参照して、光学式変位センサ100は、測定対象物106に対して光を照射するレーザダイオード101a、およびレーザダイオード101aからの光を集光する投光レンズ101bを含む投光モジュール101と、投光モジュール101からの光が測定対象物106で反射することにより、その反射光を受光面103aで受光するCCD103と、反射光をCCD103の受光面103aに結像する受光レンズ104とを備える。
光学式変位センサ100は、レーザダイオード101aから測定対象物106に向けて光を照射すると、照射した光が測定対象物106で反射して、受光レンズ104を介して、その反射光をCCD103の受光面103aが受光することにより、この受光した像の位置に基づいて、測定対象物106の変位を測定する。
ここで、レーザダイオード101からの光は投光レンズ107を通って測定対象物106に投光される。この投光レンズ107を通る投光光線を投光ビームという。
特開2008−145160号公報
ここで、レーザダイオード101、CCD103、および受光レンズ104は、シャインプルーフの条件を満たすように調整して配置されている。具体的には、CCD103の受光面103aは、所定の幅Wを有しており、受光面103aが反射光を受光可能な範囲となる対象物の反射位置は、レーザダイオード101の光軸、すなわち投光軸L上で、所定の幅Wを有している。そして、反射位置と、受光面103aと、受光レンズ104の主面104aとを延長した線が一点Dで交わるように調整して配置される。この調整により、所定の幅Wのどの位置で反射した反射光であっても、結像の際に受光面103a全体でピントが合うようになる。
図8はシャインプルーフの条件を満たすように調整して配置されている従来の変位センサの光学系において、測定対象物の位置における投光ビーム108によるスポット径S1〜S3と、そのスポット径S1〜S3が反射して、CCD103上に形成される像の大きさを示す模式図である。ここでは、測定対称物が投光レンズ101bに近い場合(図中「近」と表示)と、遠い場合(図中「遠」と表示)と、その中間位置(図中「中」と表示)とに存在する場合に分けて示している。従来においては、投光ビーム108の焦点を中間位置の投光レンズ101b側に設定していたため、投光ビーム108は図8に示すようになる。その結果、測定対象物が投光レンズ101bに近い場合が最もスポット径S1が大きく、次いで遠い場合のスポット径S3が近い場合より若干小さく、中間位置にあるときはスポット径S2が最も小さい。これらのスポット径S1〜S3を、受光レンズ104を通してCCD103上に結像すると、測定対称物が光源に近い場合は像の幅が最も大きく、遠い場合は2番目に大きく、中間の位置にあるときは小さい。これは、像のサイズがスポット径×倍率で決定されるためである。ここで、倍率とは、図7および図8に示した光学系において、受光部103に形成される像のサイズの測定対象物のスポット径S1〜S3に対する比で定まる光学倍率である。
たとえば、近い場合のスポット径S1を2とすると、中間ではS2が1、遠い場合はS3が2.0となる。一方、光学倍率は、たとえば、近い場合は約0.3倍、中間では0.25倍、遠い場合は0.2倍となる。これらの値から、像のサイズは、近い場合は0.6、中間では0.25、遠い場合は0.4となるためである。この状態を表1に示す。
Figure 2012078152
なお、ここでは光学倍率として、近い場合は約0.3倍、中間では0.25倍、遠い場合は0.2倍と表示したが、このようなシャインプルーフ光学系では基本的にこのような比で表される。
光学式変位センサにおいて、測定位置を正確に検出するには、CCD103を構成する複数のフォトダイオードの上にまたがって像が形成されるほうが検出しやすい。
したがって、像のフォトダイオード上のサイズ(幅)が小さいと実際に像が存在するのか否かがはっきりしなくなる。すなわち、従来の投光ビームの調整方法では測定位置によってスポット径が異なるため、CCD上における像のサイズがばらつく。その結果、測定精度がばらつくという問題があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされたもので、シャインプルーフ光学系を用いた光学式変位センサにおいて、測定精度が安定した投光ビームの調整方法を提供することを目的とする。
この発明に係る、投光ビームの調整方法は測定対象物に対して投光する投光レンズを有する光学式変位センサの投光ビームの調整方法である。光学式変位センサは、測定対象物で反射した反射光を受光する受光部と、対象物と受光部との間に位置して、反射光を受光面に結像する受光レンズとを備える。投光レンズと受光部と受光レンズとはシャインプルーフの条件満たすように配置される。投光ビームの調整方法は受光部における反射光によって形成される像のサイズが、投光レンズと測定対象物との距離によらず一定になるように、投光レンズから照射される光の焦点位置を調整する。
