JP2012076078A - 流動層反応器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 ヘッドと、前記ヘッドの下に位置して前記ヘッドと連結され、前記ヘッドの直径より小さな直径を有する第1反応管がその内部に位置する第1ボディ部と、前記第1ボディ部の下に位置して前記第1ボディ部と連結され、前記第1反応管の直径と実質的に同一の直径を有する第2反応管がその内部に位置する第2ボディ部と、前記第2ボディ部と連結された底面部と、を含む。
【選択図】 図1a
Description
第2プレートは、複数の単位プレートを含み、前記複数の単位プレートのうち隣接した単位プレートと接触されたヒーターを含み、前記隣接した単位プレートは互いに絶縁される。
ヒーターにヒーターキャップが被せられ、前記ヒーターキャップは、前記ヒーターキャップの長さ方向に対して垂直の方向に延びた係止突起を含み、前記ヒーターキャップの係止突起は、前記第3プレートの複数の単位プレートの間に嵌められて固定される。
第2プレートの周りを囲む絶縁リングが設けられる。
支持リングが前記第1反応管と前記第2反応管との間に嵌められる。
また、本発明によると、流動層反応器の反応管内部を加熱するために設けられるヒーターを流動層反応器の底面部に着設した固定部に嵌め込んで組み立てることができるため、組み立て、設置及びメンテナンスが非常に簡単であるという効果がある。
第1ボディ部200は、ヘッド100の下に位置してヘッド100と連結され、多結晶シリコン析出反応が起きる空間を提供する。
シーリング材275は、高温で耐えることができ、かつ汚染が防止できるように、シリコンを含んでいる繊維状の材質からなることができる。
基底プレート410は第2ボディ部300と連結され、流動ガス供給ノズル及び反応ガス供給ノズルが組み立てられる。基底プレート410は、炭素鋼、ステンレス鋼、その他合金鋼などの機械強度に優れ、加工の容易な金属材料からなることができる。第1プレート420は、基底プレート410上に位置し、基底プレート410を絶縁させる。これによって、第1プレート420はクオーツ(quartz)のように絶縁性を持ちながらも析出される多結晶シリコンを汚染させない物質からなることができる。
第3プレート440は、第2プレート430上に位置して、第1反応管250及び第2反応管350の内部で析出された多結晶シリコンが第2プレート430によって汚染されることを防止し、絶縁機能を有している。これによって、第3プレート440は、高温で変形しにくい無機材料からなることができ、石英、シリカ、窒化ケイ素、窒化ホウ素、ジルコニア、炭化ケイ素、黒鉛、シリコン、ガラス質炭素またはこのような材料が混合した複合体などのような無機材料からなることができる。
ヒーター700には固定部720が挿入される溝が形成され、製造者または使用者がヒーター700を固定部720に圧入してヒーター700を底面部400に固定することができる。
このようなヒーターキャップ710の役割を果たすために、ヒーターキャップ710は、高温で変形しにくい無機材料からなることができ、石英、シリカ、窒化ケイ素、窒化ホウ素、ジルコニア、イットリア、シリコン、またはこのような材料が混合した複合体などのような無機材料からなることができる。ヒーターキャップ710が、炭化ケイ素、黒鉛、ガラス質炭素などの炭素含有材質からなった場合、炭素含有材質による多結晶シリコンの汚染防止のために、ヒーターキャップ710の表面は、シリコン、シリカ、石英、窒化ケイ素などでコーティングまたはライニングされることができる。
図4a〜図4cは、本発明の実施形態によるヒーターと第2プレートとの電気的連結を示す。
200 第1ボディ部
250 第1反応管
300 第2ボディ部
270 支持リング
350 第2反応管
400 底面部
410 基底プレート
420 第1プレート
430 第2プレート
430a、430b、431a、431b、433a、433b 単位プレート
440 第3プレート
440a、440b、p1、p2、p3、p11、p12、p21、p22、p31、p32 単位プレート
450 固定ボルト
500 流動層反応器
600 流動ガス供給ノズル
610 係止突起
650 反応ガス供給ノズル
405 ホール
620 第1緩衝物
630 第2緩衝物
640 ブッシング
700 ヒーター
710 ヒーターキャップ
730 絶縁体
720 固定部
800 電極
Claims (15)
- ヘッドと、
前記ヘッドの下に位置して前記ヘッドと連結され、前記ヘッドの直径より小さな直径を有する第1反応管がその内部に位置する第1ボディ部と、
前記第1ボディ部の下に位置して前記第1ボディ部と連結され、前記第1反応管の直径と実質的に同一の直径を有する第2反応管がその内部に位置する第2ボディ部と、
前記第2ボディ部と連結された底面部と、を含み、
前記第1ボディ部と前記第2ボディ部とは、互いに分離及び組み立て可能であることを特徴とする、流動層反応器。 - 前記底面部は、順次に積層された基底プレートと、第1プレートと、第2プレートと、第3プレートと、を含み、
前記第2プレートと前記第3プレートとは、それぞれ、複数の単位プレートを含むことを特徴とする、請求項1に記載の流動層反応器。 - 前記第2プレートと前記第3プレートとのそれぞれは、複数の単位プレートを含むことを特徴とする、請求項2に記載の流動層反応器。
- 前記第2プレートは、複数の単位プレートを含み、
前記複数の単位プレートのうち隣接した単位プレートと接触されたヒーターを含み、
前記隣接した単位プレートは、互いに絶縁されることを特徴とする、請求項2または3に記載の流動層反応器。 - 前記ヒーターは、前記ヒーターの長さ方向に対して垂直の方向に延びた突出部を含み、
