JP2012033723A - 真空ピンセット及び真空吸着方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】反りがある半導体ウエハに対して、安定して吸着することができ、かつ、半導体ウエハを平らに矯正することができる真空ピンセット。
【解決手段】本体2と、本体2の端部に設けられた支持部3と、一端が支持部3に接続され、他端に吸着部5を備えた複数の先端部材4と、を少なくとも備え、先端部材4と支持部3と本体部2の内部に吸引流路10a〜10cが設けられた、反りを有する平板状の被処理体用Wの真空ピンセット1Aであって、複数の先端部材4は、反りの形状に合わせるように、及び、反りを矯正するように、支持部3に対して可動であることを特徴とする真空ピンセット1A。
【選択図】図1
【解決手段】本体2と、本体2の端部に設けられた支持部3と、一端が支持部3に接続され、他端に吸着部5を備えた複数の先端部材4と、を少なくとも備え、先端部材4と支持部3と本体部2の内部に吸引流路10a〜10cが設けられた、反りを有する平板状の被処理体用Wの真空ピンセット1Aであって、複数の先端部材4は、反りの形状に合わせるように、及び、反りを矯正するように、支持部3に対して可動であることを特徴とする真空ピンセット1A。
【選択図】図1
Description
本発明は、真空を利用して半導体ウエハ等の被処理体を吸着し移送させる真空ピンセット及びこの真空ピンセットを用いた真空吸着方法に関する。
半導体装置の分野においては、製造工程、検査工程等において、半導体ウエハ(被処理体)を吸着するために、真空ピンセットや真空吸着アーム等が使用されている。
ところで、近年の電子機器の小型化に伴い、電子機器に搭載される部品に対しても小型化、薄型化が求められ、前記部品を構成する半導体ウエハも薄型化されている。このような半導体ウエハは、その面積に対して非常に薄く形成されているため、ウエハ上に表面加工物を形成した場合にウエハ内に応力が発生し、反りが大きくなることが知られている。
例えば、ウエハサイズ8インチ、ウエハ厚100μmの半導体ウエハに樹脂20μmを付着させたところ、15mmの反りが見られた。一方、真空ピンセットの吸着部は通常平坦な形状に作られており、このようなウエハ形状の反りによって、安定な吸着が困難となる場合がある。
例えば、ウエハサイズ8インチ、ウエハ厚100μmの半導体ウエハに樹脂20μmを付着させたところ、15mmの反りが見られた。一方、真空ピンセットの吸着部は通常平坦な形状に作られており、このようなウエハ形状の反りによって、安定な吸着が困難となる場合がある。
このような反りのある半導体ウエハに対しては、特許文献1に記載されているように、半導体ウエハの反りを一時的に矯正してから、半導体ウエハの平らな面に真空ピンセットを吸着させる方法がある。
また、特許文献2に記載されているような、吸着部分を小さくして、一点で半導体ウエハを吸着したり、2本の平行したアームを広げて吸着したりする方法がある。特許文献2に記載の方法においては、半導体ウエハの反りを残したまま吸着し、移送を行っている。
さらに、特許文献3に記載された真空ピンセットは、反りのある半導体ウエハを吸着し易いように、吸盤など可撓性のある材質を使用して吸着する真空ピンセットもある。
また、特許文献2に記載されているような、吸着部分を小さくして、一点で半導体ウエハを吸着したり、2本の平行したアームを広げて吸着したりする方法がある。特許文献2に記載の方法においては、半導体ウエハの反りを残したまま吸着し、移送を行っている。
さらに、特許文献3に記載された真空ピンセットは、反りのある半導体ウエハを吸着し易いように、吸盤など可撓性のある材質を使用して吸着する真空ピンセットもある。
しかしながら、特許文献1に記載の真空ピンセットは平らな形状であるため、半導体ウエハの反りの矯正が不十分であった場合、安定した吸着が困難であるという問題がある。
