JP2012003809A - 半導体記憶装置およびその駆動方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】同時に相異なる駆動方式の評価を行い、精度良く有利な駆動方式を選択、決定することが可能な手段を提供する。
【解決手段】半導体記憶装置は、第1の拡散層及び第2の拡散層を有する第1の選択トランジスタQ0と、第1の拡散層に接続された電極を有し、データを保持可能な第1の記憶素子Cs0とを有する第1のメモリセル102と、第1の選択トランジスタQ0の第2の拡散層に接続された第1のビット線BL0と、第1のゲート電極に接続されたワード線WL0と、第1のビット線BL0に接続された第1の差動ノードN0を有し、第1のビット線BL0の電位をローレベルまたはハイレベルにする第1のセンスアンプSA1と、第1のビット線BL0に接続されたゲート電極を有する第1のトランジスタと、信号を出力する出力ノードとを有する第2のセンスアンプSA2とを備えている。
【選択図】図1
【解決手段】半導体記憶装置は、第1の拡散層及び第2の拡散層を有する第1の選択トランジスタQ0と、第1の拡散層に接続された電極を有し、データを保持可能な第1の記憶素子Cs0とを有する第1のメモリセル102と、第1の選択トランジスタQ0の第2の拡散層に接続された第1のビット線BL0と、第1のゲート電極に接続されたワード線WL0と、第1のビット線BL0に接続された第1の差動ノードN0を有し、第1のビット線BL0の電位をローレベルまたはハイレベルにする第1のセンスアンプSA1と、第1のビット線BL0に接続されたゲート電極を有する第1のトランジスタと、信号を出力する出力ノードとを有する第2のセンスアンプSA2とを備えている。
【選択図】図1
Description
本明細書に記載された技術は、半導体記憶装置に係わり、特に不揮発性半導体メモリに関するものである。
光ディスクやhard disc drive(HDD)に代わる記録媒体として近年、不揮発性半導体メモリの代表格とも言えるフラッシュメモリの需要が急増している。フラッシュメモリは、多値化など大容量化が進む一方、堅強性に優れ、セットの小型化を実現する手法として今後もあらゆる分野に採用が拡大すると考えられる。
これ以外の不揮発性半導体メモリとしては強誘電体メモリ(FeRAM)、磁気抵抗メモリ(MRAM)、相転移メモリ(PRAM)などが研究開発され、一部実用化されてはいるが、書き換え回数の無制限化、高速化や省電力化といった実用化で先行するフラッシュメモリの弱点を克服するという当初の目標を完全に実現するレベルには未だ至っていない。
これらの不揮発性半導体メモリの中で、強誘電体メモリは強誘電体キャパシタを有しており、書換え回数が多い、アクセススピードが速い、消費電力が低い、などの優れた特性を有している。強誘電体メモリは、ここ数年で微細化技術や信頼性技術が急速に進歩し、ICカードやタグといったビット容量の小規模な分野からではあるがその市場規模を広げつつある。その優れた特性から今後も携帯情報機器などを中心に強誘電体メモリへのニーズが増すものと考えられる。
特性が記録材料に大きく依存する不揮発性メモリの課題としてビット毎の特性ばらつきがある。この特性ばらつきは絶縁キャパシタなど記録素子の製造、成膜工程に起因するもので、ある程度の抑制は可能であるが完全な均一化は不可能である。この特性ばらつきは不揮発性メモリの書き込み動作や読み出し動作の結果として電気的信号に現れ、構成要素であるセンスアンプなどの動作マージンの限界を超えれば装置の動作不具合に直結する。
不揮発性メモリにおいては、この特性ばらつきの抑制と同時に動作マージンの観点から特性ばらつきの正確な把握が重要であり、これを可能とする手段として特許文献1、特許文献2などが提案されている。不揮発性メモリでは、記憶素子に保持された情報が読み出し動作により当該記憶素子に接続されたビット線に電位として読み出される。当該文献に記載の技術は、読み出された信号を外部から電位比較するための参照電位の印加手段を設けることにより、間接的に記憶素子の特性を測定、把握しようというものである。
従来の強誘電体メモリの構成および記憶素子の特性評価手法について説明する。図6は、従来の強誘電体メモリにおけるメモリセル部の回路構成を示す図である。ここで説明するセンスアンプの回路構成は、前述の特許文献2に記載の強誘電体メモリにも採用されており、ダイナミック・ランダムアクセスメモリ(DRAM)や強誘電体メモリなどで一般的に使用される回路構成と同じである。
