JP2012004225A - Fixture for substrate to be cut and manufacturing method for product substrate - Google Patents

Fixture for substrate to be cut and manufacturing method for product substrate Download PDF

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健一 駒津
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a fixture for a substrate to be cut and a manufacturing method for a product substrate capable of reducing manufacturing time of the product substrate.SOLUTION: A fixture 40 for a semiconductor substrate A comprises: a mounting section 41 where the semiconductor substrate A is to be mounted; a blade groove 45 in which blade 32a and 32b to cut the semiconductor substrate A are to be inserted; and a water supply hole 46 having an opening 46a on the blade groove 45 to supply water to the blade groove 45.

Description

被切断基板の治具及び製品基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a jig for a substrate to be cut and a method for manufacturing a product substrate.

従来から、複数個のICを樹脂材料にて封入した半導体用基板を切断して半導体パッケージが製造されている(例えば、特許文献1)。特許文献1に開示される半導体パッケージの製造装置は、半導体用基板を固定する治具と半導体用基板を切断する切断機構とを備えている。   Conventionally, a semiconductor package in which a plurality of ICs are encapsulated with a resin material is cut to manufacture a semiconductor package (for example, Patent Document 1). The semiconductor package manufacturing apparatus disclosed in Patent Document 1 includes a jig for fixing a semiconductor substrate and a cutting mechanism for cutting the semiconductor substrate.

この製造装置では、治具が、半導体用基板を載置する載置部と、半導体用基板の切断箇所に対応して形成されて載置部を区画するブレード溝とを備えている。また、切断機構は、スピンドルに回転可能に支持されたブレードと、ブレードの側面及び刃先に冷却水を噴射する噴射機構と、切断時にパッケージの表面に気液二流体混合液を噴射する破材除去機構とを備え、縦横及び上下方向に往復移動可能に構成されている。   In this manufacturing apparatus, the jig includes a mounting portion on which the semiconductor substrate is mounted, and a blade groove that is formed corresponding to the cut portion of the semiconductor substrate and partitions the mounting portion. In addition, the cutting mechanism includes a blade rotatably supported by the spindle, an injection mechanism that injects cooling water onto the side and tip of the blade, and debris removal that injects a gas-liquid two-fluid mixture onto the surface of the package when cutting And a mechanism capable of reciprocating vertically and horizontally and vertically.

この製造装置では、半導体用基板が、その切断箇所が治具のブレード溝と一致するように治具に載置される。この状態で、切断機構は、半導体用基板の切断線に沿って移動するととともに、ブレードを回転させて治具のブレード溝を挿入させることで半導体用基板を切断する。噴射機構は、ブレードによる切断時に、ブレードに冷却水を噴射して、ブレードや半導体用基板が高温となるのを抑制する。また、破材除去機構は、気液二流体混合液を噴射して、切断によりパッケージの上面(治具と反対側の面)に付着した切削屑などの破材を吹き飛ばして除去するようにしている。   In this manufacturing apparatus, the semiconductor substrate is placed on the jig such that the cut portion coincides with the blade groove of the jig. In this state, the cutting mechanism moves along the cutting line of the semiconductor substrate and cuts the semiconductor substrate by rotating the blade and inserting the blade groove of the jig. The spray mechanism sprays cooling water onto the blade when cutting with the blade, and suppresses the blade and the semiconductor substrate from becoming high temperature. In addition, the broken material removal mechanism jets the gas-liquid two-fluid mixture and blows away the broken material such as cutting chips adhering to the upper surface of the package (surface opposite to the jig) by cutting. Yes.

特開2009−218397号公報JP 2009-218397 A

上記の製造方法では、半導体用基板の切断により生じた破材がブレード溝内に落下したり、この破材が切断箇所周辺に噴射される冷却水や気液二流体に混入してブレード溝内に流れ落ちたりすることによって、半導体用基板の治具側の面に破材が付着することがある。そのため、半導体用基板の切断後に、切断された半導体パッケージを洗浄用のユニットに移動させて半導体パッケージに付着した破材を除去する必要があり、製造時間が長くなる。   In the above manufacturing method, the broken material generated by cutting the semiconductor substrate falls into the blade groove, or the broken material is mixed into the cooling water or the gas-liquid two-fluid sprayed around the cutting portion. Or the like, the broken material may adhere to the surface of the semiconductor substrate on the jig side. For this reason, after cutting the semiconductor substrate, it is necessary to move the cut semiconductor package to a cleaning unit to remove the broken material adhering to the semiconductor package, which increases the manufacturing time.

なお、こうした問題は、複数個のICからなる基板を切断して1つのICチップに分割する場合や、ICを封入又は積層する前の樹脂基板等を切断する場合など、他の被切断基板を切断して製品基板を製造する場合にも生じうる。   Note that such problems may occur when cutting a substrate made up of a plurality of ICs and dividing them into one IC chip, or when cutting other resin substrates before encapsulating or stacking ICs. It may also occur when manufacturing a product substrate by cutting.

本発明は、上記実情に鑑みてなされてものであり、その目的は、製品基板の製造時間を短縮することができる被切断基板の治具及び製品基板の製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a jig for a substrate to be cut and a method for manufacturing a product substrate, which can shorten the manufacturing time of the product substrate.

本発明の一観点によれば、被切断基板の治具が、被切断基板が載置される載置部と、前記被切断基板を切断するブレードが挿入されるブレード溝と、前記ブレード溝内の破材を除去する除去手段とを備える。   According to an aspect of the present invention, a jig for a substrate to be cut includes a placement portion on which the substrate to be cut is placed, a blade groove into which a blade for cutting the substrate to be cut is inserted, and a blade groove Removing means for removing the broken material.