好ましくは、投光ビームはレーザ光である。
なお、像のサイズは投光ビームによって形成される測定対象物のスポット径と、受光部に形成される像のサイズの測定対象物のスポット径に対する比で定まる光学倍率との積によって決まる。
受光部における像のサイズが、光源と測定対象物との距離によらず一定になるように光源から照射される光の焦点位置を調整するステップは、受光部における像のサイズが、受光部を構成する複数のフォトダイオードのうち、少なくとも3個以上のフォトダイオードの上に像を形成するよう調整するステップを含むのが好ましい。
この発明の他の局面は、測定対象物に対して投光する投光レンズを有する光学式変位センサの投光ビームの調整方法である。光学式変位センサは、測定対象物で反射した反射光を受光する受光部と、対象物と受光部との間に位置して、反射光を前記受光面に結像する受光レンズとを備え、投光レンズと受光部と前記受光レンズとはシャインプルーフの条件満たすように配置される。受光部における反射光によって形成される像のサイズが、投光レンズと測定対象物との距離によらず受光部における像のサイズが、受光部を構成する複数のフォトダイオードの上に像を形成するように投光レンズから照射される光の焦点位置を調整する。
この発明に係る投光ビームの調整方法は、測定対象物からの反射光による受光部における像のサイズが、投光レンズと測定対象物との距離によらず一定になるように投光レンズから照射される光の焦点位置を調整する。
その結果、測定精度が安定した投光ビームの調整方法を提供できる。
光学式変位センサの外観を示す斜視図である。 図1に示す光学式変位センサの蓋を取り外し、矢印IIの方向から見た場合の平面図である。 投光レンズを示す斜視図である。 受光レンズを示す斜視図である。 光学式変位センサを示す模式図である。 この実施の形態における測定位置ごとのスポット径の大きさと受光部における像のサイズとの関係を示す図である。 特許文献1に開示の従来の光学式変位センサを示す図である。 従来のシャインプルーフを満たす変位センサの光学系において、測定対象物の位置におけるスポット径と像の状態とを示す図である。
以下、図面を参照して、この発明の一実施形態に係る光学式変位センサの調整方法について説明する。図1は、光学式変位センサ10の外観を示す斜視図である。図2は、図1に示す光学式変位センサ10の蓋33を取り外し、矢印IIの方向から見た場合の平面図である。なお、図2においては、光学式変位センサ10の平面図に加え、測定対象物16も図示している。図1および図2を参照して、光学式変位センサ10は、測定対象物16の変位を測定する。光学式変位センサ10は、略直方体形状の筐体30の内部に、測定対象物16に対して所望のビーム形状の光を照射する投光モジュール9と、投光モジュール9からの光による測定対象物16からの反射光を受光する受光素子13と、測定対象物16と受光素子13との間に位置する受光レンズ14とを備える。投光モジュール9は、光を照射する光源11と、測定対象物16と光源11との間に位置する投光レンズ12とを含む構成である。投光モジュール9、受光素子13、および受光レンズ14は、所定の光学系を構成する。なお、図2中の三点鎖線で、投光モジュール9による照射される光線であり、投光モジュール9の光軸、すなわち投光軸Lと、測定対象物16からの反射光を受光する受光レンズ14の光軸、すなわち受光軸Lとを示している。
筐体30は、底部に配置され、光学式変位センサ10の光学系を構成する部材が固定される底面31と、開口部32a,32bを有し、底面31の周縁を取り囲むように配置される側壁32と、底面31に対向して配置される蓋33とを含む。底面31は、平面状であって、その上に光源11等が固定される。側壁32は、図示はしないが、ケーブル等を接続可能な接続部を有する構成である。そして、開口部32aは、受光レンズ14に対向するように設けられており、開口部32bは、投光レンズ12に対向するように設けられている。
図3は、投光レンズ12を示す斜視図である。図4は、受光レンズ14を示す斜視図である。図1〜図4を参照して、光源11は、レーザダイオードであって、測定対象物16に対してレーザビームを照射する。投光レンズ12は、レンズを収容するレンズホルダーを含み、光源11から照射された光を集光し、光源11からの光を所定の形状に調整する。受光素子13は、CCD(Charge Coupled Device)センサであって、受光面に測定対象物16からの反射光を受光する。受光面は、複数の受光素子がライン状に配置されている。受光レンズ14は、例えば、反射光の入射する表面が非球面形状の単レンズであって、レンズホルダー15に収容されており、測定対象物16からの反射光を集光して受光面に結像する。受光レンズ14は、受光軸Lが受光レンズ14の中心を通るようにして配置されており、受光レンズ14の主面が、受光軸Lに直交するようにして配置されている。