図6に示すように、メモリセル1は、ワード線WL0がゲートに接続された選択トランジスタQ0と、選択トランジスタQ0の一方の拡散層に接続された強誘電体キャパシタC0とで構成される。選択トランジスタQ0の他方の拡散層はビット線BL0に接続され、強誘電体キャパシタC0の電極のうち選択トランジスタQ0に接続された電極に対向する電極は、プレート線CP0に接続される。
ビット線BL0は同様にメモリセルを構成する選択トランジスタQ1に接続するビット線BL1と対をなし、ビット線BL0、BL1は、それぞれ差動型センスアンプSAの差動ノードに接続される。
図7は、従来の強誘電体メモリにおいて、プレート線遷移駆動方式でデータの読み出しを行う場合のタイミングチャートである。
まず、ビット線プリチャージ信号BPが“H”から“L”に遷移することで、ビット線BL0、BL1はフローティングとなり、ワード線WL0のレベルが“H”になることで選択トランジスタQ0、Q1はオン状態となる。続いて、プレート線CP0のレベルが“H”になる時刻t1で強誘電体キャパシタC0、C1から記録データが読み出され、ビット線BL0、BL1の電位が上昇する。
次に、時刻t2でプレート線CP0のレベルが“H”レベルを維持した状態でセンスアンプ制御信号SAEが“H”となり、ビット線BL0、BL1の電位差に応じてそれぞれのビット線の電位が“H”または“L”の飽和電位まで増幅される。図7の例では、時刻t2においてビット線BL1の電位レベルがビット線BL0の電位レベルより高いため、ビット線BL1はVCCレベル、ビット線BL0はグランドレベルになる。
その後、時刻t3においてカラム選択回路の制御信号YSRは“H”になり、ビット線BL0、BL1はそれぞれデータ線DL0、DL1に接続される。これにより、メモリセル1に記録されたデータがメモリ装置外へと順次読み出されていく。カラム選択回路は制御信号YSRによってビット線BL0とデータ線DL0、ビット線BL1とデータ線DL1をそれぞれ接続する。この際に、データ線とビット線が干渉することで、ビット線電位、この場合はBL0の“H”データ電位が一時的に低下する。低下したビット線BLの電位は差動型センスアンプSAからの電荷供給により再び飽和電位に戻る。
次に、時刻t4でセンスアンプ制御信号SAEおよびワード線WL0のレベルが“L”になると同時にビット線プリチャージ信号BPが“H”になって、ビット線BL1は“L”電位に戻る。
次に、図8は、強誘電体メモリにおいて、プレート線パルス駆動方式でデータの読み出しを行う場合のタイミングチャートである。
まず、ビット線プリチャージ信号BPが“H”から“L”に遷移することでビット線BL0、BL1はフローティングとなり、ワード線WL0のレベルが“H”になることで選択トランジスタQ0、Q1はオン状態となる。続いて、プレート線CP0のレベルが“H”になる時刻t1で強誘電体キャパシタC0、C1から記録データが読み出され、ビット線BL0、BL1の電位が上昇する。
次に、時刻t2でプレート線CP0のレベルが“L”レベルに変化するが、この際ビット線BL0およびビット線BL1の一端上昇した電位は再び下降し始める。その後、時刻t3でセンスアンプ制御信号SAEが“H”となり、ビット線BL0,BL1の電位差に応じてそれぞれのビット線が“H”または“L”の飽和電位まで増幅される。図8の例では、時刻t3においてビット線BL0の電位レベルがビット線BL1の電位レベルより高いため、ビット線BL0はVCCレベル、ビット線BL1はグランドレベルになる。
その後、時刻t4においてカラム選択回路の制御信号YSRは“H”になりビット線BL0、BL1はそれぞれデータ線DL0、DL1に接続され、メモリセル1に記録されたデータがメモリ装置外へと順次読み出されていく。カラム選択回路は制御信号YSRによってビット線BL0とデータ線DL0、ビット線BL1とデータ線DL1をそれぞれ接続させる。この際に、データ線とビット線が干渉することでビット線電位、この場合はBL0の“H”データ電位が一時的に低下する。低下したビット線電位はセンスアンプからの電荷供給により再び飽和電位に戻る。
次に、時刻t5でセンスアンプ制御信号SAEおよびワード線WL0のレベルが“L”になると同時にビット線プリチャージ信号BPが“H”になって、ビット線BL0は“L”電位に戻る。
一般的なデータ保持特性評価において、データ書き込み後に高温状態に数時間放置した場合、強誘電体キャパシタの分極電荷量はデータ書き込み初期に比べて単純減少しており、読み出し動作においてセンスアンプ回路が正常に電位増幅できる限界に近い状態であることが多分にある。このように、動作マージンが小さい状態ではプレート線駆動方式の違いでビット線対に読み出される電位差の大小が発生するため、最終的なメモリビットの良否が異なる場合がある。
