JP2012006026A - 除塵吸引装置及び同吸引装置を備えたレーザ加工機 - Google Patents

Abstract

【課題】太陽電池用基板の全周に薄膜のない絶縁部を形成するのに用いて好適な除塵吸引装置と同装置を備えたレーザ加工機の提供。
【解決手段】板状のワークＷの端縁部を支持するワーククランプ６及び位置決め用治具７と、ダクト８を介して吸気源Ｖに連結連通される吸引ヘッド３とを備える。吸引ヘッド３は、ダクト８の一端が接続する横長の固定チャンバ３１と、固定チャンバ３１の上部に設けられる昇降自在な可動ノズル３２とを有する。固定チャンバ３１は、可動ノズル３２の下部が摺動自在にして嵌合する外枠部３４を有し、外枠部３４に隣接する位置には可動ノズル３２を昇降させるノズル駆動部４が設けられる。又、ワーククランプ６及び位置決め治具７は、それぞれワークＷの端縁部を支持する支持位置と、可動ノズル３２の移動経路上から外れる待機位置との間で移動可能な接触子６７ａ，６８ａ及び７５を有している。
【選択図】図５

Description

本発明は、集積型薄膜太陽電池などを製造する際に用いられる除塵吸引装置に係り、特にレーザビームによるワークの加工時に発生する塵埃を好適に除去することのできる除塵吸引装置と、これを備えたレーザ加工機に関する。

一般に、薄膜太陽電池はガラスなどの透光性絶縁基板上に、薄膜として透明導電膜、光電変換層、及び裏面電極を順次積層するなどして構成されるが、集積型では通常、レーザビームにより薄膜を構成する各層を短冊状に分離して直列接続するパターニング（レーザパターニング）が行われる。

ここに、レーザパターニングには、図１１のように絶縁基板Ｐの周縁を絶縁部Ｉｎとして薄膜成分の全てを一定幅で取り除く工程も含まれるが、このとき薄膜形成面を上向きにしてレーザビームをスクライビングすると、レーザビームにより取り除かれた薄膜の分離成分（アブレーション滓）が飛散し、そのアブレーション滓がパターニングされた薄膜部分に再付着して電気的に絶縁されるべき箇所を導電結合してしまい、その除去に大変なクリーニング作業を行う必要が生ずる。

このため、近年では、薄膜に対するアブレーション滓の再付着を軽減することなどを目的として、薄膜形成面を下向きにし、その薄膜形成面に対して下方からレーザビームを照射するか、あるいは透光性絶縁基板を通して上方からレーザビームを照射するようにしているが、このとき発生するアブレーション滓が煙のように微細な粉塵として舞い上がることも少なくなく、これを放置した場合には当該アブレーション滓により薄膜が汚損されてしまう。

そこで、凹部を有するステージ上に、ガラス基板を薄膜形成面が下向きとなる姿勢で配置すると共に、ステージの底部に集塵ダクトを連通せしめ、その集塵ダクトを集塵機に接続してアブレーション滓を回収するという提案がされている（例えば、特許文献１）。

特開２００１−１１１０７８号公報

しかしながら、特許文献１に記載される太陽電池製造装置では、集塵機とステージとを繋ぐ可撓性の集塵ダクトが基板を載せたステージの往復移動により暴れ、これによる振動が基板に伝わってレーザビームの焦点深さがずれてしまったり、集塵ダクトが繰り返しの曲げ応力によって早期に破断してしまったりするという問題を惹起する。

加えて、ガラス基板（板状のワーク）の全周がステージによって下方から支持され、そのガラス基板により凹部が密閉されてしまうことになるので、集塵機の吸引力が徐々に低下し、凹部内に発生したアブレーション滓を好適に除去できなくなる。