また、特許文献2に記載の真空ピンセットは、半導体ウエハの反りを有したまま吸着を行うため、半導体ウエハをケースから取り出す際に、ケースのスリットに半導体ウエハが引っ掛かり、真空吸着状態が解除されてしまう。逆に、半導体ウエハをケースに収納する際は、半導体ウエハの形状が不安定であるため、ケースのスリットと半導体ウエハが衝突してしまい、収納できないという問題がある。
また、特許文献3に記載の真空ピンセットの様に、吸盤や可撓性を有する材質を用いた部品を使用し、反りのある半導体ウエハを吸着した場合においても、半導体ウエハの反りが残る問題があった。
また、特許文献2に記載の真空ピンセットは、半導体ウエハの反りを有したまま吸着を行うため、半導体ウエハをケースから取り出す際に、ケースのスリットに半導体ウエハが引っ掛かり、真空吸着状態が解除されてしまう。逆に、半導体ウエハをケースに収納する際は、半導体ウエハの形状が不安定であるため、ケースのスリットと半導体ウエハが衝突してしまい、収納できないという問題がある。
また、特許文献3に記載の真空ピンセットの様に、吸盤や可撓性を有する材質を用いた部品を使用し、反りのある半導体ウエハを吸着した場合においても、半導体ウエハの反りが残る問題があった。
この発明は、このような事情を考慮してなされたもので、その目的は、反りがある半導体ウエハに対して、安定して吸着することができ、かつ、半導体ウエハを平らに矯正することができる真空ピンセットを提供することにある。
本発明の請求項1に係る真空ピンセットは、本体と、前記本体の端部に設けられた支持部と、一端が前記支持部に接続され、他端に吸着部を備えた複数の先端部材と、を少なくとも備え、前記先端部材と前記支持部と前記本体部の内部に吸引流路が設けられた、反りを有する平板状の被処理体用の真空ピンセットであって、前記複数の先端部材は、前記反りの形状に合わせるように、及び、前記反りを矯正するように、支持部に対して可動であることを特徴とする。
本発明の請求項2に係る真空ピンセットは、請求項1に記載の真空ピンセットにおいて、前記複数の先端部材が長尺状であり、互いに平行になるように、前記支持部に接続されていることを特徴とする。
本発明の請求項3に係る真空ピンセットは、請求項1に記載の真空ピンセットにおいて、前記複数の先端部材が長尺状であり、前記支持部に接続された一端における先端部材同士の間隔よりも他端における先端部材同士の間隔が大きくなるような扇状をなすように、前記支持部に接続されていることを特徴とする。
本発明の請求項4に係る真空ピンセットは、請求項1に記載の真空ピンセットにおいて、前記複数の先端部材が、一端が前記支持部に接続され、前記本体の長手方向に沿う2つの棒形状をなす2本の回転軸部と、該回転軸部の他端より、互いに離間する方向に延在された水平部とからなり、前記先端部材は、前記回転軸部を中心に回動可能に構成されていることを特徴とする。
本発明の請求項5に係る真空ピンセットは、請求項1に記載の真空ピンセットにおいて、前記支持部及び前記先端部材が、少なくとも一面が平面をなす形状とされているとともに、前記吸着部は、前記先端部材の平面部に形成されており、前記先端部材は、前記支持部の両側に延在するように、前記吸引流路の一部として機能する蛇腹状接続部材を介して接続されており、真空吸引され、前記蛇腹状接続部材の内部圧力が減少することによって、前記蛇腹状接続部材が収縮し、前記支持部の平面と直角をなす支持部の端面と、前記先端部材の平面と直角をなす先端部材の端面とが当接し、前記先端部材の平面部と、前記支持部の平面部とが、同一平面上に配されるように構成されていることを特徴とする。
本発明の請求項2に係る真空ピンセットは、請求項1に記載の真空ピンセットにおいて、前記複数の先端部材が長尺状であり、互いに平行になるように、前記支持部に接続されていることを特徴とする。
本発明の請求項3に係る真空ピンセットは、請求項1に記載の真空ピンセットにおいて、前記複数の先端部材が長尺状であり、前記支持部に接続された一端における先端部材同士の間隔よりも他端における先端部材同士の間隔が大きくなるような扇状をなすように、前記支持部に接続されていることを特徴とする。