従来の駆動方法では、読み出し動作においてプレート線を駆動するが、ビット線対の電位上昇が起こった後、センスアンプ回路を起動した際には増幅動作によりビット線電位が変化し、初期の電位を維持することが出来ない。また、強誘電体メモリの読み出し動作はいわゆる破壊読出しであるため、一度減少した分極量を再現することは困難である。このため、同一サンプルを用いて複数のプレート線駆動方式を評価し、より有利なプレート線駆動方式を選択、決定することが困難である。
本発明の目的は、上述の課題を解決し、同時に相異なる駆動方式の評価を行い、有利な駆動方式を選択、決定することが可能な手段を提供することにある。
上述のように、開発段階においては、強誘電体キャパシタの分極電荷量が減少し、動作マージンが小さくなった状態でデータ保持特性を評価し、より有利なプレート線駆動方式を選択、決定することが重要である。本願発明者らは、複数の駆動方式を効率良く評価できる回路構成及び方法を開発するため種々の検討を重ね、以下の技術に想到するに至った。
本発明の一例に係る半導体記憶装置は、第1のゲート電極、第1の拡散層及び第2の拡散層を有する第1の選択トランジスタと、前記第1の拡散層に接続された電極を有し、データを保持可能な第1の記憶素子とを有する第1のメモリセルと、前記第1の選択トランジスタの前記第2の拡散層に接続された第1のビット線と、前記第1のゲート電極に接続されたワード線と、前記第1のビット線に接続された第1の差動ノードを有し、前記第1のビット線の電位をローレベルまたはハイレベルにする第1のセンスアンプと、前記第1のビット線に接続された、第1の電位比較ノードとなるゲート電極を有する第1のトランジスタと、信号を出力する出力ノードとを有する第2のセンスアンプとを備えている。
このように、ビット線に差動ノードが接続する差動型の第1のセンスアンプと、ビット線がトランジスタのゲート電極に接続される第2のセンスアンプとを併設することで、同時に異なる駆動方式(例えばプレート線駆動方式)の評価を行うことが可能となる。従って、破壊読み出しが行われる場合の読み出し動作において、動作マージンが減少した状態で相異なる駆動方式を同時に評価することができるので、最終的に製品に搭載される、より有利な駆動方式を開発段階で精度良く決定することが可能となる。ひいては、製品において複数の駆動方式を比較、評価する必要性を低減できるので、評価期間の短縮でき、テスト回路を最小限とすることで回路レイアウトの小面積化が可能となる。
なお、記憶素子が強誘電体キャパシタである場合には、環境要因等によって記憶素子の分極量が減少しやすいので、半導体記憶装置が強誘電体メモリである場合等に上記の構成は特に有効である。
なお、第1のセンスアンプの2つの差動ノードがビット線対のそれぞれに接続されており、第2のセンスアンプを構成する第1のトランジスタ及び第2のトランジスタのゲート電極がビット線対のそれぞれに接続されていてもよい。
本発明の一例に係る半導体記憶装置の駆動方法は、第1のゲート電極、第1の拡散層及び第2の拡散層を有する第1の選択トランジスタと、前記第1の拡散層に接続された第1の電極と、前記第1の電極に対向する第2の電極とを有し、データを保持可能な第1の記憶素子とを有する第1のメモリセルと、第2のゲート電極、第3の拡散層及び第4の拡散層を有する第2の選択トランジスタと、前記第3の拡散層に接続された第3の電極と、前記第3の電極に対向する第4の電極とを有し、データを保持可能な第2の記憶素子とを有する第2のメモリセルと、前記第1の選択トランジスタの前記第2の拡散層に接続された第1のビット線と、前記第2の選択トランジスタの前記第4の拡散層に接続された第2のビット線と、前記第1のゲート電極及び前記第2のゲート電極に接続されたワード線と、前記第1のビット線に接続された第1の差動ノードと、前記第2のビット線に接続された第2の差動ノードとを有する第1のセンスアンプと、前記第1のビット線に接続された、第1の電位比較ノードとなるゲート電極を有する第1のトランジスタと、前記第1のトランジスタと同じ導電型であって、前記第2のビット線に接続された、第2の電位比較ノードとなるゲート電極を有する第2のトランジスタと、前記第1のトランジスタ及び前記第2のトランジスタの拡散層の一方に接続された差動増幅部と、前記差動増幅部に接続された第3の差動ノード及び第4の差動ノードと、出力ノードとを有する第2のセンスアンプとを備えている半導体記憶装置の駆動方法である。
