RU2011139608A - Реактор кипящего слоя - Google Patents

Реактор кипящего слоя Download PDF

Info

Publication number
RU2011139608A
RU2011139608A RU2011139608/02A RU2011139608A RU2011139608A RU 2011139608 A RU2011139608 A RU 2011139608A RU 2011139608/02 A RU2011139608/02 A RU 2011139608/02A RU 2011139608 A RU2011139608 A RU 2011139608A RU 2011139608 A RU2011139608 A RU 2011139608A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
aforementioned
fluidized bed
bed reactor
plate
reaction chamber
Prior art date
Application number
RU2011139608/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2490576C2 (ru
Inventor
Йунсуб ДЖУНГ
Кеунхо КИМ
Йеокйун ЙУН
Тед КИМ
Original Assignee
Силикон Вэлью Ллс.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Силикон Вэлью Ллс. filed Critical Силикон Вэлью Ллс.
Publication of RU2011139608A publication Critical patent/RU2011139608A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2490576C2 publication Critical patent/RU2490576C2/ru

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
    • B01J8/1872—Details of the fluidised bed reactor
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/02—Apparatus characterised by being constructed of material selected for its chemically-resistant properties
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
    • B01J8/1836—Heating and cooling the reactor
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/02—Silicon
    • C01B33/021—Preparation
    • C01B33/027—Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
    • B01J2208/00008—Controlling the process
    • B01J2208/00017—Controlling the temperature
    • B01J2208/00389—Controlling the temperature using electric heating or cooling elements
    • B01J2208/00398—Controlling the temperature using electric heating or cooling elements inside the reactor bed
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
    • B01J2208/00008—Controlling the process
    • B01J2208/00017—Controlling the temperature
    • B01J2208/00389—Controlling the temperature using electric heating or cooling elements
    • B01J2208/00415—Controlling the temperature using electric heating or cooling elements electric resistance heaters
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
    • B01J2208/00008—Controlling the process
    • B01J2208/00017—Controlling the temperature
    • B01J2208/00477—Controlling the temperature by thermal insulation means
    • B01J2208/00495—Controlling the temperature by thermal insulation means using insulating materials or refractories
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
    • B01J2208/00796—Details of the reactor or of the particulate material
    • B01J2208/00893—Feeding means for the reactants
    • B01J2208/00902—Nozzle-type feeding elements
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
    • B01J2208/00796—Details of the reactor or of the particulate material
    • B01J2208/00991—Disengagement zone in fluidised-bed reactors
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
    • B01J2219/00245—Avoiding undesirable reactions or side-effects
    • B01J2219/00247—Fouling of the reactor or the process equipment
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
    • B01J2219/00245—Avoiding undesirable reactions or side-effects
    • B01J2219/00252—Formation of deposits other than coke
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/02—Apparatus characterised by their chemically-resistant properties
    • B01J2219/0204—Apparatus characterised by their chemically-resistant properties comprising coatings on the surfaces in direct contact with the reactive components
    • B01J2219/0209—Apparatus characterised by their chemically-resistant properties comprising coatings on the surfaces in direct contact with the reactive components of glass
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/02—Apparatus characterised by their chemically-resistant properties
    • B01J2219/0204—Apparatus characterised by their chemically-resistant properties comprising coatings on the surfaces in direct contact with the reactive components
    • B01J2219/0218—Apparatus characterised by their chemically-resistant properties comprising coatings on the surfaces in direct contact with the reactive components of ceramic
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/02—Apparatus characterised by their chemically-resistant properties
    • B01J2219/0204—Apparatus characterised by their chemically-resistant properties comprising coatings on the surfaces in direct contact with the reactive components
    • B01J2219/0227—Apparatus characterised by their chemically-resistant properties comprising coatings on the surfaces in direct contact with the reactive components of graphite

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)