本発明の請求項4に係る真空ピンセットは、請求項1に記載の真空ピンセットにおいて、前記複数の先端部材が、一端が前記支持部に接続され、前記本体の長手方向に沿う2つの棒形状をなす2本の回転軸部と、該回転軸部の他端より、互いに離間する方向に延在された水平部とからなり、前記先端部材は、前記回転軸部を中心に回動可能に構成されていることを特徴とする。
本発明の請求項5に係る真空ピンセットは、請求項1に記載の真空ピンセットにおいて、前記支持部及び前記先端部材が、少なくとも一面が平面をなす形状とされているとともに、前記吸着部は、前記先端部材の平面部に形成されており、前記先端部材は、前記支持部の両側に延在するように、前記吸引流路の一部として機能する蛇腹状接続部材を介して接続されており、真空吸引され、前記蛇腹状接続部材の内部圧力が減少することによって、前記蛇腹状接続部材が収縮し、前記支持部の平面と直角をなす支持部の端面と、前記先端部材の平面と直角をなす先端部材の端面とが当接し、前記先端部材の平面部と、前記支持部の平面部とが、同一平面上に配されるように構成されていることを特徴とする。
本発明の請求項6に係る真空吸着方法は、請求項1〜3のいずれか1項に記載の真空ピンセットを用いた真空吸着方法であって、前記支持部に力を加えることによって、前記吸着部の位置を被処理体の形状に合わせる工程と、前記吸着部により被処理体を吸着させる工程と、前記屈曲部から力を抜いて、被処理体を平らにする工程と、を有することを特徴とする。
本発明によれば、本体と、該本体の端部に設けられた支持部と、一端が支持部に接続され、他端に吸着部を備えた複数の先端部材とを備えた真空ピンセットにおいて、複数の先端部材が、支持部に対して可動である構成とした。
これにより、複数の先端部材を支持部に対して動かし、反りがある被処理体の形状に先端部材を合わせることができるため、被処理体を安定して吸着させることができる。さらに、吸着後に先端部材を平らな状態に戻すことによって、被処理体を平らに矯正することができる。
これにより、複数の先端部材を支持部に対して動かし、反りがある被処理体の形状に先端部材を合わせることができるため、被処理体を安定して吸着させることができる。さらに、吸着後に先端部材を平らな状態に戻すことによって、被処理体を平らに矯正することができる。
<第一実施形態>
以下、本発明の第一実施形態を、図面を参照することによって詳細に説明する。
図1は、本発明の第一実施形態を示す図面であり、図1は真空ピンセット1Aの平面図である。図2(a)、(b)は図1のA方向から見た側面図であり、真空ピンセット1Aを被処理体W(半導体ウエハ)に吸着させた様子を示す図である。
以下、真空ピンセット1Aについて、符号4で示す先端部材の側を「前方」、符号6で示す真空引き用ホースの側を「後方」として説明する。例えば、図1において、上側が前方、下側が後方である。
以下、本発明の第一実施形態を、図面を参照することによって詳細に説明する。
図1は、本発明の第一実施形態を示す図面であり、図1は真空ピンセット1Aの平面図である。図2(a)、(b)は図1のA方向から見た側面図であり、真空ピンセット1Aを被処理体W(半導体ウエハ)に吸着させた様子を示す図である。
以下、真空ピンセット1Aについて、符号4で示す先端部材の側を「前方」、符号6で示す真空引き用ホースの側を「後方」として説明する。例えば、図1において、上側が前方、下側が後方である。
本実施形態の真空ピンセット1Aは、本体2と、半導体ウエハ等の被処理体Wを吸着する吸着部5を有する複数の先端部材4と、該先端部材4を支持するように本体2の一端に設けられた支持部3とを主な構成要素としており、前記複数の先端部材4が支持部3に対して可動であることを特徴としている。
まず、本発明の真空ピンセット1Aの全体構成を説明する。
本発明の真空ピンセット1Aは、図1に示すように、把持部を兼ねる本体2と本体2の一方の端部に設けられた支持部3と、該支持部3の端面3aに取り付けられた3本の長尺状の先端部材4とから構成されている。各先端部材4の先端には、被処理体Wを吸着するための吸着部5が設けられている。