すなわち、この方法は、前記第1の選択トランジスタ及び前記第2の選択トランジスタをオン状態にして前記第1の記憶素子に保持されたデータを前記第1のビット線に読み出すとともに、前記第2の記憶素子に保持されたデータを前記第2のビット線に読み出すステップ(a)と、前記ステップ(a)の後、前記第2の電極及び前記第4の電極にハイレベルの信号を印加した状態で前記第2のセンスアンプを駆動させ、前記第1のビット線と前記第2のビット線との電位差に応じて前記第3の差動ノード及び前記第4の差動ノードの電位をハイレベルまたはローレベルにするステップ(b)と、前記ステップ(b)の後、前記第2の電極及び前記第4の電極にローレベルの信号を印加した状態で前記第1のセンスアンプを駆動させ、前記第1のビット線と前記第2のビット線の電位をローレベルまたはハイレベルにすることによって、前記第1のビット線と前記第2のビット線との電位差を増幅するステップ(c)と、前記ステップ(b)での前記第3の差動ノード及び前記第4の差動ノードの電位に基づいて、前記出力ノードから前記第1の記憶素子または前記第2の記憶素子に保持されたデータを出力するステップ(d)と、前記ステップ(d)の後、前記第2のセンスアンプを駆動させ、前記ステップ(c)での前記第1のビット線と前記第2のビット線との電位差に応じて前記第3の差動ノード及び前記第4の差動ノードの電位をハイレベルまたはローレベルにするステップ(e)と、前記ステップ(e)での前記第3の差動ノード及び前記第4の差動ノードの電位に基づいて、前記出力ノードから前記第1の記憶素子または前記第2の記憶素子に保持されたデータを出力するステップ(f)とを備えている。
この方法によれば、2つの構成の異なるセンスアンプを有する半導体記憶装置を、相異なる駆動方式によって連続的にデータ読み出し動作させることで、相異なる駆動方式の評価を同時に精度良く行うことが可能となる。このため、動作マージンが減少した場合等に有利な駆動方式を精度良く短期間で選定することができる。
本発明の不揮発性半導体記憶装置では、ビット線に差動ノードが接続された第1のセンスアンプと、ビット線がトランジスタのゲート電極に接続された第2のセンスアンプとを併設した構成を有することで、同時に相異なる駆動方式の評価を行うことが可能となる。そのため、動作マージンが減少した状態で相異なる駆動方式を同時に評価することで、最終的に製品に搭載する、有利な駆動方式を精度良く決定することが可能である。ひいては製品において複数の駆動方式を比較、評価する必要性を低減できるので、評価期間の短縮およびテスト回路を最小限とした回路レイアウトの小面積化が可能となる。
(実施形態)
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。図1は、本発明の実施形態に係る強誘電体メモリ(半導体記憶装置)の回路構成を示す図である。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。図1は、本発明の実施形態に係る強誘電体メモリ(半導体記憶装置)の回路構成を示す図である。
図1に示すように、本実施形態の強誘電体メモリは、2次元状に配置された複数のメモリセルと、複数のビット線と、複数のワード線と、互いに隣接するビット線間に設けられたセンスアンプSA1と、互いに隣接するビット線間に設けられたセンスアンプSA2と、カラム選択回路104とを備えている。本実施形態の強誘電体メモリは、後で説明するセンスアンプSA2を備えている点が従来の強誘電体メモリと異なっている。
以下では、簡略化のため、2つのメモリセル102a、102bと、これに接続されたビット線BL0、BL1を挙げて回路構成及び駆動方法を説明する。
図1の左上に示すメモリセル102aは、ワード線WL0に接続されたゲート電極を有するnチャネル型の選択トランジスタQ0と、選択トランジスタQ0の一方の拡散層に接続され、データを保持可能な強誘電体キャパシタ(記憶素子)Cs0とで構成される。選択トランジスタQ0の他方の拡散層はビット線BL0に接続され、強誘電体キャパシタCs0の電極のうち選択トランジスタQ0に接続された電極に対向する電極はプレート線CP0に接続されている。
ビット線BL0は、もう一つのメモリセル102bを構成する選択トランジスタQ1に接続されたビット線BL1と対をなし、ビット線BL0、BL1は、それぞれ差動型センスアンプSA1の差動ノードN0、N1に接続される。なお、メモリセルは少なくとも1つあればよく、ビット線、ワード線も少なくとも1本以上あればよい。ただし、ビット線が少なくとも2本ある場合、センスアンプSA1はビット線間の電位差を増幅することができる。なお、センスアンプSA1が1本のビット線と、メモリセルに接続されない単なる比較電位線との間に設けられていてもよい。
メモリセル102bは、メモリセル102aと同一構成を有しており、選択トランジスタQ1のゲート電極はワード線WL0に接続されている。