Abstract

1. Реактор кипящего слоя, включающий голову; корпус 1, расположенный ниже вышеупомянутой головы и соединенный с вышеупомянутой головой, внутри которого находится реакционная камера 1; корпус 2, расположенный ниже вышеупомянутого корпуса 1 и соединенный с вышеупомянутым корпусом 1, внутри которого находится реакционная камера 2; дно, расположенное ниже вышеупомянутого корпуса 2 и соединенное с вышеупомянутым корпусом 2, в которое вмонтированы патрубок подачи сжижающего газа, патрубок подачи реакционного газа, а также нагреватель и электроды.2. Реактор кипящего слоя по п.1, отличающийся тем, что имеет колпак, покрывающий вышеупомянутый нагреватель.3. Реактор кипящего слоя по п.1, включающий вышеупомянутый патрубок подачи сжижающего газа, содержащий концевой фланец, расположенный перпендикулярно относительно длины вышеупомянутого патрубка подачи сжижающего газа, вышеупомянутое дно, включающее отверстие, в которое помещается вышеупомянутый патрубок подачи сжижающего газа, отличающийся тем, что имеет амортизатор 1 и амортизатор 2, расположенные соответственно сверху и снизу вышеупомянутого фланца и оборачивающие вышеупомянутый патрубок сжижающего газа.4. Реактор кипящего слоя по п.1, выступающие части вышеупомянутой реакционной камеры 1 и вышеупомянутой реакционной камеры 2, направленные в сторону вышеупомянутых корпуса 1 и корпуса 2, отличающийся тем, что вышеупомянутая выступающая часть реакционной камеры 1 и вышеупомянутая выступающая часть реакционной камеры 2 обращены поверхностями друг к другу.5. Реактор кипящего слоя по п.4, отличающийся тем, что имеет уплотнительный материал, размещенный между выступающе

Claims (20)