また、本発明の一観点によれば、被切断基板を治具に載置し、ブレードによって、前記治具に形成されたブレード溝に沿って前記被切断基板を切断することで製品基板に分割し、前記ブレード溝に対応して設けられる除去手段により、前記ブレード溝内の破材を除去することで、製品基板を製造する。   Further, according to one aspect of the present invention, the substrate to be cut is placed on a jig, and the substrate to be cut is cut along a blade groove formed in the jig by a blade to be divided into product substrates. Then, the product substrate is manufactured by removing the broken material in the blade groove by the removing means provided corresponding to the blade groove.

これらの構成によれば、製品基板の破材を除去するにあたって、切断された製品基板を洗浄ユニットに移動させる必要がなく、被切断基板を切断用の治具に載置した状態で、被切断基板の治具側の面に付着した破材を除去することができる。したがって、製品基板の破材除去に要する時間を短縮して、製品基板の製造時間を短縮することができる。   According to these configurations, it is not necessary to move the cut product substrate to the cleaning unit when removing broken material from the product substrate, and the substrate to be cut is placed on the cutting jig while being cut. The broken material adhering to the surface of the substrate on the jig side can be removed. Therefore, it is possible to shorten the time required for removing the broken material from the product substrate and shorten the production time of the product substrate.

本発明の一観点によれば、製品基板の破材除去に要する時間を短縮して、製品基板の製造時間を短縮することができる。   According to one aspect of the present invention, it is possible to reduce the time required to remove the broken material from the product substrate and to shorten the manufacturing time of the product substrate.

実施形態に係る半導体パッケージの製造装置を示す模式図。The schematic diagram which shows the manufacturing apparatus of the semiconductor package which concerns on embodiment. 治具を示す平面図。The top view which shows a jig | tool. 図2のIII −III 線における断面構造とその周辺機構を併せて示す模式図。The schematic diagram which shows collectively the cross-section in the III-III line | wire of FIG. 2, and its periphery mechanism. 半導体用基板の切断時における治具及び切断機構を示す平面図。The top view which shows the jig | tool and cutting mechanism at the time of the cutting | disconnection of the board | substrate for semiconductors. 図4のV−V線における断面構造とその周辺機構を併せて示す模式図。The schematic diagram which shows collectively the cross-section in the VV line | wire of FIG. 4, and its periphery mechanism.

以下、一実施形態について、図1〜図5を参照して説明する。
図1に、本実施形態に係る半導体パッケージの製造装置10を示す。製造装置10は、切断前の半導体用基板(被切断基板)Aを載置する搬送ユニット20と、半導体用基板Aを切断する切断ユニット30と、切断後の半導体用基板A、すなわち半導体パッケージ(製品基板)Bを収納する収納ユニット50と、各ユニット20,30,50の動作を制御するための制御装置60とを備えている。なお、図1には、複数個の半導体用基板Aが搬送ユニット20に載置されており、半導体用基板Aは切断ユニット30には載置されておらず、半導体パッケージBが収納ユニット50に収納されている状態を示している。
Hereinafter, an embodiment will be described with reference to FIGS.
FIG. 1 shows a semiconductor package manufacturing apparatus 10 according to this embodiment. The manufacturing apparatus 10 includes a transport unit 20 for placing a semiconductor substrate (substrate to be cut) A before cutting, a cutting unit 30 for cutting the semiconductor substrate A, and a semiconductor substrate A after cutting, that is, a semiconductor package ( A storage unit 50 for storing the product substrate (B), and a control device 60 for controlling the operations of the units 20, 30 and 50. In FIG. 1, a plurality of semiconductor substrates A are placed on the transfer unit 20, the semiconductor substrates A are not placed on the cutting unit 30, and the semiconductor package B is placed in the storage unit 50. The state where it is stored is shown.

半導体用基板Aは、平面視が略矩形状であり、内部に図示しない複数個(本実施形態では、図1のx軸方向に8列、y軸方向に4列の計32個)のICチップが搭載されている。半導体用基板Aは、二点鎖線で示す切断箇所で切断されることにより、平面視が略正方形状の32個の半導体パッケージに分割される。なお、半導体用基板Aの表面には、この切断箇所が表示されていてもよいし、表示されていなくてもよい。半導体用基板Aでは、短辺及び長辺それぞれの中央部に、後述する切断ユニット30の治具40に載置する際の位置合わせ部a1,a2が形成されている。   The semiconductor substrate A has a substantially rectangular shape in plan view, and there are a plurality of ICs (32 in total, in this embodiment, 8 rows in the x-axis direction and 4 rows in the y-axis direction in FIG. 1). A chip is mounted. The semiconductor substrate A is divided into 32 semiconductor packages having a substantially square shape in plan view by being cut at a cutting portion indicated by a two-dot chain line. It should be noted that the cut portion may or may not be displayed on the surface of the semiconductor substrate A. In the semiconductor substrate A, alignment portions a1 and a2 when being placed on the jig 40 of the cutting unit 30 to be described later are formed at the center of each of the short side and the long side.

搬送ユニット20は、ベルトコンベア21と第1搬送機構22とを備えている。ベルトコンベア21は、切断前の複数個の半導体用基板Aを図1のy軸方向に順次搬送する。第1搬送機構22は、本体部23と、本体部23の下面に設けられる吸着盤24と、半導体用基板Aの及び切断ユニット30の治具40を撮像するCCDカメラ25とを備えている。第1搬送機構22の本体部23は、x軸、y軸及びz軸の各方向に往復移動可能である。吸着盤24は、第1空気配管26を通じて第1真空ポンプ27に接続されている。   The transport unit 20 includes a belt conveyor 21 and a first transport mechanism 22. The belt conveyor 21 sequentially conveys a plurality of semiconductor substrates A before cutting in the y-axis direction of FIG. The first transport mechanism 22 includes a main body 23, a suction plate 24 provided on the lower surface of the main body 23, and a CCD camera 25 that images the semiconductor substrate A and the jig 40 of the cutting unit 30. The main body 23 of the first transport mechanism 22 can reciprocate in the x-axis, y-axis, and z-axis directions. The suction board 24 is connected to the first vacuum pump 27 through the first air pipe 26.