センスアンプSA1は、nチャネル型の2つのMISトランジスタQ4、Q5と、pチャネル型の2つのMISトランジスタQ6、Q7と、グランドに接続されたソース(一方の拡散層)を有するnチャネル型のMISトランジスタQ8と、他の制御回路やメモリセル領域内の電源電圧と同じ電圧の電源線VCCに接続されたソースを有するpチャネル型のMISトランジスタQ9とで構成される。
MISトランジスタQ4、Q5の一方の拡散層は互いに接続され、且つ他方の拡散層は差動ノードN0、N1にそれぞれ接続されている。MISトランジスタQ6の一方の拡散層はMISトランジスタQ9に接続され、他方の拡散層は差動ノードN0、MISトランジスタQ4の他方の拡散層、MISトランジスタQ5、Q7のゲート電極にそれぞれ接続されている。MISトランジスタQ7の一方の拡散層はMISトランジスタQ7、Q9に接続され、他方の拡散層は差動ノードN1、MISトランジスタQ5の他方の拡散層、MISトランジスタQ4、Q6のゲート電極にそれぞれ接続されている。
センスアンプSA1は、MISトランジスタQ8のゲート電極に入力されるセンスアンプイネーブル信号SAE1と、MISトランジスタQ9のゲート電極に入力される、反転されたセンスアンプイネーブル信号SAE1とによって動作制御される。
また、センスアンプSA2は、いわゆるゲート受け型センスアンプであって、センスアンプイネーブル信号SAE2がゲート電極に入力され、ソースが電源線VCCに接続されたpチャネル型のMISトランジスタQ12と、ビット線BL0に接続されたゲート電極を有するpチャネル型のMISトランジスタQ10と、ビット線BL1に接続されたゲート電極を有するpチャネル型のMISトランジスタQ11と、ラッチ出力回路103とを有している。なお、本明細書中で「ゲート受け型センスアンプ」とは、センスアンプを構成するMISトランジスタのゲート電極が信号入力端子(電位比較ノード)となっており、ビット線が当該ゲート電極に接続されているセンスアンプのことをいうものとする。
MISトランジスタQ10、Q11の一方の拡散層は互いに接続されるとともに、MISトランジスタQ12を介して電源線VCCに接続される。MISトランジスタQ10、Q11の他方の拡散層はラッチ出力回路103に接続され、ラッチ出力回路103はビット線電位を差動増幅し、信号YOUT0を出力する。このセンスアンプSA2は、センスアンプイネーブル信号SAE2により動作制御される。
また、nチャネル型のMISトランジスタQ2、Q3はそれぞれビット線BL0、BL1のプリチャージトランジスタである。センスアンプSA2の出力信号YOUT0は信号YSRにより制御されるカラム選択回路104を介してデータ線DL0に出力される。
以上のように、不揮発性メモリである本実施形態の強誘電体メモリでは、センスアンプSA1と、ビット線BL0、BL1が電位比較ノードに接続され、且つ電位比較ノードが出力ノードと電気的に分離されたセンスアンプSA2とがビット線対ごとに設けられている。
図2は、センスアンプSA2の回路構成の具体例を示す図である。上述のように、ビット線BL0及びビット線BL1は、それぞれゲートセンスアンプSA2内のMISトランジスタQ10のゲート電極(第1の電位比較ノード)、MISトランジスタQ11のゲート電極(第2の電位比較ノード)に接続される。センスアンプSA2内のMISトランジスタQ12のソースは上述のように、他の制御回路やメモリセル領域内の電源電圧と同じ電圧を供給する電源線VCCに接続されており、MISトランジスタQ12の動作はセンスアンプイネーブル信号SAE2により制御される。
また、差動増幅部105は、MISトランジスタQ10の一方の拡散層、MISトランジスタQ11の一方の拡散層、差動ノードLA0及びLA1に接続されている。差動増幅部105は、例えばゲート電極同士及び一方の拡散層同士が互いに接続されたpチャネル型のMISトランジスタとnチャネル型のMISトランジスタを2つずつ有している。また、センスアンプSA2は、ソースが電源線VCCに接続されたpチャネル型のMISトランジスタQ13と、ソースがグランドに接続され、ドレインがMISトランジスタQ13のドレインに接続されたnチャネル型のMISトランジスタQ15と、ソースが電源線VCCに接続されたpチャネル型のMISトランジスタQ14と、ソースがグランドに接続され、ドレインがMISトランジスタQ14のドレインに接続されたnチャネル型のMISトランジスタQ16とを有している。MISトランジスタQ16のドレイン側(出力ノード)から信号YOUT0が出力される。