1. Реактор кипящего слоя, включающий голову; корпус 1, расположенный ниже вышеупомянутой головы и соединенный с вышеупомянутой головой, внутри которого находится реакционная камера 1; корпус 2, расположенный ниже вышеупомянутого корпуса 1 и соединенный с вышеупомянутым корпусом 1, внутри которого находится реакционная камера 2; дно, расположенное ниже вышеупомянутого корпуса 2 и соединенное с вышеупомянутым корпусом 2, в которое вмонтированы патрубок подачи сжижающего газа, патрубок подачи реакционного газа, а также нагреватель и электроды.
2. Реактор кипящего слоя по п.1, отличающийся тем, что имеет колпак, покрывающий вышеупомянутый нагреватель.
3. Реактор кипящего слоя по п.1, включающий вышеупомянутый патрубок подачи сжижающего газа, содержащий концевой фланец, расположенный перпендикулярно относительно длины вышеупомянутого патрубка подачи сжижающего газа, вышеупомянутое дно, включающее отверстие, в которое помещается вышеупомянутый патрубок подачи сжижающего газа, отличающийся тем, что имеет амортизатор 1 и амортизатор 2, расположенные соответственно сверху и снизу вышеупомянутого фланца и оборачивающие вышеупомянутый патрубок сжижающего газа.
4. Реактор кипящего слоя по п.1, выступающие части вышеупомянутой реакционной камеры 1 и вышеупомянутой реакционной камеры 2, направленные в сторону вышеупомянутых корпуса 1 и корпуса 2, отличающийся тем, что вышеупомянутая выступающая часть реакционной камеры 1 и вышеупомянутая выступающая часть реакционной камеры 2 обращены поверхностями друг к другу.
5. Реактор кипящего слоя по п.4, отличающийся тем, что имеет уплотнительный материал, размещенный между выступающей частью вышеупомянутой реакционной камеры 1 и выступающей частью вышеупомянутой реакционной камеры 2.
6. Реактор кипящего слоя по п.1, отличающийся тем, что имеет опорное кольцо, вставленное между вышеупомянутыми реакционной камерой 1 и реакционной камерой 2.
7. Реактор кипящего слоя по п.6, отличающийся тем, что имеет уплотнительные материалы, расположенные между вышеупомянутым опорным кольцом и вышеупомянутой реакционной камерой 1, а также между вышеупомянутым опорным кольцом и вышеупомянутой реакционной камерой 2.
8. Реактор кипящего слоя, включающий голову; корпус, расположенный ниже вышеупомянутой головы и соединенный с вышеупомянутой головой; а также дно, расположенное ниже вышеупомянутого корпуса и соединенное с вышеупомянутым корпусом, вышеупомянутое дно, состоящее из основания, с вмонтированными в нем патрубками подачи сжижающего газа и реакционного газа, пластины 1, расположенной поверх вышеупомянутого основания и изолирующей вышеупомянутое основание, пластины 2, расположенной поверх вышеупомянутой пластины 1 и проводящей электрический ток к нагревателям, пластины 3, расположенной поверх вышеупомянутой пластины 2 и изолирующей вышеупомянутую пластину 2.
9. Реактор кипящего слоя по п.8, отличающийся тем, что концевая часть вышеупомянутой пластины 2 и одной стороны основания отдалены друг от друга.
10. Реактор кипящего слоя по п.8, отличающийся тем, что часть вышеупомянутой пластины 1 располагается между концевыми частями вышеупомянутого основания и вышеупомянутой пластины 2.
11. Реактор кипящего слоя по п.8, отличающийся тем, что по всей окружности вышеупомянутой пластины 2 устанавливается изолирующее кольцо.
12. Реактор кипящего слоя по п.8, отличающийся тем, что каждая из вышеупомянутых, пластина 2 и пластина 3 состоят из нескольких составляющих их пластин.
13. Реактор кипящего слоя по п.8, включающий вышеупомянутую пластину 2, состоящую из нескольких составляющих ее пластин, нижнюю часть вышеупомянутого нагревателя, которая среди нескольких вышеупомянутых составляющих пластин контактирует со смежными друг с другом вышеупомянутыми составляющими пластинами, отличающийся тем, что вышеупомянутые смежные составляющие пластины изолированы друг от друга.
14. Реактор кипящего слоя по п.8, включающий выступающую часть вышеупомянутого нагревателя, расположенную перпендикулярно длине вышеуказанного нагревателя, отличающийся тем, что вышеупомянутая выступающая часть нагревателя покрывается сверху вышеупомянутой пластиной 3.
15. Реактор кипящего слоя по п.8, включающий колпак, покрывающий вышеупомянутый нагреватель, концевой цепляющий выступ вышеупомянутого колпака, расположенный перпендикулярно относительно длины вышеупомянутого нагревателя, отличающийся тем, что цепляющий выступ вышеупомянутого колпака нагревателя вкладывается и фиксируется между пластинами, составляющими элементами пластины 3.
16. Реактор кипящего слоя по п.8, включающий вышеупомянутые нагреватели, объединенные в группы по нескольку нагревателей, отличающийся тем, что каждая вышеупомянутая группа из нескольких нагревателей потребляет одинаковое количество электроэнергии.
17. Реактор кипящего слоя по п.16, отличающийся тем, что среди вышеупомянутых групп из нескольких нагревателей, именно смежные группы из двух нагревателей соединяются с одним совместным электродом.
18. Реактор кипящего слоя по п.16, отличающийся тем, что каждая вышеупомянутая группа из нескольких нагревателей, отдельно соединяется с двумя электродами.
19. Реактор кипящего слоя, включающий голову; корпус 1, расположенный ниже вышеупомянутой головы и соединенный с вышеупомянутой головой, внутри которого расположена реакционная камера 1, диаметр которой меньше диаметра головы; корпус 2, расположенный ниже вышеупомянутого корпуса 1 и соединенный с вышеупомянутым корпусом 1, внутри которого находится реакционная камера 2, диаметр которой реально совпадает с диаметром реакционной камеры 1; а также дно, соединенное с вышеупомянутым корпусом 2, отличающийся тем, что вышеупомянутые корпус 1 и корпус 2 могут разделяться и соединяться друг с другом.
20. Реактор кипящего слоя по п.19, включающий вышеупомянутое дно, состоящее из последовательно уложенных основания, пластины 1, пластины 2 и пластины 3, отличающийся тем, что вышеупомянутая пластины 2 и вышеупомянутая пластина 3 состоят каждая из нескольких составляющих элементов.
RU2011139608/02A 2010-10-01 2011-09-29 Реактор кипящего слоя RU2490576C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2010-0095938 2010-10-01
KR1020100095938A KR101329030B1 (ko) 2010-10-01 2010-10-01 유동층 반응기

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2011139608A true RU2011139608A (ru) 2013-04-10
RU2490576C2 RU2490576C2 (ru) 2013-08-20

Family

ID=44759507

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2011139608/02A RU2490576C2 (ru) 2010-10-01 2011-09-29 Реактор кипящего слоя

