JP2012008127A - メトロロジ用の反射屈折照明システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】一実施形態では、反射屈折光学システムは、放射を反射するように位置決めされかつ構成された第1の反射面と、第1の反射面から反射された放射を平行ビームとして反射するように位置決めされかつ構成された第2の反射面であって、第2の反射面を通る放射の透過を可能にするアパーチャを有する第2の反射面と、アパーチャから第1の反射面に向かって延在し、第1の反射面と第2の反射面との間に第1の反射面に放射を供給するアウトレットを有するチャネル構造とを含む。
【選択図】 図4
Description
本発明は、概して光学システム、より具体的には放射屈折光学システムを対象とする。
リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板または基板の一部上に付与する機械である。リソグラフィ装置は、例えばフラットパネルディスプレイ、集積回路(IC)、および微細構造が関与する他のデバイスの製造に用いられうる。従来の装置では、マスクまたはレチクルとも呼ばれうるパターニングデバイスを用いて、IC、フラットパネルディスプレイ、または他のデバイスの個別の層に対応する回路パターンを生成することができる。このパターンは、基板(例えばガラスプレート、ウェーハ等)の全部または一部上に、基板上に設けられた放射感応性材料(例えばレジスト)層上に結像することによって転写することができる。
しかしながら、公知のスキャトロメータは1つ以上の欠点を有する。例えば、従来のスキャトロメータは1度に1つの波長しか検出しない。結果として2以上の波長を有するスペクトルは時間多重化される必要があり、これはスペクトルを検出かつ処理するためにかかる総収集時間を増加する。
本明細書に組み込まれかつ本明細書の一部を形成する添付図面は、本発明を例示し、また、以下の記載と共にさらに本発明の原理を説明しかつ当業者に本発明をなしかつ使用することを可能にするものである。
本発明の1つ以上の実施形態による光学システムの追加の詳細を提供する前に、まず、そのような光学システムがその中で用いられうるリソグラフィ環境およびスキャトロメトリシステムの例を説明することが有用である。
図1は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を示す。図1の装置は、イルミネータIL、サポート構造MT、基板テーブルWT、および投影システムを含む。図1に示すように、この装置は透過型(例えば投影システム内で屈折光学要素を用いる)である。或いは、この装置は反射型(例えば投影システム内で実質的に反射要素のみを用いる)であってもよい。
図2A〜図2Cは、本発明の一実施形態による角度分解および分光スキャトロメトリの原理を概略的に示す。角度分解および分光スキャトロメトリによって、基板Wの表面の1つ以上の特性を決定しうる。一実施形態では、図2Aを参照するに、スキャトロメータは、基板W上へと放射を向ける放射源2(例えば広帯域(白色光)放射源)を含む。反射された放射は、センサ4(例えばスペクトロメータディテクタ)に渡され、このセンサ4は、鏡面反射された放射のスペクトル10(波長の関数としての強度)を測定する。このデータから、図2Bおよび図2Cに示すように、例えば厳密結合波分析および非線形回帰によって、または、シミュレートされたスペクトルのライブラリとの比較によって、検出されたスペクトルを生じさせている構造または形状を再構成されうる。一般に、再構成のために、構造の一般形状は既知であり、幾つかのパラメータが、その構造が作られたプロセスの知識から推定されるので、スキャトロメトリデータから決定される構造のパラメータは幾つかしかない。
一実施形態では、スキャトロメータは反射屈折光学システムを含む。
スキャトロメータといったメトロロジツールのための反射屈折光学システムを記載した。本発明の様々な実施形態を上に述べたが、これらの実施形態は例示的にのみ示しかつ限定的ではないことを理解すべきである。当業者には明らかであろうが、本発明の精神および範囲から逸脱することなく、実施形態の形態および詳細に関して様々な変更をなしうる。例えば本明細書に記載した実施形態の1つ以上の特徴は、本明細書に記載した別の実施形態の1つ以上の特徴と組み合わされてもまたはそれらに置き換えられてもよい。例えば、対物系15に関して上述した反射屈折光学システムは、平行ビームを出力するように適切に変更されている場合に照明システムにおいて用いられうる。