切断ユニット30は、半導体用基板Aを切断するための2つの切断機構31a,31bと、半導体用基板Aを固定する治具40とを備えている。
各切断機構31a,31bは、ブレード32a,32bと、ブレード32a,32bを支持するスピンドル33a,33bと、スピンドル33a,33bを回転させるモータ34a,34bとを備えている。モータ34a,34bは、ケーシング35a,35bに収納されており、このケーシング35a,35bには、ブレード32a,32bの冷却及び切断による破材を洗浄するための冷却水を供給する水噴射部36a,36bが取り付けられている。水噴射部36a,36bは、第1給水配管37を通じて第1給水ポンプ38に接続されている。
The cutting unit 30 includes two cutting mechanisms 31 a and 31 b for cutting the semiconductor substrate A, and a jig 40 for fixing the semiconductor substrate A.
Each cutting mechanism 31a, 31b includes blades 32a, 32b, spindles 33a, 33b that support the blades 32a, 32b, and motors 34a, 34b that rotate the spindles 33a, 33b. The motors 34a and 34b are accommodated in casings 35a and 35b, and water injection units 36a and 35a and 35b for supplying cooling water for cleaning broken materials due to cooling and cutting of the blades 32a and 32b, 36b is attached. The water injection units 36 a and 36 b are connected to the first water supply pump 38 through the first water supply pipe 37.

切断機構31a,31bのケーシング35a,35bは、図示しない駆動機構を通じてx軸、y軸及びz軸方向に往復移動可能である。ケーシング35a,35bがこれらの各方向に移動すると、それに伴って、モータ34a,34bとブレード32a,32bとスピンドル33a,33bと水噴射部36a,36bもこれらの各方向に移動する。   The casings 35a and 35b of the cutting mechanisms 31a and 31b can reciprocate in the x-axis, y-axis, and z-axis directions through a driving mechanism (not shown). When the casings 35a and 35b move in these directions, the motors 34a and 34b, the blades 32a and 32b, the spindles 33a and 33b, and the water injection units 36a and 36b also move in these directions.

治具40は、平面視が半導体用基板Aと略同じ大きさの矩形状に形成されている。治具40は、半導体用基板Aを載置する載置部41と、半導体用基板Aの切断箇所に対応して設けられるブレード溝45とを備えている。載置部41は、ブレード溝45によって区画されており、平面視が半導体用基板Aを切断して製造される半導体パッケージBよりも一回り小さい略正方形状であり、x軸方向に8列、y軸方向に4列で配列されている。治具40には、短辺及び長辺それぞれの中央部に、半導体用基板Aとの位置合わせ部b1,b2が設けられている。また、治具40は、切断ユニット30のテーブル30aに、治具40のx軸及びy軸方向の中心cを回動中心として回動可能に支持されている。これにより、治具40は、図1に実線で示す状態と二点差線で示す状態との間で回動可能に構成されている。   The jig 40 is formed in a rectangular shape having the same size as that of the semiconductor substrate A in plan view. The jig 40 includes a placement portion 41 on which the semiconductor substrate A is placed, and a blade groove 45 that is provided corresponding to the cut portion of the semiconductor substrate A. The mounting portions 41 are partitioned by blade grooves 45, and are substantially square shapes whose plan view is slightly smaller than the semiconductor package B manufactured by cutting the semiconductor substrate A, and have eight rows in the x-axis direction. They are arranged in four rows in the y-axis direction. The jig 40 is provided with alignment portions b1 and b2 with the semiconductor substrate A at the center of each of the short side and the long side. The jig 40 is supported by the table 30a of the cutting unit 30 so as to be rotatable about the center c of the jig 40 in the x-axis and y-axis directions. Thereby, the jig | tool 40 is comprised so that rotation between the state shown with a continuous line and the state shown with a 2 point | piece difference line in FIG. 1 is possible.

図2は、治具40を拡大して示す平面図であり、図3は、図2のIII −III 線における断面構造と治具40の周辺機構とを併せて示している。図3に示すように、治具40は、より詳細には、金属層Mの上に樹脂層Rが重なる2層構造となっており、各載置部41は、樹脂層Rで構成されている。図2及び図3に示すように、各載置部41と金属層Mの載置部41に対応する部位とには、半導体用基板Aを吸着固定するための吸引孔42が形成されている。各吸引孔42は、各載置部41の上面から金属層Mの下端まで貫通しており、各吸引孔42の下端は第2空気配管43を通じて第2真空ポンプ44に接続されている。   FIG. 2 is an enlarged plan view showing the jig 40, and FIG. 3 shows the sectional structure taken along the line III-III in FIG. 2 and the peripheral mechanism of the jig 40 together. As shown in FIG. 3, the jig 40 has a two-layer structure in which the resin layer R overlaps the metal layer M in more detail, and each mounting portion 41 includes the resin layer R. Yes. As shown in FIGS. 2 and 3, suction holes 42 for adsorbing and fixing the semiconductor substrate A are formed in each placement portion 41 and a portion of the metal layer M corresponding to the placement portion 41. . Each suction hole 42 penetrates from the upper surface of each mounting portion 41 to the lower end of the metal layer M, and the lower end of each suction hole 42 is connected to the second vacuum pump 44 through the second air pipe 43.