しかも、集塵ダクトはステージの底部中央に連通されるので、レーザビームの照射位置が中央から端部に移動したときに集塵効果が低下してしまうという問題がある。

又、ガラス基板の全周がステージによって支持されることから、ガラス基板の周縁に図１１のような絶縁部Ｉｎを形成することができず、これを防止するべくステージをガラス基板より小さくして絶縁部Ｉｎの形成部分がステージの外側に張り出すようにした場合には、絶縁部Ｉｎの形成に際して当該部分に集塵機の吸引力が全く作用せず、絶縁部Ｉｎの形成に際してアブレーション滓を回収できなくなる。

本発明は以上のような事情に鑑みて成されたものであり、その目的は太陽電池用基板の全周に薄膜のない絶縁部を形成するのに用いて好適な除塵吸引装置と同装置を備えたレーザ加工機を提供することにある。

本発明は上記の目的を達成するため、
板状のワークの端縁部を支持するワーク支持具と、ダクトを介して吸気源に連結連通される吸引ヘッドとを備え、その吸引ヘッドより上方に配される前記ワークの加工時に発生する塵埃を吸引除去する除塵吸引装置であり、
前記吸引ヘッドは、前記ダクトの一端が接続する横長の固定チャンバと、その固定チャンバの上部に設けられる昇降自在な可動ノズルとを有し、
前記固定チャンバは、前記可動ノズルの下部が摺動自在にして嵌合する外枠部を有し、その外枠部に隣接する位置には、前記可動ノズルを昇降させるノズル駆動部が設けられ、
前記ワーク支持具は、前記ワークの端縁部を支持する支持位置と、前記可動ノズルの移動経路上から外れる待機位置との間で移動可能な接触子を有していることを特徴とする。

又、本発明は、板状のワークを配置する加工ステージと、前記ワークの端縁部を支持するワーク支持具と、前記ワークの端縁部に沿って移動しながらその端縁部に向けて上方からレーザビームを照射する加工ヘッドと、前記加工ステージ上に配されたワークより下方に配置される吸引ヘッドとを備えたレーザ加工機であり、
前記吸引ヘッドは、ダクトを介して吸気源に連結連通される横長の固定チャンバと、その固定チャンバの上部に設けられる昇降自在な可動ノズルとを有し、
前記固定チャンバは、前記可動ノズルの下部が摺動自在にして嵌合する外枠部を有し、その外枠部に隣接する位置には、前記可動ノズルを昇降させるノズル駆動部が設けられ、
前記ワーク支持具は、前記ワークの端縁部を支持する支持位置と、前記可動ノズルの移動経路上から外れる待機位置との間で移動可能な接触子を有していることを特徴とする。

更に、上記のように構成されるレーザ加工機において、方形のワークに対応して少なくとも４つの吸引ヘッドが方形状に配列されていると共に、前記ワークの各端縁部に対応して前記ワーク支持具が複数設けられ、
前記加工ヘッドにより前記ワークの一端縁部にレーザビームが照射されるとき、当該一端縁部に対応するワーク支持具を前記待機位置に移動させながら、前記ワークの一端縁部の下方に位置する吸引ヘッドの可動ノズルを上昇させる制御部を備えていることを特徴とする。

加えて、各吸引ヘッドに対応して前記ダクトが吸気源からエアマニホールドを介して複数の分岐管として分岐され、その各分岐管内に前記制御部により個別に開閉制御されるダンパが設けられていることを特徴とする。

本発明によれば、ダクトを介して吸気源に連通する固定チャンバとその上部に設けられる可動ノズルとを有し、その可動ノズルが固定チャンバの上部（外枠部）内に摺動自在に嵌合して昇降する構成とされていることから、可動ノズルのみを上昇させてその上方に位置するワークの部位に近接させながら、その可動ノズルによってワークから発生する塵埃を好適に吸引除去することができる。

加えて、ワークの端縁部を支持するワーク支持具を有すると共に、そのワーク支持具がワークの端縁部を支持する支持位置と可動ノズルの移動経路上から外れる待機位置との間で移動可能な接触子を有していることから、ワークの端縁部にレーザビームによる加工を施す場合でも、ワーク支持具を待機位置に退避させてレーザビームから保護しつつ、可動ノズルをワークの端縁部に近接させて集塵効果を上げることができる。