本発明の真空ピンセット1Aは、図1に示すように、把持部を兼ねる本体2と本体2の一方の端部に設けられた支持部3と、該支持部3の端面3aに取り付けられた3本の長尺状の先端部材4とから構成されている。各先端部材4の先端には、被処理体Wを吸着するための吸着部5が設けられている。
本体2の他方の端部には、真空引き用ホース6が設けられている。真空引き用ホース6は、図示しない真空ポンプに接続されている。また、真空引き用ホース6と3つの吸着部5とは、吸引流路10a〜10cで接続されている。さらに、本体2にはボタン9が設けられており、該ボタン9を押すことによって真空引き用ホース6から通じる真空が吸着部5に達し、被処理体Wを吸着する構成となっている。
先端部材4は、断面が矩形の長尺状の部材であり、高い強度を有する樹脂から構成されている。先端部材4の内部には、先端部材4の長手方向に沿う方向に吸引流路10aが形成されており、この吸引流路10aは先端部材4の一端に開口する吸着部5に連通している。
先端部材4を構成する材質は、高度の耐熱性及び耐薬品性を備えた合成樹脂材の使用が望ましく、例えばポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリイミド(PI)等の使用が可能である。あるいはアルミニウム等の金属を採用してもよい。
先端部材4を構成する材質は、高度の耐熱性及び耐薬品性を備えた合成樹脂材の使用が望ましく、例えばポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリイミド(PI)等の使用が可能である。あるいはアルミニウム等の金属を採用してもよい。
支持部3は、図1の紙面方向に厚さを有する矩形のブロックであり、可撓性を有する材料によって形成されている。支持部3を構成する材料としては、天然ゴム、ニトリルゴム、シリコーンゴム、アクリルゴム、スチレンブタジエンゴム、フッ素ゴム、エチレンプロピレンゴムなどの合成ゴムが好ましい。
支持部3の内部には、先端部材4の吸引流路10aと連通する吸引流路10bが形成されている。該吸引流路10bは、本体の内部に形成された吸引流路10cと連通しており、これら吸引流路10a〜10cは、吸着部5から真空引き用ホース6に通ずる流路を形成している。
支持部3の内部には、先端部材4の吸引流路10aと連通する吸引流路10bが形成されている。該吸引流路10bは、本体の内部に形成された吸引流路10cと連通しており、これら吸引流路10a〜10cは、吸着部5から真空引き用ホース6に通ずる流路を形成している。
3本の先端部材4は、支持部3の端面3aに、真空ピンセット1Aの前方に延在するように取り付けられている。また、3本の先端部材4同士の間隔は、支持部3側の間隔に対して、吸着部5側の間隔が広くなるように、扇状に、かつ、3本の先端部材4の全体が同一面上に配されるように取り付けられている。
3本の先端部材4は、支持部3に突き刺されるように挿入されることによって、支持部3に取り付けられている。具体的には、先端部材4の矩形状の断面寸法より、やや小なる断面寸法の有底穴を支持部の端面3aに形成した上で、先端部材4をこの有底穴に挿入することで取り付けられる。よって、先端部材4は支持部3に対して緊密に装着される。これにより、可撓性を有する材料によって形成されている支持部3を変形させることによって、先端部材4の先端が大きく動くようになる。
吸着部5同士の間隔は、3本の先端部材4の取り付け角度、及び先端部材4の長さを調節することによって適宜変更可能であり、被処理体Wの大きさに応じて変更される。
吸着部5同士の間隔は、3本の先端部材4の取り付け角度、及び先端部材4の長さを調節することによって適宜変更可能であり、被処理体Wの大きさに応じて変更される。