ブレード溝45は、半導体用基板Aの切断時に、切断機構31a,31bのブレード32a,32bが回転して挿入される部分である。ブレード溝45には、図3に示すように樹脂層R(載置部41)の側壁と金属層Mの上面とで構成される。また、ブレード溝45の底面には、この底面から金属層Mの下端まで貫通する複数個の給水孔(除去手段、流体孔)46の開口46aが形成されている。本実施形態では、図2に示すように、給水孔46は、1つの載置部41の4辺に対応して3つずつ設けられている。また、本実施形態では、隣り合う給水孔46の間隔が例えば1mm以下に設定されている。これにより、後述する給水孔46を通じたブレード溝45への給水が、ブレード溝45の各部位に均等でかつ十分に行われる。図3に示すように、給水孔46は、第2給水配管47を通じて第2給水ポンプ48に接続されている。   The blade groove 45 is a portion into which the blades 32a and 32b of the cutting mechanisms 31a and 31b are rotated and inserted when the semiconductor substrate A is cut. As shown in FIG. 3, the blade groove 45 includes a side wall of the resin layer R (mounting portion 41) and an upper surface of the metal layer M. The bottom surface of the blade groove 45 is formed with a plurality of water supply holes (removal means, fluid holes) 46 a that penetrate from the bottom surface to the lower end of the metal layer M. In the present embodiment, as shown in FIG. 2, three water supply holes 46 are provided corresponding to the four sides of one placement portion 41. Moreover, in this embodiment, the space | interval of the adjacent water supply hole 46 is set to 1 mm or less, for example. Thereby, water supply to the blade groove 45 through the water supply hole 46 described later is evenly and sufficiently performed to each part of the blade groove 45. As shown in FIG. 3, the water supply hole 46 is connected to a second water supply pump 48 through a second water supply pipe 47.

図1に示すように、収納ユニット50は、第2搬送機構51と良品トレイ57と不良品トレイ58とを備えている。第2搬送機構51は、本体部52と、本体部52の下面に設けられる吸着盤53と、切断後の半導体パッケージBを撮像するCCDカメラ54とを備えている。第2搬送機構51の本体部52は、x軸、y軸及びz軸の各方向に往復移動可能である。吸着盤53は、第3空気配管55を通じて第3真空ポンプ56に接続されている。良品トレイ57には、半導体用基板Aの切断後の半導体パッケージBのうちの良品B1が収納され、不良品トレイ58には、半導体パッケージBのうちの不良品B2が収納される。   As shown in FIG. 1, the storage unit 50 includes a second transport mechanism 51, a non-defective product tray 57, and a defective product tray 58. The second transport mechanism 51 includes a main body 52, a suction board 53 provided on the lower surface of the main body 52, and a CCD camera 54 that images the semiconductor package B after cutting. The main body 52 of the second transport mechanism 51 can reciprocate in the x-axis, y-axis, and z-axis directions. The suction board 53 is connected to the third vacuum pump 56 through the third air pipe 55. The non-defective product tray 57 stores the non-defective product B1 of the semiconductor package B after the semiconductor substrate A is cut, and the defective product tray 58 stores the defective product B2 of the semiconductor package B.

制御装置60は、図1に一点鎖線の矢印で示すように、各ユニット20,30,50の各機構と電気的に接続されており、これらの各機構の動作を制御する。具体的には、搬送ユニット20では、ベルトコンベア21、第1搬送機構22の本体部23、第1真空ポンプ27及びCCDカメラ25が、制御装置60と電気的に接続されている。また、切断ユニット30では、切断機構31a,31bのモータ34a,34b、ケーシング35a,35bの駆動機構、第2真空ポンプ44及び各給水ポンプ38,48が、制御装置60と電気的に接続されている。収納ユニット50では、第2搬送機構51の本体部52、第3真空ポンプ56及びCCDカメラ54が、制御装置60と電気的に接続されている。   The control device 60 is electrically connected to the mechanisms of the units 20, 30, and 50 as shown by the one-dot chain arrows in FIG. 1, and controls the operation of these mechanisms. Specifically, in the transport unit 20, the belt conveyor 21, the main body 23 of the first transport mechanism 22, the first vacuum pump 27, and the CCD camera 25 are electrically connected to the control device 60. In the cutting unit 30, the motors 34 a and 34 b of the cutting mechanisms 31 a and 31 b, the drive mechanism of the casings 35 a and 35 b, the second vacuum pump 44, and the water supply pumps 38 and 48 are electrically connected to the control device 60. Yes. In the storage unit 50, the main body 52, the third vacuum pump 56, and the CCD camera 54 of the second transport mechanism 51 are electrically connected to the control device 60.

以上のように構成された半導体パッケージの製造装置10では、制御装置60による各種機構の制御により、以下のようにして半導体パッケージBが製造される。半導体パッケージの製造方法について、図1、図4及び図5を参照して説明する。図4は、2つの切断機構31a,31bによって半導体用基板Aが切断される状態を示す平面図を示し、図5は、図4のV−V線における断面構造とその周辺機構とを併せて示す図である。   In the semiconductor package manufacturing apparatus 10 configured as described above, the semiconductor package B is manufactured as follows under the control of various mechanisms by the control device 60. A method for manufacturing a semiconductor package will be described with reference to FIGS. FIG. 4 is a plan view showing a state in which the semiconductor substrate A is cut by the two cutting mechanisms 31a and 31b, and FIG. 5 shows a sectional structure taken along line VV in FIG. FIG.