前記突出部は、前記第3プレートに覆われることを特徴とする、請求項4に記載の流動層反応器。 - 前記ヒーターにヒーターキャップが被せられ、
前記ヒーターキャップは、前記ヒーターキャップの長さ方向に対して垂直の方向に延びた係止突起を含み、
前記ヒーターキャップの係止突起は、前記第3プレートの複数の単位プレートの間に嵌められて固定されることを特徴とする、請求項4または5に記載の流動層反応器。 - 前記ヒーターは、複数のグループでグルーピングされた複数のヒーターグループを含み、
前記複数のヒーターグループは、互いに同一の電力を消費することを特徴とする、請求項4から6のいずれかに記載の流動層反応器。 - 前記複数のヒーターグループのうち隣接した2つのヒーターグループは、1つの電極に共通に連結されることを特徴とする、請求項7に記載の流動層反応器。
- 前記複数のヒーターグループのそれぞれは、個別的に2つの電極が連結されることを特徴とする、請求項7に記載の流動層反応器。
- 前記第2プレートの周りを囲む絶縁リングが設けられることを特徴とする、請求項2または3に記載の流動層反応器。
- 前記底面部は、ホールを有し、前記ホールに装着された流動ガス供給ノズルを含み、
前記流動ガス供給ノズルは、前記流動ガス供給ノズルの長さ方向に対して垂直方向に延びたフランジ部を含み、
第1緩衝物と第2緩衝物とは、前記フランジ部の上部と下部とにそれぞれ配置されて前記流動ガス供給ノズルを取り囲むことを特徴とする、請求項1に記載の流動層反応器。 - 前記第1反応管と前記第2反応管とは、それぞれ、前記第1ボディ部と前記第2ボディ部との方向に突出された突出部を含み、前記第1反応管の突出部と前記第2反応管の突出部とは、互いに向き合うことを特徴とする、請求項1に記載の流動層反応器。
- 前記第1反応管の突出部と前記第2反応管の突出部との間にシーリング材が位置することを特徴とする、請求項12に記載の流動層反応器。
- 支持リングが前記第1反応管と前記第2反応管との間に嵌められることを特徴とする、請求項1、12、13のいずれかに記載の流動層反応器。
- 前記支持リングと前記第1反応管との間、及び前記支持リングと前記第2反応管との間に、シーリング材が位置することを特徴とする、請求項14に記載の流動層反応器。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012224533A (ja) * | 2011-04-20 | 2012-11-15 | Siliconvalue Llc | 多結晶シリコン製造装置、及びこれを用いた多結晶シリコンの製造方法 |
CN111495281A (zh) * | 2020-04-29 | 2020-08-07 | 河南理工大学 | 煤系高岭土脉动流态化煅烧、表面改性一体化装置及方法 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20130129570A1 (en) * | 2011-04-20 | 2013-05-23 | Siliconvalue Llc. | Polycrystal silicon manufacturing apparatus |
KR20130053693A (ko) * | 2011-11-16 | 2013-05-24 | 주식회사 실리콘밸류 | 유동층 반응기 |
CN102701210A (zh) * | 2012-05-31 | 2012-10-03 | 四川瑞能硅材料有限公司 | 一种多晶硅还原炉 |
CA2881640A1 (en) | 2012-08-29 | 2014-03-06 | Hemlock Semiconductor Corporation | Tapered fluidized bed reactor and process for its use |
US9587993B2 (en) * | 2012-11-06 | 2017-03-07 | Rec Silicon Inc | Probe assembly for a fluid bed reactor |
DE112013006170T5 (de) * | 2012-12-21 | 2015-09-17 | Rec Silicon Inc | Hitzebeständiger Stahl für Ausrüstungsteile von Fliessbettreaktoren |
US9585199B2 (en) * | 2013-10-30 | 2017-02-28 | Atomic Energy Council—Institute of Nuclear Energy Research | Hybrid heating apparatus applicable to the moving granular bed filter |
US9446367B2 (en) * | 2014-08-15 | 2016-09-20 | Rec Silicon Inc | Joint design for segmented silicon carbide liner in a fluidized bed reactor |
US9662628B2 (en) | 2014-08-15 | 2017-05-30 | Rec Silicon Inc | Non-contaminating bonding material for segmented silicon carbide liner in a fluidized bed reactor |