又、方形のワークに対応して可動ノズルを含む少なくとも４つの吸引ヘッドが方形状に配列され、その各可動ノズルの昇降や複数のワーク支持具の移動が制御部により制御されるようにしていることから、ワークのレーザ加工を効率良く行うことができ、しかも各吸引ヘッドに対応してダクトがエアマニホールドを介して複数の分岐管に分岐され、その各分岐管内に制御部により個別に開閉制御されるダンパが設けられていることから、吸気容量の小さい吸気源を用いながら、ワークの加工位置に対応する可動ノズルからだけ吸気して大きな集塵力を得ることができる。

本発明に係る除塵吸引装置を備えたレーザ加工機を示す正面図 同レーザ加工機の加工ステージとその周囲を示す平面図 本発明に係る除塵吸引装置を構成する吸引ヘッドを部分的破断して示した斜視図 吸引ヘッドの一部を示す正面図 図２のＡ−Ａ拡大断面図 図２のＢ−Ｂ拡大断面図 図２のＣ−Ｃ拡大断面図 本発明に係る除塵吸引装置の吸気系統を示す管路図 可動ノズルの配列形態を示す平面概略図 吸引ヘッドの変形例を示す説明図 ワークを示す斜視図

以下、図面に基づいて本発明を詳しく説明する。先ず、図１に本発明に係る除塵吸引装置を備えたレーザ加工機の全体像を示してその構成を概説すれば、１は複数の支持脚により高さ調整可能に支持された架台であり、その上面には左右一対の支柱１１が前後方向に間隔をあけて二組（図１には前側の支柱１１のみ示されている）立てられている。

前後一対の支柱１１の上面にはそれぞれ桁材１２が架設されており、その桁材１２上にガイドレール１３が敷設されている。ガイドレール１３には走行台１４が摺動自在にして係合されており、その走行台１４がリニア駆動部１５（例えば、リニアモータ）から動力を得てガイドレール１３の長手方向（前後方向）に移動するようになっている。

又、左右一対の走行台１４上には梁材１６が架設されており、その梁材１６にもその長手方向に沿ってガイドレール１７が敷設されている。ガイドレール１７にはその長手方向（左右方向）に摺動自在なスライド１８が係合され、そのスライド１８がリニア駆動部１９（例えば、リニアモータ）から動力を得て走行台１４の移動方向と直交する方向に移動する構成とされている。

スライド１８には、後述する板状のワークに向けて上方からレーザビームを照射する加工ヘッドＬｈが取り付けられており、その加工ヘッドＬｈから照射されるレーザビームによって上記ワークに所定の加工が施されるようになっている。

尚、架台１の上面部は、方形に組まれた防塵カバー１ａにより囲まれた加工ステージ２とされ、その加工ステージ２上に上記ワークが配されるようになっている。

図２から明らかなように、加工ステージ２は、ベースプレート２１上に立てられた４つの外枠部３４により区画された方形の領域であり、その加工ステージ２内には一点鎖線で示される方形板状のワークＷを空気圧により浮上させるための帯状のフロートユニット２２が所定の間隔をあけて並列状に設けられている。それらフロートユニット２２は、上面に複数の空気噴出口（図示せず）を穿設した中空構造物であり、その各空気噴出口から噴射される空気によりワークＷを１ｍｍ程度浮上させることができる。尚、ワークＷは、例えばレーザパターニングを施すための薄膜を片面に形成した太陽電池用パネル（本例において、縦１４００ｍｍ、横１１００ｍｍ）であり、係るワークＷはガラスなどの透光性絶縁基板に施された光電変換層などの薄膜形成面を下向きにして、加工ステージ２上に浮上状態で配される。

一方、加工ステージ２の周囲には、外枠部３４を含む４つの吸引ヘッド３が方形の配列形態で配置されており、それら吸引ヘッド３によりワークＷの加工時に発生する塵埃（本例においてアブレーション滓）が吸引除去される構成とされている。