このように構成されたセンスアンプSA2は、センスアンプイネーブル信号SAE2が“L”(ロー)から“H”(ハイ)になることで活性化され、差動増幅部105でビット線BL0とビット線BL1との電位差を検知し、差動ノードLA0、LA1の電位差を、ビット線BL0とビット線BL1との電位差を増幅したものにする。差動ノードLA0、差動ノードLA1の電位は最終的に“L”(0V)または“H”(VCC)になる。この論理に従ってpチャネル型のMISトランジスタQ13、Q14及びnチャネル型のMISトランジスタQ15、Q16がオンまたはオフされ、出力ノードから信号YOUT0が出力される。
次に、本実施形態の強誘電体メモリにおける、プレート遷移駆動方式での読み出し動作について説明する。なお、以下の説明で「プレート遷移駆動方式」とは、プレート線CP0に“H”レベルの信号を印加した状態でビット線間の電位差を増幅する駆動方式のことを指し、「プレートパルス駆動方式」とは、プレート線CP0に一旦“H”レベルとした後に再び“L”レベルの信号を印加した状態でビット線間の電位差を増幅する駆動方式のことを指すものとする。
図3は、本実施形態に係る強誘電体メモリにおいて、プレート遷移駆動方式でデータの読み出しを行う場合のタイミングチャートである。同図では、特に差動増幅型のセンスアンプSA1を起動し、強誘電体キャパシタCs0にデータ“0”が記録され、強誘電体キャパシタCs1にデータ“1”が記録された場合についての読み出し動作タイミングを示す。
まず、ビット線プリチャージ信号BPが“H”から“L”に遷移した後、ワード線WL0のレベルが“H”になることで選択トランジスタQ0、Q1はオン状態になる。この状態で、時刻t1にプレート線CP0のレベルが“H”になると、強誘電体キャパシタCs0、Cs1から記録データが読み出され、ビット線BL0、BL1の電位が上昇する。
次に、時刻t2でセンスアンプイネーブル信号SAE1が“H”となり、ビット線BL0とビット線BL1との電位差を増幅する。この場合、データ“1”が記録されたBL1の電位の方がビット線BL0の電位よりも高いため、センスアンプSA1が起動された後、ビット線BL1のレベルは“H”(VCC)レベル、ビット線BL0のレベルは“L”(0V)レベルに増幅される。
その後、時刻t3でセンスアンプイネーブル信号SAE2が“H”になると、センスアンプSA2が起動され、差動ノードLA0は“L”(0V)レベルになり、差動ノードLA1は“H”(VCC)レベルとなり、出力信号YOUT0(出力ノード)の電位が“H”(VCC)レベルとなる。
次いで、時刻t4でカラム選択回路104の制御信号YSRが“H”になると、出力ノードがデータ線DL0に接続され、センスアンプSA1、SA2で増幅された信号(データ)がメモリ装置外へと読み出される。以上の駆動方法においては差動増幅型のセンスアンプSA1が起動されるので、ビット線電位は最終的に“H”(VCC)レベルまたは“L”(0V)レベルに増幅される。そのため、時刻t1からt2に至るまでの読み出し初期でのビット線BL0、BL1の電位を維持することができない。
次に、本実施形態の強誘電体メモリにおける、プレート遷移駆動方式での読み出し動作について説明する。
図4は、本実施形態に係る強誘電体メモリにおいて、プレート遷移駆動方式でデータの読み出しを行う場合のタイミングチャートである。同図では、特にセンスアンプSA2のみを起動し、強誘電体キャパシタCs0にデータ“0”が記録され、強誘電体キャパシタCs1にデータ“1”が記録された場合についての読み出し動作タイミングを示す。
まず、ビット線プリチャージ信号BPが“H”から“L”に遷移した後、ワード線WL0が“H”になることで選択トランジスタQ0、Q1はオン状態になる。この状態で、時刻t1にプレート線CP0のレベルが“H”になると、強誘電体キャパシタCs0、Cs1から記録データが読み出され、ビット線BL0、ビット線BL1の電位が上昇する。
ここで、図3に示す例とは異なり、時刻t2でセンスアンプイネーブル信号SAE1は“L”のままである。なお、図4に示す全期間を通してセンスアンプイネーブル信号SAE1は“L”のままである。
次に、時刻t3でセンスアンプイネーブル信号SAE2が“H”になると、センスアンプSA2が起動され、ビット線BL0とビット線BL1との電位差に応じたレベルの信号YOUT0が出力ノードから出力される。この場合は、データ“1”が読み出されたビット線BL1の電位がビット線BL0の電位よりも高くなるので、差動ノードLA0は“L”(0V)レベルになり、差動ノードLA1は“H”(VCC)レベルとなり、出力ノードから出力される信号YOUT0が“H”(VCC)レベルとなる。
次に、時刻t4でカラム選択回路104の制御信号YSRが“H”になると、出力ノードがデータ線DL0に接続され、センスアンプSA2で増幅されたデータがメモリ装置外へと読み出される。以上の駆動方法においては差動増幅型のセンスアンプSA1が起動されないため、ビット線電位は増幅されず、時刻t1からt5に至る期間中読み出し初期でのビット線BL0、BL1の電位を維持することができる。