また、レンズホルダー15は、例えば、受光レンズ14の周縁の4箇所を掛止するようにして受光レンズ14を収容しており、底面31と接する面は、平面状であり、矢印IIの方向から見た場合の形状が、略四角形状である。また、レンズホルダー15の周囲には、ピン15a〜15dが4箇所底面31に固定されている。この4個のピン15a〜15dは、レンズホルダー15の略四角形状の各頂点に対応するようにして配置されており、レンズホルダー15を移動させる際の位置決め部材となる。
光学式変位センサ10は、投光モジュール9の光源11からレーザビームを照射すると、照射した光が側壁32の開口部32bを介して測定対象物16に到達し、測定対象物16で反射する。そして、測定対象物16からの反射光が側壁32の開口部32aを介して受光レンズ14に入射し、受光レンズ14が反射光を受光面に結像する。そして、結像の際の受光した像の位置を検出する。これにより、光学式変位センサ10は、測定対象物16の投光軸L方向の変位を測定する。
ここで、光学式変位センサ10は、投光レンズ12、受光素子13、および受光レンズ14をシャインプルーフの条件を満たすように調整して配置される。図5は、光学式変位センサ10を示す模式図である。図5を参照して、具体的には、光学式変位センサ10は、測定対象物16の変位を測定可能な所定の測定範囲Wを有している。この所定の測定範囲Wは、測定対象物16における光の反射位置16aを示すものであり、投光軸L上の光源11に近い第一の位置PN1から、光源11から離れた第二の位置PF1までの範囲である。すなわち、測定対象物16における光の反射位置16aは、投光軸L上の所定の測定範囲Wの幅を有する。なお、図5中の点線で、第一の位置PN1の測定対象物16´、および第二の位置PF1の測定対象物16´´を示し、所定の測定範囲Wである光の反射位置16aを太線で示している。そして、所定の測定範囲Wは、例えば20〜30mmである。受光素子13の受光面13aは、所定の測定範囲Wに対応して、光源11に近い位置PN2から光源11から離れた位置PF2までの所定の幅Wを有する。
そして、光学式変位センサ10は、所定の光学系がシャインプルーフの条件を満たすように、すなわち、測定対象物16における反射位置16a(投光軸L)と、受光レンズ14の主面14aと、受光素子13の受光面13aとを延長した線が一点Sで交わるように、調整して配置される。これにより、光学式変位センサ10は、測定範囲Wのどの位置で反射した反射光であっても、結像の際に受光面13aでピントが合うようになる。そして、光学式変位センサ10は、測定範囲Wにおける測定対象物16の変位を測定する。
次に、この実施の形態における投光レンズ12による投光ビーム18の調整方法を説明する。図6はこの実施の形態において、投光ビーム18を調整した場合のスポット径S1〜S3と光学倍率と像サイズとの関係を示す図である。実際の、投光ビーム18による測定対象物16の位置と受光部13である、CCD上の像との関係は図5に示すとおりであるが、ここでは、理解の容易のために、従来例において図8で示したように簡素化している。
図6を参照して、この実施の形態においては、従来の図8と同様に、光学式変位センサ10は、投光レンズ12、受光部13、および受光レンズ14は、シャインプルーフの条件を満たすように調整して配置されている。
この実施の形態においては、受光部13上の像を確実に検出するために、受光部13上において形成される像は、受光部13を構成する複数のフォトダイオード上に像を形成するとともに、像の幅サイズが同一(ここでは1)となるように調整する。ここでは、たとえば、3個分以上のフォトダイオード上に形成するように調整する。この調整状態を表2に示す。
上記したように、像サイズはスポット径×倍率で表される。この構成のシャインプルーフ配置においては、近い位置、中間位置、および、遠い位置における倍率は表2の倍率欄に示すように、たとえば、0.3、0.25、および、0.2である。この条件を満たすスポット径S1〜S3は、それぞれ、同一サイズ/倍率、すなわち、1/0.3、1/0.25、1/0.2から計算可能であり、それぞれ、3.3、4.0、5.0となる。すなわち、図1においてS1〜S3に示すように、近い側から遠い側に向けて順にスポット径が大きくなるように、投光ビームの光学系を調整すればよい。この例では、1:1.2:1.5の比になるように調整されている。
このようなスポット径を得るためには、投光レンズ12から照射された投光ビーム18の焦点位置を「近い」側の位置の少し「遠い」側となるように調整すればよい。
Figure 2012078152