図３において、吸引ヘッド３は、ベースプレート２１に固定される横長の固定チャンバ３１と、固定チャンバ３１の上部に設けられる昇降自在な可動ノズル３２とにより構成される。本例において、固定チャンバ３１は、ベースプレート２１の底面に固定される下部チャンバ３３と、ベースプレート２１を介して下部チャンバ３３内に連通する上記外枠部３４とからなり、ベースプレート２１には下部チャンバ３３と外枠部３４を連通するスリット状の連通孔２１ａが形成されている。

下部チャンバ３３は、凹字形の断面を有する構造物であり、その上端開口縁には固定用のフランジ３３ａが形成されている。又、外枠部３４は、左右一対の側面部３４ａとその両側面部３４ａに直交する端面部３４ｂとを有する横長の偏平な角筒状であり、その内部は可動ノズル３２が嵌め込まれるノズル挿入口３４ｃとされ、下端縁には固定用のフランジ３４ｄが形成されている。

可動ノズル３２も外枠部３４と同じく横長の偏平な角筒状であり、その上端開口部分は吸気口３２ａとしてＶ字状に広がっている。そして、係る可動ノズル３２は、外枠部３４内に昇降可能にして嵌合され、後述するノズル駆動部によってその昇降が行われる。

図２において、４は上記のノズル駆動部であり、このノズル駆動部４は、４つの吸引ヘッド３に対応し、その各外枠部３４に隣接する位置に設けられており、各々その部位が上記可動ノズル３２の長手方向中央部分に連結されている。尚、本例において、図２の左右に示される外枠部３４，３４の長手方向両端は、筒状のノズルガイド３５として外枠部３４とは区分されており、そのノズルガイド３５内には図４に示されるサブノズル３６が昇降可能にして嵌合され、ノズルガイド３５には横長の下部チャンバ３３とは別の小チャンバ３７が連通されている。そして、そのサブノズル３６は、可動ノズル３２とは別にノズル駆動部５によって昇降される構成とされている。

又、図２から明らかなように、ベースプレート２１上には、加工ステージ２上に配されたワークＷの端縁部を支持するワーク支持具として、複数のワーククランプ６及び位置決め治具７が設けられている。そのワーククランプ６及び位置決め治具７は、加工ステージ２上に浮上配置されるワークＷの各端縁部に沿って外枠部３４に隣接する位置に設けられている。

以下、ノズル駆動部４とワーク支持具６，７の構成について詳述する。尚、ノズル駆動部５は、ノズル駆動部４と基本的に同一の構成であるから、その構成についてはノズル駆動部４の構造説明をもって説明を省略する。

図５において、ノズル駆動部４は、ベースプレート２１に固定したイケール４１と、イケール４１の垂直面に固定したアクチュエータ４２を有する。本例において、アクチュエータ４２は、ヘッド側（ロッド側）を上向きにしてイケール４１に固定した複動形の空気圧シリンダであり、その伸縮ロッドにはＬ形のスライド板４３が連結されている。スライド板４３には、ブラケット４４が固定され、そのブラケット４４の先端が可動ノズル３２の側面に結合されている。しかして、係るノズル駆動部４によれば、アクチュエータ４２の伸縮駆動により、ワークＷの端縁部の直下において可動ノズル３２を昇降させることができる。尚、可動ノズル３２の昇降ストロークは３０ｍｍ程度であり、上昇端では可動ノズル３２の下部が外枠部３４内に嵌合したまま、その上端（吸気口３２ａ）がワークＷの底面端縁部に近接する。

次に、図６において、ワーククランプ６は、２つのアクチュエータ６１，６２を備えている。本例において、それらアクチュエータ６１，６２も複動形の空気圧シリンダであり、その一方６１はヘッド側を外枠部３４に向けてベースプレート２１上に固定され、その伸縮ロッドにＬ形のスライド板６３が連結されている。スライド板６３の上には２つのイケール６４，６５が固定されており、このうち一方のイケール６４の垂直面にアクチュエータ６２がそのヘッド側を上向きにして固定され、その伸縮ロッドにＬ形のスライド板６６が連結されている。スライド板６６には、外枠部３４の上方に向けて延びるアーム部材６７が固定され、アーム部材６７の先端には合成樹脂などからなるパッド６７ａが取り付けられている。