このような構成とすることによって、使用者は、支持部3を変形させることによって、先端部材4の吸着部5側の端部の位置を動かすことができる。例えば、図2(a)に示すように、支持部3を湾曲させることによって、3本の先端部材4は、吸着部5の位置が下に凸の反りを有する被処理体Wの反りに合うように移動する。
また、図2(b)に示すように、支持部3を湾曲状態から元の状態に戻すことによって、先端部材4の位置が初期状態に戻る、つまり、同一平面上に配された位置に戻る。
また、図2(b)に示すように、支持部3を湾曲状態から元の状態に戻すことによって、先端部材4の位置が初期状態に戻る、つまり、同一平面上に配された位置に戻る。
次に、本実施形態の真空ピンセット1Aの使用方法について説明する。
まず、使用者は、ボタン9を押すことによって、真空ピンセット1Aの真空引きを行う。次に、図2(a)に示すように、支持部3を変形させることによって、先端部材4の先端の位置を被処理体Wの反りに合わせる。支持部3の変形は、使用者の手を用いて行う。
この状態で、被処理体Wに接するように真空ピンセット1Aの先端部材4の先端を近づけて、被処理体Wを吸着させる。なお、通常状態(ボタン9を押さない状態)において真空引きを行い、ボタン9を押すことによって真空引きを解除する構成としてもよい。
まず、使用者は、ボタン9を押すことによって、真空ピンセット1Aの真空引きを行う。次に、図2(a)に示すように、支持部3を変形させることによって、先端部材4の先端の位置を被処理体Wの反りに合わせる。支持部3の変形は、使用者の手を用いて行う。
この状態で、被処理体Wに接するように真空ピンセット1Aの先端部材4の先端を近づけて、被処理体Wを吸着させる。なお、通常状態(ボタン9を押さない状態)において真空引きを行い、ボタン9を押すことによって真空引きを解除する構成としてもよい。
真空吸着後、真空引きの状態を維持しながら、図2(b)に示すように、支持部3の変形を解除する。支持部3の変形が元に戻ると、3本の先端部材4も同一平面上になるように形状が戻る。これにより、被処理体Wは、吸着部5によって変形され、反りが平坦に矯正される。
なお、3本の先端部材4のうち、中央の先端部材4に吸着部5を設けない構成を採用することもできる。この場合、被処理体Wの吸着は両側の吸着部5によって行われ、反りの矯正は、両側の吸着部5と中央の1本の先端部材4を用いて行われる。
なお、3本の先端部材4のうち、中央の先端部材4に吸着部5を設けない構成を採用することもできる。この場合、被処理体Wの吸着は両側の吸着部5によって行われ、反りの矯正は、両側の吸着部5と中央の1本の先端部材4を用いて行われる。
なお、本実施形態の先端部材4は、3本で構成されているが、これに限ることはなく、図7に示す真空ピンセット1Dのように、4本以上の先端部材4Dを備える構成としてもよい。また、本実施形態の先端部材4は、先端部材4同士が扇状となるような配置としたが、図8に示す真空ピンセット1Eのように、先端部材4Eが互いに平行になるように、支持部3Eに接続されるような構成としてもよい。
<第二実施形態>
次に、本発明に係る第二実施形態を図面に基づいて説明する。
図3は、本実施形態に係る真空ピンセット1Bを示す図である。なお、ここでは第一実施形態との相違点を中心に述べ、同様の部分についてはその説明を省略する。
次に、本発明に係る第二実施形態を図面に基づいて説明する。
図3は、本実施形態に係る真空ピンセット1Bを示す図である。なお、ここでは第一実施形態との相違点を中心に述べ、同様の部分についてはその説明を省略する。
本実施形態の先端部材は、一対の駆動手段41B、該駆動手段41Bによって回転する一対の回転軸部42B、該回転軸部42Bの回転により回動する一対の水平部43B、及び該水平部43Bの回動を制限するストッパー44Bとから構成されている。
本実施形態の真空ピンセット1Bは、2つの長尺状の水平部43Bを一直線上に配置し、これら2つの水平部43Bが「く」の字を描くように水平部43Bを回動させることによって、吸着部5を有する一対の水平部43Bの形状を、反りを有する被処理体Wに形状を合わせることを特徴としている。