次に、本実施形態の強誘電体メモリにおける、プレート遷移駆動方式及びプレートパルス駆動方式の両方式でのデータ読み出しを同時に行う方法について説明する。ここで、「両方式でのデータ読み出しを同時に行う」とは、対象となる1つのメモリセルからの同じデータ読み出しステップ内で両方式によるデータの読み出しを連続的に行うことを意味するものとする。
図5は、本実施形態に係る強誘電体メモリにおいて、プレート遷移駆動方式及びプレートパルス駆動方式の両方式を用いてデータの読み出しを行う場合のタイミングチャートである。同図では、特に強誘電体キャパシタCs0にデータ“0”が記録され、強誘電体キャパシタCs1にデータ“1”が記録された後に、長時間高温環境に保存することなどにより、強誘電体キャパシタの分極量が大きく減少した場合についての読み出し動作タイミングを示している。
まず、ビット線プリチャージ信号BPが“H”から“L”に遷移した後、ワード線WL0が“H”になることで選択トランジスタQ0、Q1はオン状態になる。この状態で、時刻t1にプレート線CP0が“H”になることで強誘電体キャパシタCs0、Cs1から記録データが読み出され、ビット線BL0、ビット線BL1の電位が上昇する。
次に、時刻t2でセンスアンプイネーブル信号SAE1が“L”のままで、センスアンプイネーブル信号SAE2が“H”となり、センスアンプSA2が起動される。このとき、ビット線BL0とビット線BL1との電位差ΔVsが非常に小さく、センスアンプSA2の正常な増幅感度以下となる場合、結果的に差動ノードLA0の方が“H”(VCC)レベルとなり誤判定が起こる。なお、センスアンプSA2はビット線BL0、BL1自体の電位差は増幅させないが、ビット線間の電位差の増幅結果は差動増幅部105に接続された差動ノードLA0、LA1が“H”レベルまたは“L”レベルになることで保持される。ここでは、差動ノードLA0の電位が“H”レベル、差動ノードLA1の電位が“L”レベルとなっている。ただし、図5に示す例では、ビット線間の電位差はセンスアンプSA2の検出限界以下であるので、誤判定されている。
次に、時刻t3でプレート線CP0が再び“L”になると、ビット線BL0、BL1の電位は共に低下する。そして、時刻t4では、ビット線BL0とビット線BL1との電位差ΔVpは時刻t2の時よりも若干大きく、ΔVp>ΔVsとなっている。時刻t4ではセンスアンプイネーブル信号SAE1が“H”となり、差動型のセンスアンプSA1が起動する。ここでは、ビット線BL0とビット線BL1との電位差がセンスアンプSA1の正常な増幅感度以上であるため、結果的にビット線BL1は“H”(VCC)レベル、BL0は“L”(0V)レベルに正常に増幅される。
次に、時刻t5でカラム選択回路の制御信号YSRが“H”になり、出力ノードがデータ線DL0に接続されるが、このt5では、先にセンスアンプSA2が起動された時刻t2、つまりはプレート線CP0が“H”の遷移駆動状態でのビット線電位差ΔVsが誤って読み出されたデータ“0”を表す信号YOUT0が出力ノードからデータ線DL0に出力される。なお、ここで出力ノードから出力される信号YOUT0は差動ノードLA1と同じレベルとなっている。
続いて、時刻t6でセンスアンプイネーブル信号SAE2が“L”となり、センスアンプSA2の差動ノードLA0、LA1は“L”(0V)レベルにリセットされる。
次に、時刻t7でセンスアンプイネーブル信号SAE2が再び“H”になると、センスアンプSA2が再起動されて差動ノードLA0、LA1の電位はビット線BL0、ビット線BL1の電位差に応じた電位へと変化する。この場合は、ビット線BL0、BL1の電位が強誘電体キャパシタCs0、Cs1に保持されたデータの通りに十分に電位増幅されているので、センスアンプSA2の差動ノードLA0、LA1の極性は正常なデータ極性となり、読み出されたデータ“1”を表す信号YOUT0が出力ノードに現れる。
なお、ここではビット線BL0とビット線BL1の時刻t4での電位差が時刻t2での電位差より大きくなっている例を示しているが、この逆の場合もあり得る。また、ビット線BL1の増幅後の電位極性が信号YOUT0として出力端子から最終的に出力される場合に正しい判定となる。
次に、時刻t8でカラム選択回路104の制御信号YSRが“H”になると、出力ノードがデータ線DL0に接続され、正常なデータ(出力信号YOUT0)がデータ線DL0に出力される。