又、イケール６５の上端にはブラケット６８が固定され、そのブラケット６８によりローラ６８ａが回転自在に支持されている。

そして、係るワーククランプ６によれば、アクチュエータ６１の伸縮駆動によりパッド６７ａ及びローラ６８ａを可動ノズル３２の上方に移動させ、次いでアクチュエータ６２の伸縮駆動によりパッド６７ａを引き下げて、ワークＷの端縁部をパッド６７ａ及びローラ６８ａにより挟持することができる。尚、パッド６７ａ及びローラ６８ａは、ワークＷの端縁部を挟んで固定支持する接触子であり、その両者６７ａ，６８ａは図６の実線で示される待機位置と一点鎖線で示される支持位置との間を移動可能とされ、待機位置ではワークＷの端縁部から離間して可動ノズル３２の移動経路上から外れ、支持位置では下降端にある可動ノズル３２の上方にあって上記の如くワークＷの端縁部を上下方向から挟んで固定支持することとなる。

一方、位置決め治具７は、図７に示されるように、ベースプレート２１上に固定される台座７１と、その台座７１上に固定されるアクチュエータ７２とを備える。本例において、このアクチュエータ７２も複動形の空気圧シリンダであり、これはそのヘッド側を外枠部３４に向けて台座７１上に固定され、その伸縮ロッドにはＬ形のスライド板７３が連結されている。スライド板７３には、外枠部３４の上方に向けて延びるアーム部材７４が固定され、アーム部材７４の先端にはワークＷの端面に接触するローラ７５が取り付けられている。

そして、係る位置決め治具７によれば、アクチュエータ７２の伸縮駆動によりローラ７５を可動ノズル３２の上方に移動させ、そのローラ７５をワークＷの端面に押し付けてワークＷを側方より支持しながら、前後左右方向でのワークＷの位置決めをすることができる。尚、ローラ７５はワークＷを側方から支持するべくその端面に宛がわれる接触子であり、これは図７の実線で示される待機位置と一点鎖線で示される支持位置との間を移動可能とされ、待機位置ではワークＷの端面から離間して可動ノズル３２の移動経路上から外れ、支持位置では下降端にある可動ノズル３２の上方にあって上記の如くワークＷの端面に接触しながらワークＷを側方より支持することとなる。

次に、吸引ヘッド３に接続する吸気系統の構成について説明すると、図４〜図７に示されるように、吸引ヘッド３を構成する下部チャンバ３３には管接続口３３ｂが設けられ、その下部チャンバ３３とは別の小チャンバ３７にも図４のように管接続口３７ａが形成されている。

そして、下部チャンバ３３や小チャンバ３７は、図８のようにダクト８を介して吸気源Ｖに連結連通されている。尚、吸気源Ｖには、真空ポンプや排風機が好適に用いられる。ここに、ダクト８は、一端が吸気源Ｖに接続する本管８１、本管８１の他の一端が接続するエアマニホールド８２、及びエアマニホールド８２に各一端が接続する分岐管８３，８４からなり、その各分岐管８３，８４の他の各一端が下部チャンバ３３と小チャンバ３７にそれぞれ接続されている。又、本管８１にはエアフィルタ８５が介在され、分岐管８３内にはその一端部（分岐端）においてそれぞれダンパ８６が設けられている。

ダンパ８６は、図示せぬ空気圧モータにより作動する蝶形ダンパであり、その駆動源（空気圧モータ）は、複数の制御弁からなるバルブ装置８７を介してエアコンプレッサなどの空気圧源８８に配管接続されている。

又、図８のように、バルブ装置８７には、上記ノズル駆動部４及びワーク支持具６，７の駆動源となるアクチュエータ４２，６１，６２，７２（空気圧シリンダ）が配管接続されているほか、バルブ装置８７を構成する各制御弁を制御する制御部９が導電接続されている。しかして、その制御部９により、各ダンパ８６の開閉制御、ならびにノズル駆動部４及びワーク支持具（ワーククランプ６、位置決め治具７）の駆動制御が個別に行われるようになっている。