本実施形態の真空ピンセット1Bは、2つの長尺状の水平部43Bを一直線上に配置し、これら2つの水平部43Bが「く」の字を描くように水平部43Bを回動させることによって、吸着部5を有する一対の水平部43Bの形状を、反りを有する被処理体Wに形状を合わせることを特徴としている。
各々の水平部43Bは、平面視が矩形の板形状をなしており、2つの水平部43Bがその長手方向一直線上になるように配置されている。吸着部5は、水平部43Bの一面43Ba(図4(a)参照)上であって、各々の水平部43Bの端部に設けられている。2つの水平部43Bを一直線上に配置する際は、各々の吸着部5が両端側に位置するように配置される。つまり、吸着部5は、一直線上に配置された一対の水平部43Bの両端に配置される。
また、一対の水平部43Bは、吸着部5が設けられている一面43Baが同一平面上に配されるように配置されている。
また、一対の水平部43Bは、吸着部5が設けられている一面43Baが同一平面上に配されるように配置されている。
回転軸部42Bは、水平部43Bの平面視における短手方向に沿うように(水平部43Bの長手方向に直角に)、水平部43B同士の隣接部に近接する軸Bを中心に、水平部43Bを回転させるように水平部43Bの側面に接続されている。
駆動手段41Bは、前記回転軸部42Bを回転させるように、回転軸部42Bと本体2との間に配置されている。
また、2つの水平部43Bのうちの一方の水平部43Bには、板状のストッパー44Bが設けられている。ストッパー44Bは、水平部43Bの他面43Bb(吸着部5の形成されていない面)に貼り付けられている。このストッパー44Bは、2つの水平部43Bが同一平面状になった際に、他方の水平部43Bに当接するように設けられており、水平部43Bの過回転を防止するような機能を有している。
また、吸着部5と真空引き用ホース6とを接続する吸引流路は、例えば、回転軸部42Bや、駆動手段41Bの内部に形成してもよいし、被処理体Wと吸着面との間に干渉しないように、外側に設けてもよい。
また、2つの水平部43Bのうちの一方の水平部43Bには、板状のストッパー44Bが設けられている。ストッパー44Bは、水平部43Bの他面43Bb(吸着部5の形成されていない面)に貼り付けられている。このストッパー44Bは、2つの水平部43Bが同一平面状になった際に、他方の水平部43Bに当接するように設けられており、水平部43Bの過回転を防止するような機能を有している。
また、吸着部5と真空引き用ホース6とを接続する吸引流路は、例えば、回転軸部42Bや、駆動手段41Bの内部に形成してもよいし、被処理体Wと吸着面との間に干渉しないように、外側に設けてもよい。
次に、本実施形態の真空ピンセット1Bの使用方法について説明する。
まず、使用者は、図示しない制御手段を用いて、一対の水平部43Bの一面43Baが被処理体Wの反りに沿うように、回転軸部42Bを回動させる。
次いで、使用者は、ボタン9を押すことによって、真空ピンセット1Bの真空引きを行う。この状態で、被処理体Wに接するように真空ピンセット1Bの水平部43Bの吸着部5を近づけて、被処理体Wを吸着させる。
真空吸着後、真空引きの状態を維持しながら、図4(b)に示すように、2つの水平部43Bを直線状に戻す。このように、2つの水平部43Bが同一平面状に配されることによって、被処理体Wの反りは平坦になるように矯正される。
まず、使用者は、図示しない制御手段を用いて、一対の水平部43Bの一面43Baが被処理体Wの反りに沿うように、回転軸部42Bを回動させる。
次いで、使用者は、ボタン9を押すことによって、真空ピンセット1Bの真空引きを行う。この状態で、被処理体Wに接するように真空ピンセット1Bの水平部43Bの吸着部5を近づけて、被処理体Wを吸着させる。
真空吸着後、真空引きの状態を維持しながら、図4(b)に示すように、2つの水平部43Bを直線状に戻す。このように、2つの水平部43Bが同一平面状に配されることによって、被処理体Wの反りは平坦になるように矯正される。