Claims (15)
- 放射を面に送り、前記面によって方向転換された放射を受け取る対物系と、
前記対物系からの前記方向転換された放射を受け取るディテクタと、
前記対物系に方向転換のための前記放射を送る照明システムであって、照明システム反射屈折光学システムを含む照明システムと、
を含むメトロロジツール。 - 前記対物系は、対物系反射屈折光学システムを含む、請求項1に記載のメトロロジツール。
- 前記メトロロジツールはスキャトロメータである、請求項1に記載のメトロロジツール。
- 前記照明システム反射屈折光学システムは、
放射を反射するように位置決めされかつ構成された第1の反射面と、
前記第1の反射面から反射された放射を平行ビームとして反射するように位置決めされかつ構成された第2の反射面であって、前記第2の反射面を通る放射の透過を可能にするアパーチャを有する、第2の反射面と、
前記アパーチャから前記第1の反射面に向かって延在し、前記第1の反射面と前記第2の反射面との間に前記第1の反射面に放射を供給するアウトレットを有するチャネル構造と、
を含む、請求項1に記載のメトロロジツール。 - 前記第2の反射面は、第1の固体透過要素部分の面を形成するかまたはその面上にあり、前記チャネル構造は、前記第1の固体透過要素部分を通るチャネルアパーチャを含む、請求項4に記載のメトロロジツール。
- 約193から1050ナノメートルの範囲からの放射の波長全てを透過するように構成される、請求項1に記載のメトロロジツール。
- 瞳半径範囲で放射の約15%以下を遮るように構成される、請求項1に記載のメトロロジツール。
- 放射を反射するように位置決めされかつ構成された第1の反射面と、
前記第1の反射面から反射された放射を平行ビームとして反射するように位置決めされたかつ構成された第2の反射面であって、前記第2の反射面を通る放射の透過を可能にするアパーチャを有する第2の反射面と、
前記アパーチャから前記第1の反射面に向かって延在し、前記第1の反射面と前記第2の反射面との間に前記第1の反射面に放射を供給するアウトレットを有するチャネル構造と、
を含む、反射屈折光学システム。 - 前記第2の反射面は、第1の固体透過要素部分の面を形成するかまたはその面上にある、請求項8に記載の反射屈折光学システム。
- 前記第1の反射面は、前記第1の固体透過要素部分に隣接する第2の固体透過要素部分の面を形成するかまたはその面上にある、請求項9に記載の反射屈折光学システム。
- 前記チャネル構造は、前記第1の固体透過要素部分を通るチャネルアパーチャを含む、請求項9に記載の反射屈折光学システム。
- 流体が、前記第1および第2の反射面間に延在する前記チャネル構造を囲み、また、少なくとも前記第1の反射面または前記第2の反射面の外側の側面境界内にある、請求項8に記載の反射屈折光学システム。
- 前記チャネル構造内を延在するまたは前記チャネル構造を形成する光ファイバをさらに含む、請求項8に記載の反射屈折光学システム。
- 対物系を用いて面に放射を送ることと、
前記対物系を用いて前記面によって方向転換された放射を受け取ることと、
前記対物系からの前記方向転換された放射を用いて前記面のパラメータを検出することと、
反射屈折光学システムを用いて前記対物系に方向転換のための前記放射を送ることと、
を含むメトロロジ方法。 - 前記放射を送ることは、
前記反射屈折光学システムの第1の反射面を用いて放射を反射することと、
平行ビームを形成するように第2の反射面を用いて前記第1の反射面から反射された放射を反射することと、
を含み、
前記第2の反射面は、前記第2の反射面を通る放射の透過を可能にするアパーチャを有し、
チャネル構造が、前記アパーチャから前記第1の反射面に延在し、かつ、前記第1の反射面と前記第2の反射面との間に前記第1の反射面に放射を供給するアウトレットを有する、請求項14に記載のメトロロジ方法。
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