JP2012003977A - 荷電粒子ビーム装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】試料保持手段5に保持された試料6の表面に集束レンズ2を介して荷電粒子ビーム8が照射され、これにより試料6の裏面側から発生した二次電子9が加速電極7によって下流側に加速され、該加速された二次電子9が対物レンズ3及び結像レンズ4を介して検出手段10に到達し、これにより検出手段10上で結像された二次電子放出像の検出を行うことができるとともに、対物レンズ3及び結像レンズ4の励磁条件を切り替えることによって、試料6からの透過電子を検出手段10上に結像させ、これによる試料6の透過電子像の検出を行うことができる。
【選択図】図1
Description
Claims (7)
- 荷電粒子ビーム源と、荷電粒子ビーム源から放出された荷電粒子ビームを平行ビームにするための集束レンズと、集束レンズの下流側に配置された試料保持手段と、試料保持手段の下流側に配置された加速電極と、加速電極の下流側に配置された対物レンズと、対物レンズの下流側に配置された結像レンズと、結像レンズの下流側に配置された検出手段とを備えた荷電粒子ビーム装置であって、試料保持手段に保持された試料の表面に集束レンズを介して荷電粒子ビームが照射され、これにより試料の裏面側から発生した二次電子が加速電極によって下流側に加速され、該加速された二次電子が対物レンズ及び結像レンズを介して検出手段に到達し、これにより検出手段上で結像された二次電子放出像の検出を行うことができるとともに、対物レンズ及び結像レンズの励磁条件を切り替えることによって、試料からの透過電子を検出手段上に結像させ、これによる試料の透過電子像の検出を行うことができることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
- 二次電子放出像の検出時において、試料には試料保持手段を介して負電位が印加され、加速電極、対物レンズ、結像レンズ及び検出手段はグランド電位となっていることを特徴とする請求項1記載の荷電粒子ビーム装置。
- 透過電子像の検出時において、試料はグランド電位となっていることを特徴とする請求項2記載の荷電粒子ビーム装置。
- 二次電子放出像の検出時において、試料は試料保持手段を介してグランド電位となっており、加速電極、対物レンズ、結像レンズ及び検出手段には正電位が印加されていることを特徴とする請求項1記載の荷電粒子ビーム装置。
- 透過電子像の検出時において、試料は当該正電位となっていることを特徴とする請求項4記載の荷電粒子ビーム装置。
- 集束レンズと試料保持手段との間には偏向器が配置されており、二次電子放出像の検出時には、偏向器による偏向作用によって、集束レンズを通過した荷電粒子ビームを、光軸に対して斜め方向となるように試料に入射させることを特徴とする請求項1乃至5何れか記載の荷電粒子ビーム装置。
- 対物レンズと結像レンズとの間にはエネルギーアナライザが配置されており、対物レンズを通過した試料からの二次電子又は透過電子の中で特定のエネルギーを有する電子がエネルギーアナライザによって選択され、これにより選択された電子が結像レンズを介して検出手段に到達して結像することを特徴とする請求項1乃至6何れか記載の荷電粒子ビーム装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5736764A (ja) * | 1980-08-15 | 1982-02-27 | Jeol Ltd | Sosadenshikenbikyo |
JPH11108864A (ja) * | 1997-10-02 | 1999-04-23 | Hitachi Ltd | パターン欠陥検査方法および検査装置 |
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-
2010
- 2010-06-17 JP JP2010138352A patent/JP5502612B2/ja active Active
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JP5502612B2 (ja) | 2014-05-28 |
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