なお、上記実施の形態においては、焦点位置は、像のサイズが一定で、且つ、受光部13上に形成される像が受光部13を構成するCCDの3個のフォトダイオードの上に像を形成する場合を例にあげて説明したが、これに限ることはない。
この理由は、投光レンズと測定対象物との距離によらず一定の像サイズになるまで焦点位置を調整する、すなわち、投光ビームのビームサイズの比率にあったビームを形成すると、ビーム径が大きくなりすぎたり、パワーが低くなる等の他の性能が低下する可能性があるためである。したがって、受光部13を構成するCCDの複数のフォトダイオード上に像を形成するだけでも十分所望の測定結果を得ることができる。
また、ここでは、複数のフォトダイオードとして、たとえば3個の場合を例にあげて説明したが、安定した計測精度を実現するためには5個以上が望ましい。
また、上記実施の形態においては、像のサイズが「スポット径×倍率」で表され、このサイズが一定になるように調整する場合について説明したが、これは、光学系の収差が発生しない理想光学系を考慮したためである。実際には投光レンズには収差が発生するため、像のサイズは、「スポット径×倍率+光学系の収差」となる。したがって、この収差を考慮した像のサイズを用いるのがさらに好ましい。
なお、上記実施の形態においては、投光ビームはレーザ光である場合について説明したが、これに限らず、LED照明等であってもよい。
また、上記実施の形態は、「近い」位置、「中間」位置、および、「遠い」位置における光学倍率が特定の値の場合について説明したが、この値はシャインプルーフを満たす光学系によって変化する。
また、上記実施の形態においては、受光部における像のサイズをほぼ同一に調整する方法について詳細に述べていないが、「近い」位置、「中央」位置、および「遠い」位置をあらかじめ規定し、これらの位置における像を形成して、一定の像のサイズを決めておき、このサイズ、または、このサイズより大きくなるように、焦点位置を自動的に調整するようにしてもよい。
また、上記の実施の形態においては、受光部は、CCDセンサである例について説明したが、これに限ることなく、CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)センサであってもよい。
以上、図面を参照してこの発明の実施形態を説明したが、この発明は、図示した実施形態のものに限定されない。図示された実施形態に対して、この発明と同一の範囲内において、あるいは均等の範囲内において、種々の修正や変形を加えることが可能である。
この発明は、光学式変位センサを調整する際に、有利に利用される。
10 光学式変位センサ、9 投光モジュール、11 光源、12 投光レンズ、13 受光部、14 受光レンズ、16 測定対象物、18 投光ビーム。

Claims (5)

  1. 測定対象物に対して投光する投光レンズを有する光学式変位センサの投光ビームの調整方法であって、
    前記光学式変位センサは、前記測定対象物で反射した反射光を受光する受光部と、前記対象物と前記受光部との間に位置して、前記反射光を前記受光面に結像する受光レンズとを備え、
    前記投光レンズと前記受光部と前記受光レンズとはシャインプルーフの条件満たすように配置され、
    前記受光部における前記反射光によって形成される像のサイズが、前記投光レンズと前記測定対象物との距離によらず一定になるように前記投光レンズから照射される光の焦点位置を調整することを特徴とする、投光ビームの調整方法。
  2. 前記投光ビームはレーザ光である、請求項1に記載の投光ビームの調整方法。
  3. 前記像のサイズは前記投光ビームによって形成される前記測定対象物のスポット径と、前記受光部に形成される像のサイズの前記測定対象物のスポット径に対する比で定まる光学倍率との積によって決まる、請求項1または2に記載の投光ビームの調整方法。
  4. 前記受光部における像のサイズが、光源と測定対象物との距離によらず一定になるように光源から照射される光の焦点位置を調整するステップは、受光部における像のサイズが、受光部を構成する複数のフォトダイオードのうち、少なくとも3個以上のフォトダイオードの上に像を形成するよう調整するステップを含む、請求項1〜3のいずれかに記載の投光ビームの調整方法。
  5. 測定対象物に対して投光する投光レンズを有する光学式変位センサの投光ビームの調整方法であって、
    前記光学式変位センサは、前記測定対象物で反射した反射光を受光する受光部と、前記対象物と前記受光部との間に位置して、前記反射光を前記受光面に結像する受光レンズとを備え、
    前記投光レンズと前記受光部と前記受光レンズとはシャインプルーフの条件満たすように配置され、