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8580203B2 (ru)
EP (1) EP2436438A1 (ru)
JP (1) JP2012076078A (ru)
KR (1) KR101329030B1 (ru)
CN (1) CN102442669A (ru)
RU (1) RU2490576C2 (ru)
TW (1) TW201217053A (ru)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20130129570A1 (en) * 2011-04-20 2013-05-23 Siliconvalue Llc. Polycrystal silicon manufacturing apparatus
KR101329032B1 (ko) * 2011-04-20 2013-11-14 주식회사 실리콘밸류 다결정 실리콘 제조장치 및 이를 이용한 다결정 실리콘의 제조방법
KR20130053693A (ko) * 2011-11-16 2013-05-24 주식회사 실리콘밸류 유동층 반응기
CN102701210A (zh) * 2012-05-31 2012-10-03 四川瑞能硅材料有限公司 一种多晶硅还原炉
CN104583122B (zh) 2012-08-29 2017-09-05 赫姆洛克半导体运营有限责任公司 锥形流化床反应器及其使用方法
US9587993B2 (en) * 2012-11-06 2017-03-07 Rec Silicon Inc Probe assembly for a fluid bed reactor
DE112013006170T5 (de) * 2012-12-21 2015-09-17 Rec Silicon Inc Hitzebeständiger Stahl für Ausrüstungsteile von Fliessbettreaktoren
US9585199B2 (en) * 2013-10-30 2017-02-28 Atomic Energy Council—Institute of Nuclear Energy Research Hybrid heating apparatus applicable to the moving granular bed filter
US9238211B1 (en) 2014-08-15 2016-01-19 Rec Silicon Inc Segmented silicon carbide liner
US9446367B2 (en) * 2014-08-15 2016-09-20 Rec Silicon Inc Joint design for segmented silicon carbide liner in a fluidized bed reactor
US9662628B2 (en) 2014-08-15 2017-05-30 Rec Silicon Inc Non-contaminating bonding material for segmented silicon carbide liner in a fluidized bed reactor
US9254470B1 (en) 2014-10-10 2016-02-09 Rec Silicon Inc Segmented liner and transition support ring for use in a fluidized bed reactor
CN111495281B (zh) * 2020-04-29 2022-07-08 河南理工大学 煤系高岭土脉动流态化煅烧、表面改性一体化装置及方法