<第三実施形態>
次に、本発明に係る第三実施形態を図面に基づいて説明する。
図5は、本実施形態に係る真空ピンセット1Cを示す図である。なお、ここでは第一実施形態との相違点を中心に述べ、同様の部分についてはその説明を省略する。
第三実施形態に係る真空ピンセット1Cは、本体2Cの一端に接続された支持部3Cの両側に先端部材4Cが接続されており、該先端部材4Cが支持部3Cに対して可動であることを特徴としている。
次に、本発明に係る第三実施形態を図面に基づいて説明する。
図5は、本実施形態に係る真空ピンセット1Cを示す図である。なお、ここでは第一実施形態との相違点を中心に述べ、同様の部分についてはその説明を省略する。
第三実施形態に係る真空ピンセット1Cは、本体2Cの一端に接続された支持部3Cの両側に先端部材4Cが接続されており、該先端部材4Cが支持部3Cに対して可動であることを特徴としている。
真空ピンセット1Cを構成する支持部3C及び2つの先端部材4Cは、平面視矩形の板状部材である。他の実施形態と同様に、先端部材4Cには、吸着部5が形成されており、該吸着部5は先端部材4Cの内部に形成された第一吸引流路10Caに連通している。
2つの先端部材4Cは、支持部3Cの両側に配置されている。支持部3Cと先端部材4Cとは、円筒形構造の蛇腹形状を有する蛇腹状接続部材15によって連結されている。該蛇腹状接続部材15は、支持部3Cの内部に形成された第二吸引流路10Cbと前記第一吸引流路10Caとを接続する流路としても機能する。
2つの先端部材4Cは、支持部3Cの両側に配置されている。支持部3Cと先端部材4Cとは、円筒形構造の蛇腹形状を有する蛇腹状接続部材15によって連結されている。該蛇腹状接続部材15は、支持部3Cの内部に形成された第二吸引流路10Cbと前記第一吸引流路10Caとを接続する流路としても機能する。
蛇腹状接続部材15は円筒形構造であり、その両端の位置関係を伸縮方向に変化させるように形状を変化させることができるとともに、両端の角度も変化させるように形状を変化させることができる。また、蛇腹状接続部材15は形状を変化させた際、その形状を維持できるように、形状保持性の樹脂から形成されている。よって、支持部3Cと先端部材4Cとがなす角度は、通常状態(被処理体を吸着していない状態)において、任意に変更させることができる。
また、支持部3Cの側面、及び先端部材4Cの側面のうち、吸引流路が開口する端面32C、42C(図6(a)参照)は、吸着部5が形成される平面41C及び該平面41Cに隣接する支持部3Cの平面31Cに対して直角に形成されている。
次に、本実施形態の真空ピンセット1Cの使用方法について説明する。
まず、使用者は、ボタン9を押すことによって、真空ピンセット1Cの真空引きを行う。
次に、支持部3Cに対する先端部材4Cの角度を変えることによって、図6(a)に示すように、2つの先端部材4Cの平面41Cと支持部3Cの平面31Cがなす形状を、反りを有する被処理体Wの形状に合わせる。
まず、使用者は、ボタン9を押すことによって、真空ピンセット1Cの真空引きを行う。
次に、支持部3Cに対する先端部材4Cの角度を変えることによって、図6(a)に示すように、2つの先端部材4Cの平面41Cと支持部3Cの平面31Cがなす形状を、反りを有する被処理体Wの形状に合わせる。
この状態で、被処理体Wに接するように真空ピンセット1Cを近づけた後、真空引きを行う。真空引きを行うことによって、吸着部5が被処理体Wに吸着するとともに、蛇腹状接続部材15内の圧力が減少し、蛇腹状接続部材15が収縮する。蛇腹状接続部材15が収縮することにより、図6(b)に示すように、支持部3Cの端面32Cと、先端部材4Cの端面42Cとが当接し、支持部3Cの平面31Cと先端部材4Cの平面41Cが同一面上に配置されるようになる。つまり、平面31Cと先端部材4Cの平面41Cとで、一つの平面をなすようになる。これによって、被処理体Wの反りを平坦に矯正することができる。