図1に示すように、まず半導体用基板Aが、ベルトコンベア21上に載置されると、ベルトコンベア21がy軸方向に移動して、半導体用基板Aが図1の紙面における最下端(y軸方向の端部)の位置まで搬送される。制御装置60は、第1搬送機構22の本体部23を下方(z軸方向)に移動させ、この状態で第1真空ポンプ27が稼働することで吸着盤24によって半導体用基板Aを吸着固定する。第1搬送機構22は、半導体用基板Aを吸着固定した状態で、本体部23が上方に移動した後に切断ユニット30側(x軸方向)に移動する。   As shown in FIG. 1, when the semiconductor substrate A is first placed on the belt conveyor 21, the belt conveyor 21 moves in the y-axis direction, and the semiconductor substrate A moves to the lowest end ( It is conveyed to the position of the end in the y-axis direction). The control device 60 moves the main body portion 23 of the first transport mechanism 22 downward (in the z-axis direction), and the first vacuum pump 27 is operated in this state so that the semiconductor substrate A is sucked and fixed by the suction plate 24. . The first transport mechanism 22 moves to the cutting unit 30 side (x-axis direction) after the main body portion 23 moves upward in a state where the semiconductor substrate A is sucked and fixed.

制御装置60は、CCDカメラ25が半導体用基板A及び切断ユニット30の治具40を撮像するように制御し、この撮像結果に基づいて、半導体用基板Aの位置合わせ部a1,a2と治具40の位置合わせ部b1,b2がx軸及びy軸方向において同じ位置となるように、本体部23を移動させる。制御装置60は、CCDカメラ25の撮像結果に基づいて、半導体用基板Aの位置合わせ部a1,a2と治具40の位置合わせ部b1,b2のx軸方向及びy軸方向の位置が一致したと判断すると、第1真空ポンプ27の駆動を停止する。これにより、切断ユニット30の治具40に半導体用基板Aが位置合わせされた状態で載置される。   The control device 60 controls the CCD camera 25 to image the semiconductor substrate A and the jig 40 of the cutting unit 30, and based on the imaging result, the alignment portions a1 and a2 of the semiconductor substrate A and the jig The main body portion 23 is moved so that the 40 alignment portions b1 and b2 are in the same position in the x-axis and y-axis directions. Based on the imaging result of the CCD camera 25, the control device 60 matches the positions of the alignment portions a1 and a2 of the semiconductor substrate A and the alignment portions b1 and b2 of the jig 40 in the x-axis direction and the y-axis direction. If determined, the driving of the first vacuum pump 27 is stopped. As a result, the semiconductor substrate A is placed on the jig 40 of the cutting unit 30 while being aligned.

切断ユニット30では、図5に示すように、半導体用基板Aを載置された状態で、第2真空ポンプ44が稼動することにより、吸引孔42内の空気が第2真空ポンプ44によって吸引され、半導体用基板Aが治具40の載置部41に吸着固定される。制御装置60は、半導体用基板Aが治具40に吸着固定された状態で、切断機構31a,31bを駆動制御することにより、半導体用基板Aの切断を開始する。   In the cutting unit 30, as shown in FIG. 5, the air in the suction hole 42 is sucked by the second vacuum pump 44 by operating the second vacuum pump 44 with the semiconductor substrate A placed thereon. The semiconductor substrate A is sucked and fixed to the mounting portion 41 of the jig 40. The control device 60 starts cutting the semiconductor substrate A by driving and controlling the cutting mechanisms 31a and 31b in a state where the semiconductor substrate A is fixed to the jig 40 by suction.

まず、制御装置60は、図4及び図5に示すように、切断機構31a,31bのケーシング35a,35bを移動させることにより、ブレード32a,32bを半導体用基板Aの切断箇所に対応する位置に移動させる。なお、制御装置60には、予め切断処理される半導体用基板Aに対応する切断箇所が記憶されており、制御装置60は、記憶した情報に基づいて、切断機構31a,31bのケーシング35a,35bを移動させることで、ブレード32a,32bを半導体用基板Aの切断箇所に対応する位置に移動させる。制御装置60は、切断機構31a,31bのモータ34a,34bを駆動してブレード32a,32bを回転させ、この状態で、ケーシング35a,35bを下方(z軸方向)に移動させる。これにより、図5に示すように、ブレード32a,32bが半導体用基板Aの切断箇所を貫通してブレード溝45に挿入され、半導体用基板Aが切断される。   First, as shown in FIGS. 4 and 5, the control device 60 moves the casings 35 a and 35 b of the cutting mechanisms 31 a and 31 b to bring the blades 32 a and 32 b into positions corresponding to the cutting positions of the semiconductor substrate A. Move. Note that the control device 60 stores a cutting location corresponding to the semiconductor substrate A to be cut in advance, and the control device 60 performs casings 35a and 35b of the cutting mechanisms 31a and 31b based on the stored information. The blades 32a and 32b are moved to positions corresponding to the cut portions of the semiconductor substrate A. The control device 60 drives the motors 34a and 34b of the cutting mechanisms 31a and 31b to rotate the blades 32a and 32b, and in this state, moves the casings 35a and 35b downward (z-axis direction). As a result, as shown in FIG. 5, the blades 32 a and 32 b pass through the cut portions of the semiconductor substrate A and are inserted into the blade grooves 45, thereby cutting the semiconductor substrate A.