US9238211B1 (en) * | 2014-08-15 | 2016-01-19 | Rec Silicon Inc | Segmented silicon carbide liner |
US9254470B1 (en) | 2014-10-10 | 2016-02-09 | Rec Silicon Inc | Segmented liner and transition support ring for use in a fluidized bed reactor |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5910338A (ja) * | 1982-06-22 | 1984-01-19 | ベルクヴエルクスフエアバント・ゲ−エムベ−ハ− | 熱交換面を備えた流動層装置 |
JPS60183035U (ja) * | 1984-05-17 | 1985-12-04 | 三菱重工業株式会社 | 流動床用分散板 |
JPS61287440A (ja) * | 1985-06-10 | 1986-12-17 | ヘルベルト・ヒユツトリン | 流動床装置 |
JPH06127921A (ja) * | 1992-10-16 | 1994-05-10 | Tonen Chem Corp | 粒状多結晶シリコンの製造方法 |
JPH074834A (ja) * | 1993-06-17 | 1995-01-10 | Chuo Kakoki Kk | 有機溶剤を含有する粉粒体の処理方法及び処理装置 |
JP2009525937A (ja) * | 2006-02-07 | 2009-07-16 | コリア リサーチ インスティチュート オブ ケミカル テクノロジー | 粒状多結晶シリコン製造用高圧流動層反応器 |
JP2010500274A (ja) * | 2006-08-10 | 2010-01-07 | コリア リサーチ インスティチュート オブ ケミカル テクノロジー | 粒状の多結晶シリコンの形成方法及び形成装置 |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3174834A (en) | 1959-08-24 | 1965-03-23 | Richard M Edwards | Fluidized bed reactor |
US3660136A (en) * | 1970-11-23 | 1972-05-02 | Gen Electric | Method of coating slotted articles |
US4166376A (en) * | 1978-04-17 | 1979-09-04 | Joseph Callahan | Fluidized solids particle discharge device |
US4460037A (en) * | 1979-10-04 | 1984-07-17 | Curtiss-Wright Corporation | Tube construction for fluidized bed combustor |
NL8102307A (nl) * | 1981-05-12 | 1982-12-01 | Esmil Bv | Inrichting en werkwijze voor het indikken door verdampen van een vloeistof. |
US4642227A (en) | 1982-08-20 | 1987-02-10 | California Institute Of Technology | Reactor for producing large particles of materials from gases |
FR2622381B1 (fr) * | 1987-10-21 | 1990-03-16 | Electricite De France | Thermoplongeur electrique |
JPH06127929A (ja) * | 1992-10-20 | 1994-05-10 | Tonen Chem Corp | 多結晶シリコン製造装置 |
US5435972A (en) * | 1992-10-22 | 1995-07-25 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Fluidization quality analyzer for fluidized beds |
GB9301723D0 (en) | 1993-01-28 | 1993-03-17 | Norske Stats Oljeselskap | Solid/liquid treatment apparatus and catalytic multi-phase reactor |
DE19735378A1 (de) | 1997-08-14 | 1999-02-18 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von hochreinem Siliciumgranulat |
DE19948395A1 (de) | 1999-10-06 | 2001-05-03 | Wacker Chemie Gmbh | Strahlungsbeheizter Fliessbettreaktor |
KR100411180B1 (ko) | 2001-01-03 | 2003-12-18 | 한국화학연구원 | 다결정실리콘의 제조방법과 그 장치 |
JP5291282B2 (ja) * | 2003-08-13 | 2013-09-18 | 株式会社トクヤマ | 管型反応容器および該反応容器を用いたシリコンの製造方法 |