本実施形態の真空ピンセット1Cは、被処理体Wの吸着と同時に被処理体Wを平らに矯正することが可能であるため、より速く被処理体Wの吸着、矯正が可能となる。
なお、上述した説明においては、真空ピンセット1A〜1Eを反りのある被処理体Wに吸着させる例を示したが、これに限ることはなく、真空ピンセット1A〜1Eを反りのない被処理体Wに対して用いて被処理体Wを吸着させてもよい。
1A〜1E…真空ピンセット、2…本体、3…支持部、4…先端部材、5…吸着部、6…真空引き用ホース、9…ボタン、10…吸引流路、15…蛇腹状接続部材、41B…駆動手段、42B…回転軸部、43B…水平部、44B…ストッパー。
Claims (6)
- 本体と、
前記本体の端部に設けられた支持部と、
一端が前記支持部に接続され、他端に吸着部を備えた複数の先端部材と、を少なくとも備え、
前記先端部材と前記支持部と前記本体部の内部に吸引流路が設けられた、反りを有する平板状の被処理体用の真空ピンセットであって、
前記複数の先端部材は、前記反りの形状に合わせるように、及び、前記反りを矯正するように、支持部に対して可動であることを特徴とする真空ピンセット。 - 前記複数の先端部材は長尺状であり、互いに平行になるように、前記支持部に接続されていることを特徴とする請求項1に記載の真空ピンセット。
- 前記複数の先端部材は長尺状であり、前記支持部に接続された一端における先端部材同士の間隔よりも他端における先端部材同士の間隔が大きくなるような扇状をなすように、前記支持部に接続されていることを特徴とする請求項1に記載の真空ピンセット。
- 前記複数の先端部材は、
一端が前記支持部に接続され、前記本体の長手方向に沿う2つの棒形状をなす2本の回転軸部と、
該回転軸部の他端より、互いに離間する方向に延在された水平部とからなり、
前記先端部材は、前記回転軸部を中心に回動可能に構成されていることを特徴とする請求項1に記載の真空ピンセット。 - 前記支持部及び前記先端部材は、少なくとも一面が平面をなす形状とされているとともに、前記吸着部は、前記先端部材の平面部に形成されており、
前記先端部材は、前記支持部の両側に延在するように、前記吸引流路の一部として機能する蛇腹状接続部材を介して接続されており、
真空吸引され、前記蛇腹状接続部材の内部圧力が減少することによって、前記蛇腹状接続部材が収縮し、
前記支持部の平面と直角をなす支持部の端面と、前記先端部材の平面と直角をなす先端部材の端面とが当接し、前記先端部材の平面部と、前記支持部の平面部とが、同一平面上に配されるように構成されていることを特徴とする請求項1に記載の真空ピンセット。 - 請求項1〜3のいずれか1項に記載の真空ピンセットを用いた真空吸着方法であって、
前記支持部に力を加えることによって、前記吸着部の位置を被処理体の形状に合わせる工程と、
前記吸着部により被処理体を吸着させる工程と、
前記屈曲部から力を抜いて、被処理体を平らにする工程と、を有することを特徴とする真空吸着方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010172224A JP2012033723A (ja) | 2010-07-30 | 2010-07-30 | 真空ピンセット及び真空吸着方法 |
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JP (1) | JP2012033723A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108292620A (zh) * | 2015-11-20 | 2018-07-17 | 盛美半导体设备(上海)有限公司 | 输送半导体衬底的机械手 |
-
2010
- 2010-07-30 JP JP2010172224A patent/JP2012033723A/ja active Pending
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