なお、本実施形態の切断ユニット30は、2つの切断機構31a,31bを備えている。したがって、図4及び図5に示すように、2つの切断機構31a,31bが、x軸方向に並列に配列された状態で、ともにy軸方向に移動することで、半導体用基板Aのy軸方向に伸びる2本の切断箇所が同時に切断される。図4及び図5には、2つの切断機構31a,31bによってx軸方向の両端の切断箇所が既に切断され、2つの切断機構31a,31bの各ブレード32a,32bが、その内側の切断箇所を切断している状態を示している。このように、x軸方向における内側へと切断機構31a,31bが順次移動し、y軸方向に伸びる切断箇所を順に切断する。なお、本実施形態では、y軸方向に伸びる切断箇所は、7箇所で奇数であるため、最後の1箇所は、何れか一方の切断機構31a,31bにより切断される。   Note that the cutting unit 30 of the present embodiment includes two cutting mechanisms 31a and 31b. Therefore, as shown in FIGS. 4 and 5, the two cutting mechanisms 31a and 31b are moved in the y-axis direction while being arranged in parallel in the x-axis direction. Two cutting points extending in the direction are cut simultaneously. 4 and 5, the two cutting mechanisms 31a and 31b have already cut the cutting points at both ends in the x-axis direction, and the blades 32a and 32b of the two cutting mechanisms 31a and 31b It shows a disconnected state. In this way, the cutting mechanisms 31a and 31b sequentially move inward in the x-axis direction, and sequentially cut the cutting portions extending in the y-axis direction. In the present embodiment, since the number of cutting points extending in the y-axis direction is an odd number of seven, the last one point is cut by one of the cutting mechanisms 31a and 31b.

制御装置60は、切断機構31a,31bのブレード32a,32bによる半導体用基板Aの切断時に、各給水ポンプ38,48を駆動する。これにより、水噴射部36a,36bを通じて、ブレード32a,32b及びその周辺に水が噴射され、ブレード32a,32bが冷却されるとともに、切断により半導体用基板Aの上面に付着した切削屑などの破材が水流により除去される。   The control device 60 drives the water supply pumps 38 and 48 when the semiconductor substrate A is cut by the blades 32a and 32b of the cutting mechanisms 31a and 31b. As a result, water is sprayed to and around the blades 32a and 32b through the water ejecting portions 36a and 36b, the blades 32a and 32b are cooled, and the cutting dust and the like adhering to the upper surface of the semiconductor substrate A by cutting are broken. The material is removed by the water stream.

ここで、ブレード32a,32bによって半導体用基板Aを切断することにより、切断による破材がブレード溝45に落下することがある。また、本実施形態では、水噴射部36a,36bを通じて、半導体用基板Aの上方から水を噴射しているため、破材が混入した水がブレード溝45に流れ落ちることによっても、破材がブレード溝45内に進入する可能性がある。そのため、半導体用基板Aの下面に破材が付着する可能性がある。この点、本実施形態では、第2給水ポンプ48を駆動することにより給水孔46を通じてブレード溝45に水が供給される。したがって、ブレード溝45内に進入した破材を水流により除去することで、半導体用基板Aの下面(治具40側の面)に付着した破材を除去することができる。このようにして、本実施形態では、半導体用基板Aの切断と同時に、半導体用基板Aの上面及び下面に付着した破材をともに除去することができる。   Here, when the semiconductor substrate A is cut by the blades 32 a and 32 b, broken material due to the cutting may fall into the blade groove 45. In the present embodiment, water is ejected from above the semiconductor substrate A through the water ejecting portions 36a and 36b. Therefore, even when the water mixed with the broken material flows down to the blade groove 45, the broken material is removed from the blade. There is a possibility of entering the groove 45. For this reason, there is a possibility that broken materials adhere to the lower surface of the semiconductor substrate A. In this regard, in the present embodiment, water is supplied to the blade groove 45 through the water supply hole 46 by driving the second water supply pump 48. Therefore, by removing the broken material that has entered the blade groove 45 with a water flow, the broken material attached to the lower surface (the surface on the jig 40 side) of the semiconductor substrate A can be removed. In this way, in this embodiment, simultaneously with the cutting of the semiconductor substrate A, it is possible to remove both the broken materials adhering to the upper surface and the lower surface of the semiconductor substrate A.

図4及び図5に示す状態で、y軸方向に伸びる切断箇所を全て切断した後、図1に示すように、治具40を中心cを回動中心として90°回転させて図1の二点鎖線で示す状態とする。そして、上記と同様の方法で、切断機構31a,31bによりy軸方向に伸びる3つの切断線をブレードで切断する。この際にも、各給水ポンプ38,48の駆動により、半導体用基板Aの上面及び下面の破材が除去される。このようにして、破材が付着していない半導体パッケージBが製造される。   In the state shown in FIGS. 4 and 5, after cutting all the cutting points extending in the y-axis direction, as shown in FIG. 1, the jig 40 is rotated by 90 ° about the center c as the center of rotation. The state indicated by the dotted line is shown. Then, in the same manner as described above, three cutting lines extending in the y-axis direction are cut with a blade by the cutting mechanisms 31a and 31b. Also at this time, broken materials on the upper and lower surfaces of the semiconductor substrate A are removed by driving the water supply pumps 38 and 48. In this way, the semiconductor package B to which no broken material is attached is manufactured.

切断された半導体パッケージBは、第2搬送機構51によって、収納ユニット50に搬送される。具体的には、第2搬送機構51の本体部52が、切断ユニット30側に移動して、第3真空ポンプ56の駆動させることで吸着盤53により半導体パッケージBを1つずつ吸着固定する。制御装置60は、CCDカメラ54で撮像した画像に基づいて切断状態(切断位置のずれ等)判定し、半導体パッケージBを良品トレイ57及び不良品トレイ58に仕分けする。以上のようにして、半導体パッケージBが製造される。   The cut semiconductor package B is transported to the storage unit 50 by the second transport mechanism 51. Specifically, the main body 52 of the second transport mechanism 51 moves to the cutting unit 30 side and drives the third vacuum pump 56 to suck and fix the semiconductor packages B one by one by the suction disk 53. The control device 60 determines a cutting state (cutting position shift or the like) based on an image captured by the CCD camera 54 and sorts the semiconductor package B into a non-defective product tray 57 and a defective product tray 58. The semiconductor package B is manufactured as described above.