ここで、以上のように構成される除塵吸引装置を備えたレーザ加工機の使用態様について説明すると、係るレーザ加工機は、主としてワークＷ（透光性絶縁基板の片面に光電変換層などの薄膜が形成された薄膜太陽電池パネル）の全周に対し、図１１に示すような絶縁部Ｉｎを形成するのに用いられる。上記のように、ワークＷはその薄膜形成面を下向きにして加工ステージ２上に浮上配置され、その各端縁部がワーククランプ６及び位置決め治具７により支持される。

尚、図９において、ワークＷの４つの端縁部をそれぞれＥ１，Ｅ２，Ｅ３，Ｅ４とし、その各端縁部Ｅ１〜Ｅ４に対応する可動ノズル３２、ワーククランプ６、位置決め治具７、ならびにサブノズル３６に、便宜上それぞれ添え字Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄを付加してそれらの動作を説明すれば、加工ヘッドＬｈが図９に示されるポイント位置からワークＷの一端縁部Ｅ１に沿って同図右方に移動するとき、ワーククランプ６Ａ及び位置決め治具７Ａは待機位置に退き、ワークＷは他の３つの端縁部Ｅ２〜Ｅ４がワーククランプ６Ｂ，６Ｃ，６Ｄ及び位置決め治具７Ｂ，７Ｃ，７Ｄにより支持される。又、可動ノズル３２Ａ及びサブノズル３６Ａ，３６Ｂは上昇端にあって、ワークＷの端縁部Ｅ１より発生した塵埃（アブレーション滓）を吸引し、他の可動ノズル３２Ｂ，３２Ｃ，３２Ｄ及びサブノズル３６Ｃ，３６Ｄは下降端にあって加工ヘッドＬｈの到来を待ち受ける。

そして、図９の右端に到達した加工ヘッドＬｈは、引き続きワークＷの端縁部Ｅ２に沿って図９の上方に移動するのであり、このとき可動ノズル３２Ａ及びサブノズル３６Ａが降下しながら、待機位置にあったワーククランプ６Ａ及び位置決め治具７Ａが支持位置に向けて進行してワークＷの端縁部Ｅ１を支持する一方、ワーククランプ７Ｂ及び位置決め治具７Ｂが待機位置に退き、可動ノズル３２Ｂ及びサブノズル３６Ｃが上昇端に移動してワークＷの端縁部Ｅ２より発生する塵埃を吸引するよう作用する。

尚、加工ヘッドＬｈは、レーザビームを左右に振らせながら移動するのであり、このため加工ヘッドＬｈの移動経路上においてワークＷの下面の薄膜は一定幅（１０ｍｍ程度）で除去され、加工ヘッドＬｈがワークＷの端面部Ｅ１〜Ｅ４に沿って１周すると、ワークＷの全周に図１１のような絶縁部Ｉｎが形成されることとなる。又、４つのサブノズル３６は加工ヘッドＬｈの位置に関係なく常時吸気するが、可動ノズル３２は下降端にあってその吸気経路（図８に示したダンパ８６）が閉じられる。

ここに、薄膜に対するレーザビームの照射により発生するアブレーション滓は、その多くが微細な粉塵と化して浮遊するので、これをそのまま放置すると薄膜に再付着して電気的に絶縁されるべき箇所が導電結合してしまうところ、本発明ではそのアブレーション滓が発生直後に可動ノズル３２ですぐさま吸引されるので、パターニングされた薄膜を汚損せず好適な状態に保つことができ、しかもアブレーション滓の吸引時には可動ノズル３２がその発生部に近接するので取りこぼしが無く、更に加工ヘッドＬｈの直下に位置する可動ノズル３２のみ吸気するので、排気容量の小さい吸気源Ｖを用いながら、大きな集塵力を得られる。

