JP2012009870A5 - - Google Patents

Claims (11)

1. 太陽電池の処理方法であって、
   バッチ処理用に構成された縦型炉を用意するステップであって、前記炉は、互いに離隔された集積回路処理用の円形半導体ウェーハの配列を受容するようになっている、鉛直方向に延在する、ほぼ円筒形のプロセスチャンバを備える、ステップと、
   複数の太陽電池用基板を用意するステップであって、前記太陽電池用基板は処理対象の第１の表面を有し、前記第１の表面に沿って延在する前記太陽電池用基板のサイズは前記円形半導体ウェーハの対応サイズより小さい、ステップと、
   複数の前記太陽電池用基板用にプロセスチャンバ装填構成を構成するステップであって、前記装填構成は、太陽電池用基板の配列を複数含み、各配列はほぼ鉛直に向けられてほぼ水平方向に離隔された複数の太陽電池用基板を含み、前記それぞれの配列は前記縦型炉内の前記プロセスチャンバの中心軸に沿って位置する複数のレベルに配置され、前記プロセスチャンバ内に収容可能な太陽電池用基板の数は円形半導体ウェーハの数より大幅に多い、ステップと、
   前記太陽電池用基板を前記プロセスチャンバ内で処理にかけるステップと、
   を含む方法であって、前記構成するステップはさらに、
   ほぼ鉛直に向けられてほぼ水平方向に離隔された複数の前記太陽電池用基板の前記各配列を、前記プロセスチャンバの位置から水平方向に離れた位置においてボートに装填するステップと、
   前記複数のレベルに配置された各配列が装填された各ボートをラック内に配置するステップと、
   前記複数の太陽電池用基板が装填された前記複数のボートが配置された前記ラックを前記プロセスチャンバに装填するステップと、
   を含むことを特徴とする方法。
2. 前記プロセスチャンバ内の前記太陽電池用基板は、薄膜を前記太陽電池用基板の表面に設けるために、原子層堆積（ＡＬＤ）プロセスにかけられる、請求項１に記載の方法。
3. 前記配列は互いに離隔されてほぼ平行に配置された複数の太陽電池用基板から成るスタックである、請求項１に記載の方法。
4. １つの配列の各太陽電池用基板の中心点は、前記太陽電池の表面に対してほぼ直角に延在する仮想線上に位置付けられ、前記それぞれの配列の前記仮想線は一定の相互間距離で、好ましくはほぼ平行に、延在する、請求項１に記載の方法。
5. 配列内の隣接太陽電池用基板間の間隔は５ｍｍより小さい、請求項１に記載の方法。
6. 前記太陽電池用基板は円形または正方形の形状を有する、請求項１に記載の方法。
7. 配列内の隣接太陽電池用基板間の間隔は３ｍｍより小さい、請求項１に記載の方法。
8. 配列内の隣接太陽電池用基板間の間隔は約２ｍｍである、請求項１に記載の方法。
9. 前記プロセスチャンバの前記中心軸に沿って前記複数のレベルに配置された前記複数の配列は共に第１の配列セットを形成し、前記装填構成は、少なくとも第２の配列セットをさらに含み、前記第２のセットも前記中心軸に沿って位置する複数のレベルに配置された複数の配列を備え、前記第１のセットおよび前記第２のセットは、互いに水平方向にずらされる、請求項１に記載の方法。
10. 各配列は放射状構成を有し、各基板、少なくとも各基板の処理対象面、は前記それぞれの基板の前記中心点を通る前記仮想線がほぼ円形の形状を有するように、ほぼ半径方向に向けられる、請求項１に記載の方法。
11. 第１の配列の太陽電池用基板が隣接する第２の配列内の隣接する２つの太陽電池用基板の間に少なくとも一部延在するように、前記装填構成内の隣接配列同士が一部重なり合う、請求項１に記載の方法。