上記実施形態によれば、以下の作用効果を奏することができる。
(1)半導体パッケージの製造装置10では、切断ユニット30の治具40が、半導体用基板Aが載置される載置部41と、半導体用基板Aを切断するブレード32a,32bが挿入されるブレード溝45と、ブレード溝45内に開口46aを有する給水孔46とを備えている。これにより、ブレード溝45に破材が落下したり、破材を含む水が流れ落ちたりする場合であっても、給水孔46を通じてブレード溝45に水を供給することで、ブレード溝45内の破砕を除去することができるため、半導体用基板Aの治具40側の面に付着した破材を除去することができる。したがって、半導体パッケージBの破材を除去するにあたって、切断後の半導体パッケージBを切断ユニット30とは別の洗浄ユニットに移動させる必要がないため、半導体パッケージBの製造時間を短縮することができる。
According to the said embodiment, there can exist the following effects.
(1) In the semiconductor package manufacturing apparatus 10, the jig 40 of the cutting unit 30 is inserted with the placement portion 41 on which the semiconductor substrate A is placed and the blades 32 a and 32 b that cut the semiconductor substrate A. A blade groove 45 and a water supply hole 46 having an opening 46 a in the blade groove 45 are provided. As a result, even when broken material falls into the blade groove 45 or water containing the broken material flows down, the water in the blade groove 45 is crushed by supplying water to the blade groove 45 through the water supply holes 46. Therefore, the broken material adhering to the surface of the semiconductor substrate A on the jig 40 side can be removed. Therefore, since it is not necessary to move the semiconductor package B after cutting to a cleaning unit different from the cutting unit 30 in removing the broken material of the semiconductor package B, the manufacturing time of the semiconductor package B can be shortened.

(2)本実施形態では、ブレード32a,32bによる半導体用基板Aの切断と、治具40の給水孔46を通じたブレード溝45への給水とを同時に行うようにしている。これにより、半導体用基板Aの切断後に給水孔46を通じた給水による破材除去を行う場合と比べて、製造時間をさらに短縮することができる。   (2) In this embodiment, the cutting of the semiconductor substrate A by the blades 32 a and 32 b and the water supply to the blade groove 45 through the water supply hole 46 of the jig 40 are performed simultaneously. Thereby, the manufacturing time can be further shortened as compared with the case where the broken material is removed by water supply through the water supply hole 46 after the semiconductor substrate A is cut.

(その他の実施形態)
・上記実施形態では、ブレード32a,32bによる半導体用基板Aの切断と、給水孔46を通じたブレード溝45への給水とを同時に行うようにしている。しかしながら、ブレードによって半導体用基板を切断した後に、給水孔を通じてブレード溝へ給水するようにしてもよい。この場合であっても、半導体用基板の下面に付着した破材を給水により洗い流して除去することができる。また、半導体用基板を治具に載置した状態で、半導体用基板Aの下面に付着した破材を除去することができるため、破材除去のために半導体パッケージを別ユニットに移して洗浄する必要がなくなり、製造時間を短縮することができる。
(Other embodiments)
In the above embodiment, the cutting of the semiconductor substrate A by the blades 32 a and 32 b and the water supply to the blade groove 45 through the water supply hole 46 are performed simultaneously. However, the semiconductor substrate may be cut by the blade and then supplied to the blade groove through the water supply hole. Even in this case, the broken material adhering to the lower surface of the semiconductor substrate can be washed away with water supply and removed. Moreover, since the broken material adhering to the lower surface of the semiconductor substrate A can be removed in a state where the semiconductor substrate is placed on the jig, the semiconductor package is moved to another unit for cleaning the broken material. This eliminates the need for manufacturing time.

・上記実施形態では、切断機構31a,31bの水噴射部36a,36bによって水を噴射することにより、ブレード32a,32bの冷却と、半導体用基板Aの上面に付着した破材の除去との双方を行うようにしている。しかしながら、ブレードの冷却と半導体用基板Aの上面に付着する破材の除去とを、個別の手段によって行うようにしてもよい。この場合、例えば、背景技術に示したように、ブレードの側面と刃先のそれぞれに冷却水を供給し、半導体用基板Aの切断箇所には気液二流体を噴霧するといった態様を採用するようにしてもよい。   In the above embodiment, both the cooling of the blades 32a and 32b and the removal of the broken material adhering to the upper surface of the semiconductor substrate A are performed by spraying water by the water spraying portions 36a and 36b of the cutting mechanisms 31a and 31b. Like to do. However, the cooling of the blade and the removal of the broken material adhering to the upper surface of the semiconductor substrate A may be performed by individual means. In this case, for example, as shown in the background art, a mode in which cooling water is supplied to each of the side surface and the cutting edge of the blade and the gas-liquid two fluid is sprayed on the cut portion of the semiconductor substrate A is adopted. May be.