WO2005019106A1 (ja) * | 2003-08-22 | 2005-03-03 | Tokuyama Corporation | シリコン製造装置 |
UA75925C2 (en) | 2003-12-22 | 2006-06-15 | Anatolii Tymofiiovych Neklesa | An assembly for producing metal from the iron-containing raw stock |
CN101316651B (zh) | 2005-07-19 | 2011-03-02 | 瑞科硅公司 | 硅喷动流化床 |
DE102005042753A1 (de) | 2005-09-08 | 2007-03-15 | Wacker Chemie Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von granulatförmigem polykristallinem Silicium in einem Wirbelschichtreaktor |
KR100661284B1 (ko) * | 2006-02-14 | 2006-12-27 | 한국화학연구원 | 유동층 반응기를 이용한 다결정실리콘 제조 방법 |
KR100813131B1 (ko) | 2006-06-15 | 2008-03-17 | 한국화학연구원 | 유동층 반응기를 이용한 다결정 실리콘의 지속 가능한제조방법 |
DE102007021003A1 (de) | 2007-05-04 | 2008-11-06 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von polykristallinem hochreinen Siliciumgranulat |
KR20080098992A (ko) | 2007-05-08 | 2008-11-12 | 세메스 주식회사 | 분리형 노즐을 가지는 고밀도 플라즈마 화학 기상 증착장치 |
US8206552B2 (en) * | 2008-06-25 | 2012-06-26 | Applied Materials, Inc. | RF power delivery system in a semiconductor apparatus |
EP2303448B1 (en) | 2008-06-30 | 2012-10-31 | MEMC Electronic Materials, Inc. | Fluidized bed reactor systems and methods for reducing the deposition of silicon on reactor walls |
US9023425B2 (en) | 2009-11-18 | 2015-05-05 | Rec Silicon Inc | Fluid bed reactor |
US8828324B2 (en) | 2009-12-29 | 2014-09-09 | Sunedison, Inc. | Fluidized bed reactor systems and distributors for use in same |
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5910338A (ja) * | 1982-06-22 | 1984-01-19 | ベルクヴエルクスフエアバント・ゲ−エムベ−ハ− | 熱交換面を備えた流動層装置 |
JPS60183035U (ja) * | 1984-05-17 | 1985-12-04 | 三菱重工業株式会社 | 流動床用分散板 |
JPS61287440A (ja) * | 1985-06-10 | 1986-12-17 | ヘルベルト・ヒユツトリン | 流動床装置 |
JPH06127921A (ja) * | 1992-10-16 | 1994-05-10 | Tonen Chem Corp | 粒状多結晶シリコンの製造方法 |
JPH074834A (ja) * | 1993-06-17 | 1995-01-10 | Chuo Kakoki Kk | 有機溶剤を含有する粉粒体の処理方法及び処理装置 |
JP2009525937A (ja) * | 2006-02-07 | 2009-07-16 | コリア リサーチ インスティチュート オブ ケミカル テクノロジー | 粒状多結晶シリコン製造用高圧流動層反応器 |
JP2010500274A (ja) * | 2006-08-10 | 2010-01-07 | コリア リサーチ インスティチュート オブ ケミカル テクノロジー | 粒状の多結晶シリコンの形成方法及び形成装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012224533A (ja) * | 2011-04-20 | 2012-11-15 | Siliconvalue Llc | 多結晶シリコン製造装置、及びこれを用いた多結晶シリコンの製造方法 |
CN111495281A (zh) * | 2020-04-29 | 2020-08-07 | 河南理工大学 | 煤系高岭土脉动流态化煅烧、表面改性一体化装置及方法 |
CN111495281B (zh) * | 2020-04-29 | 2022-07-08 | 河南理工大学 | 煤系高岭土脉动流态化煅烧、表面改性一体化装置及方法 |
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