以上、本発明の実施形態を説明したが、係る除塵吸引装置ならびにレーザ加工機は太陽電池に限らず、液晶パネルのパターニングその他の加工にも好適に用いることができる。

又、固定チャンバは、図１０（ａ）のように下部チャンバ３３と外枠部３４が一体成形された構造でもよいし、あるいは図１０（ｂ）のように下部チャンバ３３に相当する部分のない外枠部３４のみの形態でもよい。

又、ノズル駆動部４、ワーククランプ６、位置決め治具７の駆動源として、油圧シリンダや電磁ソレノイドを利用できるほか、モータを駆動源とするクランク機構や送りねじ機構により可動ノズル３２および接触子（パッド６７ａやローラ６８ａ，７５）を移動させる構成とすることもできる。

Ｗ ワーク
Ｌｈ 加工ヘッド
２ 加工ステージ
３ 吸引ヘッド
３１ 固定チャンバ
３２ 可動ノズル
３３ 下部チャンバ
３４ 外枠部
４ ノズル駆動部
６ ワーククランプ（ワーク支持具）
６７ａ パッド（接触子）
６８ａ ローラ（接触子）
７ 位置決め治具（ワーク支持具）
７５ ローラ（接触子）
８ ダクト
８１ 本管
８２ エアマニホールド
８３ 分岐管
８６ ダンパ
Ｖ 吸気源
９ 制御部

Claims (4)

1. 板状のワークの端縁部を支持するワーク支持具と、ダクトを介して吸気源に連結連通される吸引ヘッドとを備え、その吸引ヘッドより上方に配される前記ワークの加工時に発生する塵埃を吸引除去する除塵吸引装置であり、
   前記吸引ヘッドは、前記ダクトの一端が接続する横長の固定チャンバと、その固定チャンバの上部に設けられる昇降自在な可動ノズルとを有し、
   前記固定チャンバは、前記可動ノズルの下部が摺動自在にして嵌合する外枠部を有し、その外枠部に隣接する位置には、前記可動ノズルを昇降させるノズル駆動部が設けられ、
   前記ワーク支持具は、前記ワークの端縁部を支持する支持位置と、前記可動ノズルの移動経路上から外れる待機位置との間で移動可能な接触子を有していることを特徴とする除塵吸引装置。
2. 板状のワークを配置する加工ステージと、前記ワークの端縁部を支持するワーク支持具と、前記ワークの端縁部に沿って移動しながらその端縁部に向けて上方からレーザビームを照射する加工ヘッドと、前記加工ステージ上に配されたワークより下方に配置される吸引ヘッドとを備えたレーザ加工機であり、
   前記吸引ヘッドは、ダクトを介して吸気源に連結連通される横長の固定チャンバと、その固定チャンバの上部に設けられる昇降自在な可動ノズルとを有し、
   前記固定チャンバは、前記可動ノズルの下部が摺動自在にして嵌合する外枠部を有し、その外枠部に隣接する位置には、前記可動ノズルを昇降させるノズル駆動部が設けられ、
   前記ワーク支持具は、前記ワークの端縁部を支持する支持位置と、前記可動ノズルの移動経路上から外れる待機位置との間で移動可能な接触子を有していることを特徴とするレーザ加工機。
3. 方形のワークに対応して少なくとも４つの吸引ヘッドが方形状に配列されていると共に、前記ワークの各端縁部に対応して前記ワーク支持具が複数設けられ、
   前記加工ヘッドにより前記ワークの一端縁部にレーザビームが照射されるとき、当該一端縁部に対応するワーク支持具を前記待機位置に移動させながら、前記ワークの一端縁部の下方に位置する吸引ヘッドの可動ノズルを上昇させる制御部を備えていることを特徴とする請求項２記載のレーザ加工機。
4. 各吸引ヘッドに対応して前記ダクトが吸気源からエアマニホールドを介して複数の分岐管として分岐され、その各分岐管内に前記制御部により個別に開閉制御されるダンパが設けられていることを特徴とする請求項３記載のレーザ加工機。

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