・上記実施形態では、ブレード溝45に給水孔46を通じて給水することにより、半導体用基板Aの下面に付着した破材を洗い流すようにしている。しかしながら、例えば、ブレード溝に開口を有する流体孔を通じてブレード溝に空気を噴射することにより、半導体用基板の下面に付着した破材を吹き飛ばして除去したり、流体孔を通じて半導体用基板に付着した破材を吸引することにより、半導体用基板に付着した破材を除去するようにしてもよい。また、除去手段は、ブレード溝の底面に開口を有する構成に限定されず、例えば、ブレード溝の側方から流体を供給又は吸引するための流体配管で構成してもよいし、流体の供給又は吸引以外の方法で治具に載置された半導体用基板の下面の破材を除去するものであってもよい。   In the above embodiment, the broken material adhering to the lower surface of the semiconductor substrate A is washed away by supplying water to the blade groove 45 through the water supply hole 46. However, for example, by blowing air to the blade groove through a fluid hole having an opening in the blade groove, the broken material adhering to the lower surface of the semiconductor substrate is blown away, or the breakage attached to the semiconductor substrate through the fluid hole is removed. You may make it remove the broken material adhering to the board | substrate for semiconductors by attracting | sucking material. Further, the removing means is not limited to a configuration having an opening on the bottom surface of the blade groove, and may be configured by, for example, a fluid pipe for supplying or sucking fluid from the side of the blade groove, You may remove the broken material of the lower surface of the board | substrate for semiconductors mounted in the jig | tool by methods other than attraction | suction.

・また、治具に載置される半導体用基板におけるICの配列態様及び切断箇所は特に限定されない。また、本発明を、半導体用基板以外の被切断基板を切断して製品基板を製造する方法及び治具に適用してもよく、例えば、IC基板(半導体ウエハ)を複数個のICチップに切断する方法及び治具や、樹脂基板を複数個の樹脂基板に切断する方法及び治具に適用してもよい。また、治具の形状及び材料、流体孔の間隔及び個数等は、切断される被切断基板等に応じて適宜変更可能であり、上記実施形態に例示した形状に限定されない。   Moreover, the arrangement | sequence aspect and cutting location of IC in the semiconductor substrate mounted in a jig | tool are not specifically limited. Further, the present invention may be applied to a method and jig for manufacturing a product substrate by cutting a substrate to be cut other than a semiconductor substrate. For example, an IC substrate (semiconductor wafer) is cut into a plurality of IC chips. You may apply to the method and jig | tool to perform, and the method and jig | tool which cut | disconnect a resin substrate into a some resin substrate. Further, the shape and material of the jig, the interval and the number of fluid holes, and the like can be appropriately changed according to the substrate to be cut and the like, and are not limited to the shapes exemplified in the above embodiment.

10…製造装置、30…切断ユニット、30a…テーブル、31a,31b…切断機構、32a,32b…ブレード、36a,36b…水噴射部、37,38…第1給水配管、40…治具、41…載置部、42…吸引孔、43…第2空気配管、44…第2真空ポンプ、45…ブレード溝、46…給水孔、46a…開口、47…第2給水配管、48…第2給水ポンプ、60…制御装置。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Manufacturing apparatus, 30 ... Cutting unit, 30a ... Table, 31a, 31b ... Cutting mechanism, 32a, 32b ... Blade, 36a, 36b ... Water injection part, 37, 38 ... 1st water supply piping, 40 ... Jig, 41 ... Placement part, 42 ... Suction hole, 43 ... Second air pipe, 44 ... Second vacuum pump, 45 ... Blade groove, 46 ... Water supply hole, 46a ... Opening, 47 ... Second water supply pipe, 48 ... Second water supply Pump, 60 ... control device.

Claims (6)

被切断基板が載置される載置部と、
前記被切断基板を切断するブレードが挿入されるブレード溝と、
前記ブレード溝内の破材を除去する除去手段とを備える
ことを特徴とする被切断基板の治具。
A placement section on which the substrate to be cut is placed;
A blade groove into which a blade for cutting the substrate to be cut is inserted;
A jig for a substrate to be cut, comprising: removing means for removing broken material in the blade groove.
前記除去手段は、前記ブレード溝内に開口を有し、前記ブレード溝に流体を供給する又は前記ブレード溝から流体を吸引するための流体孔である
ことを特徴とする請求項1に記載の被切断基板の治具。
The said removal means has an opening in the said blade groove | channel, The fluid hole for supplying a fluid to the said blade groove | channel or attracting | sucking a fluid from the said blade groove | channel is characterized by the above-mentioned. Cutting board jig.
前記載置部には、前記被切断基板を切断して製造される複数の製品基板のそれぞれを吸着固定するための吸引孔が形成される
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の被切断基板の治具。
The suction hole for sucking and fixing each of a plurality of product substrates manufactured by cutting the substrate to be cut is formed in the placement portion. Cutting board jig.
被切断基板を治具に載置し、
ブレードによって、前記治具に形成されたブレード溝に沿って前記被切断基板を切断することで製品基板に分割し、
前記ブレード溝に対応して設けられる除去手段により、前記ブレード溝内の破材を除去する
ことを特徴とする製品基板の製造方法。
Place the substrate to be cut on the jig,
The blade is divided into product substrates by cutting the substrate to be cut along the blade grooves formed in the jig,
A manufacturing method of a product substrate, wherein the broken material in the blade groove is removed by a removing means provided corresponding to the blade groove.
前記除去手段は、前記ブレード溝内に開口を有し、前記ブレード溝に流体を供給する又は前記ブレード溝から流体を吸引するための流体孔である
ことを特徴とする請求項4に記載の製品基板の製造方法。
The product according to claim 4, wherein the removing means is a fluid hole which has an opening in the blade groove and supplies fluid to the blade groove or sucks fluid from the blade groove. A method for manufacturing a substrate.
前記ブレードによる前記被切断基板の切断と前記除去手段による破材の除去とを同時に行う
ことを特徴とする請求項4又は5に記載の製品基板の製造方法。
6. The method for manufacturing a product substrate according to claim 4, wherein the cutting of the substrate to be cut by the blade and the removal of the broken material by the removing means are simultaneously performed.
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