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3174834A (en) 1959-08-24 1965-03-23 Richard M Edwards Fluidized bed reactor
US3660136A (en) * 1970-11-23 1972-05-02 Gen Electric Method of coating slotted articles
US4166376A (en) * 1978-04-17 1979-09-04 Joseph Callahan Fluidized solids particle discharge device
US4460037A (en) * 1979-10-04 1984-07-17 Curtiss-Wright Corporation Tube construction for fluidized bed combustor
NL8102307A (nl) * 1981-05-12 1982-12-01 Esmil Bv Inrichting en werkwijze voor het indikken door verdampen van een vloeistof.
DE3223182A1 (de) * 1982-06-22 1983-12-22 Bergwerksverband Gmbh, 4300 Essen Wirbelschichtapparat mit waermeaustauschflaechen
US4642227A (en) 1982-08-20 1987-02-10 California Institute Of Technology Reactor for producing large particles of materials from gases
JPS60183035U (ja) * 1984-05-17 1985-12-04 三菱重工業株式会社 流動床用分散板
DE3520718A1 (de) * 1985-06-10 1986-12-11 Herbert 7853 Steinen Hüttlin Fliessbettapparatur
FR2622381B1 (fr) * 1987-10-21 1990-03-16 Electricite De France Thermoplongeur electrique
JPH06127921A (ja) * 1992-10-16 1994-05-10 Tonen Chem Corp 粒状多結晶シリコンの製造方法
JPH06127929A (ja) * 1992-10-20 1994-05-10 Tonen Chem Corp 多結晶シリコン製造装置
US5435972A (en) * 1992-10-22 1995-07-25 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Fluidization quality analyzer for fluidized beds
GB9301723D0 (en) 1993-01-28 1993-03-17 Norske Stats Oljeselskap Solid/liquid treatment apparatus and catalytic multi-phase reactor
JP3439796B2 (ja) * 1993-06-17 2003-08-25 中央化工機株式会社 有機溶剤を含有する粉粒体の処理方法
DE19735378A1 (de) 1997-08-14 1999-02-18 Wacker Chemie Gmbh Verfahren zur Herstellung von hochreinem Siliciumgranulat
DE19948395A1 (de) 1999-10-06 2001-05-03 Wacker Chemie Gmbh Strahlungsbeheizter Fliessbettreaktor
KR100411180B1 (ko) 2001-01-03 2003-12-18 한국화학연구원 다결정실리콘의 제조방법과 그 장치
JP5291282B2 (ja) * 2003-08-13 2013-09-18 株式会社トクヤマ 管型反応容器および該反応容器を用いたシリコンの製造方法
CA2517764C (en) * 2003-08-22 2009-10-13 Tokuyama Corporation Silicon production apparatus
UA75925C2 (en) 2003-12-22 2006-06-15 Anatolii Tymofiiovych Neklesa An assembly for producing metal from the iron-containing raw stock
ATE456395T1 (de) 2005-07-19 2010-02-15 Rec Silicon Inc Siliziumsprudelbett
DE102005042753A1 (de) * 2005-09-08 2007-03-15 Wacker Chemie Ag Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von granulatförmigem polykristallinem Silicium in einem Wirbelschichtreaktor
KR100756310B1 (ko) 2006-02-07 2007-09-07 한국화학연구원 입자형 다결정실리콘 제조용 고압 유동층반응기
KR100661284B1 (ko) * 2006-02-14 2006-12-27 한국화학연구원 유동층 반응기를 이용한 다결정실리콘 제조 방법
KR100813131B1 (ko) 2006-06-15 2008-03-17 한국화학연구원 유동층 반응기를 이용한 다결정 실리콘의 지속 가능한제조방법
KR100783667B1 (ko) * 2006-08-10 2007-12-07 한국화학연구원 입자형 다결정 실리콘의 제조방법 및 제조장치
DE102007021003A1 (de) 2007-05-04 2008-11-06 Wacker Chemie Ag Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von polykristallinem hochreinen Siliciumgranulat
KR20080098992A (ko) 2007-05-08 2008-11-12 세메스 주식회사 분리형 노즐을 가지는 고밀도 플라즈마 화학 기상 증착장치
US8206552B2 (en) * 2008-06-25 2012-06-26 Applied Materials, Inc. RF power delivery system in a semiconductor apparatus
CN102083522B (zh) 2008-06-30 2014-03-26 Memc电子材料有限公司 流化床反应器系统及减少硅沉积在反应器壁上的方法
US9023425B2 (en) 2009-11-18 2015-05-05 Rec Silicon Inc Fluid bed reactor
JP2013515673A (ja) 2009-12-29 2013-05-09 エムイーエムシー・エレクトロニック・マテリアルズ・インコーポレイテッド 分配器の周縁開口部に導かれた四塩化ケイ素を用いてリアクター壁上のケイ素付着物を低減する方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR101329030B1 (ko) 2013-11-13
EP2436438A1 (en) 2012-04-04
US20120082592A1 (en) 2012-04-05
TW201217053A (en) 2012-05-01
KR20120057732A (ko) 2012-06-07
RU2490576C2 (ru) 2013-08-20
JP2012076078A (ja) 2012-04-19
US8580203B2 (en) 2013-11-12
CN102442669A (zh) 2012-05-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2011139608A (ru) Реактор кипящего слоя
CN202890462U (zh) 电子香烟
CN203692545U (zh) 电子烟雾化器以及具有该雾化器的电子烟
RU2012100003A (ru) Устройство для сжигания, использующее плазму
CN104142023A (zh) 电极锅炉的电极棒结构
CN103750569A (zh) 电子烟雾化器以及具有该雾化器的电子烟
CN203952439U (zh) 雾化器及电子烟
CN105819398A (zh) 电弧等离子氢能蒸汽发生器
CN203784945U (zh) 一种高聚能燃烧器
CN105571114B (zh) 一种新型浸没式加热电极
RU2007112863A (ru) Электрореактивный двигатель
CN208444868U (zh) 一种新能源电池包减震防爆装置
CN207893802U (zh) 点火针组件、燃烧器及燃气灶
KR20110014766A (ko) 글라이딩 플라즈마를 이용한 가연성 폐가스 처리 장치
CN108548165A (zh) 一种新型无水垢蒸汽发生器
CN203099895U (zh) 脉冲电子点火器
CN104754785A (zh) 一种可拆卸式螺旋辐射加热管
KR20180056171A (ko) 수중 플라즈마 토치
CN205746900U (zh) 一种内燃式沼气焚烧火炬
CN105371348B (zh) 燃气取暖器
CN204922920U (zh) 一种蒸汽柜
CN211953263U (zh) 燃气热水锅炉
KR20130131510A (ko) 폐열을 이용한 발전기가 부설된 가스레인지
CN212339193U (zh) 蒸汽发生装置
CN204273245U (zh) 新型笔形电子烟

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20140930