KR100982136B1 - 스케터로메트리를 위한 카타디옵트릭 광학 시스템 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (19)
- 카타디옵트릭(catadioptic) 광학 시스템에 있어서:1 이상의 수차를 보정하기 위해 전자기 방사선을 컨디셔닝(condition)하도록 구성된 보정 플레이트;상기 보정 플레이트에 의해 컨디셔닝된 상기 전자기 방사선을 반사하도록 위치된 제 1 반사 표면;상기 제 1 반사 표면에 의해 반사된 상기 전자기 방사선을 기판의 타겟부 상에 포커스하도록 위치된 제 2 반사 표면을 포함하고,상기 제 2 반사 표면은 단일체 유리 요소(monolithic glass element)의 표면이며,상기 제 1 반사 표면에 의해 반사되고 상기 제 2 반사 표면에 의해 포커스된 상기 전자기 방사선은, 광학 요소에 의해 굴절되지 않아 상기 카타디옵트릭 광학 시스템으로 하여금 200 nm 내지 1000 nm 스펙트럼 범위에서 작동할 수 있게 하는 것을 특징으로 하는 카타디옵트릭 광학 시스템.
- 제 1 항에 있어서,상기 제 1 반사 표면은 볼록한 반사 표면을 포함하는 것을 특징으로 하는 카타디옵트릭 광학 시스템.
- 삭제
- 제 1 항에 있어서,상기 제 1 반사 표면은 상기 단일체 유리 요소의 제 2 표면 상에 위치되는 것을 특징으로 하는 카타디옵트릭 광학 시스템.
- 제 1 항에 있어서,상기 제 1 반사 표면은 상기 제 2 반사 표면과 상기 기판 사이에 위치되는 것을 특징으로 하는 카타디옵트릭 광학 시스템.
- 제 5 항에 있어서,상기 제 1 반사 표면은 기계적 지지체들 상에 위치되는 것을 특징으로 하는 카타디옵트릭 광학 시스템.
- 제 5 항에 있어서,상기 제 1 반사 표면은 요철 렌즈(meniscus) 상에 위치되는 것을 특징으로 하는 카타디옵트릭 광학 시스템.
- 제 5 항에 있어서,상기 제 2 반사 표면은 상기 보정 플레이트와 상기 제 1 반사 표면 사이에 위치되고, 상기 제 2 반사 표면은 상기 보정 플레이트에 의해 컨디셔닝된 상기 전자기 방사선이 통과하는 홀을 포함하는 것을 특징으로 하는 카타디옵트릭 광학 시스템.
- 제 1 항에 있어서,상기 제 2 반사 표면은 오목한 비구면 반사 표면(concave aspheric reflective surface)을 포함하는 것을 특징으로 하는 카타디옵트릭 광학 시스템.
- 제 1 항에 있어서,상기 카타디옵트릭 광학 시스템은 스케터로미터(scatterometer)의 감지 브랜치(sensing branch) 및 정렬 브랜치(alignment branch) 모두에 포함되는 것을 특징으로 하는 카타디옵트릭 광학 시스템.
- 스케터로메트리(scatterometry)를 위한 광학 시스템에 있어서:전자기 방사선을 굴절(deflect)시키는 광학 요소; 및상기 광학 요소와 광학적으로 접촉되고, 상기 굴절된 전자기 방사선을 수용하도록 구성된 단일체 유리 요소를 포함한 대물렌즈 시스템(objective system)을 포함하고, 상기 단일체 유리 요소는:상기 전자기 방사선을 반사하는 제 1 표면,상기 제 1 표면으로부터 상기 전자기 방사선을 수용하고, 상기 전자기 방사선을 기판의 타겟부를 향해 포커스하는 제 2 표면, 및제 3 표면을 포함하며, 상기 제 2 표면에 의해 반사되고 포커스된 상기 전자기 방사선은 상기 제 3 표면에 수직하여 상기 단일체 유리 요소를 나가며,상기 광학 요소 및 단일체 유리 요소는 동일한 형태의 재료로 구성되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
- 제 11 항에 있어서,상기 광학 요소는:상기 전자기 방사선을 반사하는 경사 표면(tilted surface)- 상기 경사 표면은 그 안에 홀을 가짐 -; 및상기 경사 표면에 의해 반사된 상기 전자기 방사선을 반사하여, 상기 전자기 방사선으로 하여금 상기 경사 표면 내의 홀을 통과하고 상기 단일체 유리 요소의 제 1 표면 상에 입사하게 하는 비구면(aspheric surface)을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
- 제 11 항에 있어서,상기 광학 시스템 내의 코마(coma)를 보정하도록 상기 전자기 방사선을 컨디셔닝하는 굴절 요소를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
- 제 11 항에 있어서,상기 제 1 표면은 평탄한 고리(annulus)를 포함하고, 상기 제 3 표면은 상기 고리의 중심 내에 위치되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
- 제 11 항에 있어서,상기 광학 요소 및 상기 단일체 유리 요소는 용융 실리카(fused silica: SiO2)를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
- 스케터로메트리를 위한 카타디옵트릭 광학 시스템에 있어서:상기 카타디옵트릭 광학 시스템의 1 이상의 수차를 보정하도록 전자기 방사선을 컨디셔닝하는 굴절 렌즈 그룹;상기 굴절 렌즈 그룹으로부터 상기 전자기 방사선을 수용하고, 상기 전자기 방사선을 제 1 포커스 스폿(focused spot)으로 포커스하도록 순응되는 제 1 단일체 유리 요소; 및상기 제 1 단일체 유리 요소로부터 상기 전자기 방사선을 수용하고, 상기 전자기 방사선을 기판의 타겟부 상의 제 2 포커스 스폿으로 포커스하도록 구성되는 제 2 단일체 유리 요소를 포함하고,상기 전자기 방사선은 제 1 구면 굴절 표면에 수직하여 상기 제 2 단일체 유리 요소에 들어오고, 제 2 구면 굴절 표면에 수직하여 상기 제 2 단일체 유리 요소를 나가는 것을 특징으로 하는 카타디옵트릭 광학 시스템.
- 제 16 항에 있어서,상기 제 1 구면 굴절 표면은 상기 제 1 포커스 스폿과 동심(concentric)이고, 상기 제 2 구면 굴절 표면은 상기 제 2 포커스 스폿과 동심인 것을 특징으로 하는 카타디옵트릭 광학 시스템.
- 제 16 항에 있어서,상기 제 1 단일체 유리 요소는:제 1 중심의 투명한 부분을 갖는 제 1 반사 표면; 및제 2 중심의 투명한 부분을 갖는 제 2 반사 표면을 포함하고,상기 전자기 방사선은 상기 제 1 중심의 투명한 부분을 통해 상기 제 1 단일체 유리 요소에 들어오고, 상기 제 2 중심의 투명한 부분을 통해 상기 제 1 단일체 유리 요소를 나가는 것을 특징으로 하는 카타디옵트릭 광학 시스템.
- 제 16 항에 있어서,상기 제 2 단일체 유리 요소는:상기 제 1 구면 굴절 표면을 통해 상기 제 2 단일체 유리 요소에 들어가는 전자기 방사선을 반사하는 평탄한 반사 표면; 및상기 평탄한 반사 표면으로부터의 전자기 방사선을 반사하고 상기 제 2 포커 스 스폿으로 포커스하는 비구면 반사 표면을 포함하는 것을 특징으로 하는 카타디옵트릭 광학 시스템.
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