    前記受光部における前記反射光によって形成される像のサイズが、前記投光レンズと前記測定対象物との距離によらず受光部における像のサイズが、受光部を構成する複数のフォトダイオードの上に像を形成するように前記投光レンズから照射される光の焦点位置を調整することを特徴とする、投光ビームの調整方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022190522A1 (ja) * 2021-03-10 2022-09-15 オムロン株式会社 三角測距式変位センサ

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6142501B2 (ja) * 2012-10-30 2017-06-07 オムロン株式会社 光学式センサ
JP6128902B2 (ja) 2013-03-08 2017-05-17 株式会社ミツトヨ 形状測定装置
TWI595424B (zh) * 2013-10-09 2017-08-11 Opto電子有限公司 光學訊息讀取裝置及照明方法
EP3264034B1 (de) * 2016-06-30 2020-02-26 Leica Geosystems AG Vermessungsgerät mit höhenmesssystem und verfahren zum messen einer höhe
JP6587599B2 (ja) * 2016-12-02 2019-10-09 オムロンオートモーティブエレクトロニクス株式会社 物体検出装置
JP7034803B2 (ja) * 2018-03-30 2022-03-14 浜松ホトニクス株式会社 測距ユニット及び光照射装置
CN109444913A (zh) * 2018-12-28 2019-03-08 广州市合熠电子科技有限公司 一种数字智能型微型激光位移传感器及其测距方法
US20220228854A1 (en) * 2019-06-27 2022-07-21 Otsuka Electronics Co., Ltd. Measurement device and measurement method
WO2024157611A1 (ja) * 2023-01-25 2024-08-02 パナソニックIpマネジメント株式会社 距離測定装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09257467A (ja) * 1996-03-22 1997-10-03 Omron Corp 光学式変位測定装置
JP2000088519A (ja) * 1998-09-17 2000-03-31 Omron Corp 光式センサ
JP2005241621A (ja) * 2003-08-20 2005-09-08 Sunx Ltd 光学測定装置及び光学測定装置における距離算出方法
JP2008145160A (ja) * 2006-12-07 2008-06-26 Keyence Corp 光学式変位センサ及びその調整方法
JP2008304190A (ja) * 2007-06-05 2008-12-18 Toyo Seiki Seisakusho:Kk レーザ反射光による被計測物の高精度変位計測方法とその装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH095048A (ja) * 1995-06-16 1997-01-10 Sony Corp 表面形状測定装置
JP2007121122A (ja) * 2005-10-28 2007-05-17 Omron Corp 変位センサ

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09257467A (ja) * 1996-03-22 1997-10-03 Omron Corp 光学式変位測定装置
JP2000088519A (ja) * 1998-09-17 2000-03-31 Omron Corp 光式センサ
JP2005241621A (ja) * 2003-08-20 2005-09-08 Sunx Ltd 光学測定装置及び光学測定装置における距離算出方法
JP2008145160A (ja) * 2006-12-07 2008-06-26 Keyence Corp 光学式変位センサ及びその調整方法
JP2008304190A (ja) * 2007-06-05 2008-12-18 Toyo Seiki Seisakusho:Kk レーザ反射光による被計測物の高精度変位計測方法とその装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022190522A1 (ja) * 2021-03-10 2022-09-15 オムロン株式会社 三角測距式変位センサ

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