ここでは、強誘電体キャパシタCs0、Cs1の分極量が大きく減少した際にプレート遷移駆動での読み出しを行って強誘電体メモリが誤動作し、プレートパルス駆動での読み出しを行って強誘電体メモリが正常動作した例について説明している。従って、この例では、プレートパルス駆動方式でデータ読み出しを行うことにより、動作マージンが減少した場合でも誤作動を効果的に低減することができると判断できる。なお、これは一例であって、常にプレートパルス方式が有利とは限らないので、実際にどちらの駆動方式の方が有利であるのかは、上述の方法で両駆動方式を評価した上で判断すればよい。
本実施形態の強誘電体メモリでは、差動型のセンスアンプSA1とゲート受け型のセンスアンプSA2とが併設されている。このため、センスアンプSA2を起動して第一のデータを出力し、この後もビット線電位を維持できることでプレートパルス駆動後の第二のデータ出力を可能としている。
以上の回路構成及び駆動方法により、破壊読出しである強誘電体メモリの読み出し動作において、一度減少した分極量で、すなわち動作マージンが減少した状態で複数のプレート線駆動方式を同時に評価し、最終的に製品搭載する有利なプレート線駆動方式を開発段階で精度良く決定することが可能である。
このため、本実施形態の半導体記憶装置によれば、高温下で放置するなど過酷な環境に置かれた場合でも、より有利な方法を効率良く選定できるので、従来の半導体記憶装置と比べて誤動作等の不具合を起こりにくくすることができる。
また、製品において複数のプレート線駆動方式を比較、評価する必要性を低減できるので、評価期間を短縮することができる。また、テスト回路を最小限とした回路レイアウトの小面積化が可能となる。
実際の製品では、上述の方法で選定されたいずれか一方の方法で駆動される。また、センスアンプSA2は上述の評価に用いられる回路であり、実際の製品ではセンスアンプSA1のみで読み出し動作を行うことができる。
なお、以上で説明した強誘電体メモリの回路構成や動作等は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。例えば、センスアンプSA1、SA2の回路構成は図1または図2に示す例に限られない。特に、センスアンプSA2は、プレート遷移駆動方式で駆動させた場合に互いに隣接するビット線間の電位差を増幅させることなく保持できる構成であればよい。例えば、センスアンプSA2を構成するMISトランジスタのゲート電極が電位比較ノードになっており、ビット線が当該ゲート電極に接続されていてもよい。
また、センスアンプSA1は少なくとも一本のビット線の電位をローレベル、あるいはハイレベルに増幅できる構成であればよい。センスアンプSA1を構成するMISトランジスタの一方の拡散層は差動ノードとなっており、ビット線に接続されていればよい。
また、本実施形態で説明した2種類のセンスアンプを搭載する構成は、強誘電体メモリに限らず他の半導体記憶装置にも適用可能である。
本発明の半導体記憶装置は特に不揮発性半導体メモリとして有用であるが、揮発性メモリにも応用可能である。
102a、102b メモリセル
103 ラッチ出力回路
104 カラム選択回路
105 差動増幅部
103 ラッチ出力回路
104 カラム選択回路
105 差動増幅部
Claims (8)
- 第1のゲート電極、第1の拡散層及び第2の拡散層を有する第1の選択トランジスタと、前記第1の拡散層に接続された電極を有し、データを保持可能な第1の記憶素子とを有する第1のメモリセルと、
前記第1の選択トランジスタの前記第2の拡散層に接続された第1のビット線と、
前記第1のゲート電極に接続されたワード線と、
前記第1のビット線に接続された第1の差動ノードを有し、前記第1のビット線の電位をローレベルまたはハイレベルにする第1のセンスアンプと、
前記第1のビット線に接続された、第1の電位比較ノードとなるゲート電極を有する第1のトランジスタと、信号を出力する出力ノードとを有する第2のセンスアンプとを備えている半導体記憶装置。 - 請求項1に記載の半導体記憶装置において、
第2のゲート電極、第3の拡散層及び第4の拡散層を有する第2の選択トランジスタと、前記第3の拡散層に接続された電極を有し、データを保持可能な第2の記憶素子とを有する第2のメモリセルと、
前記第2の選択トランジスタの前記第4の拡散層に接続された第2のビット線とをさらに備え、
前記ワード線は前記第2のゲート電極に接続されており、
前記第1のセンスアンプは、前記第2のビット線に接続された第2の差動ノードを有し、前記第2のビット線の電位をローレベルまたはハイレベルにし、且つ前記第1のビット線と前記第2のビット線との電位差を増幅し、
前記第2のセンスアンプは、前記第1のトランジスタと同じ導電型であって、前記第2のビット線に接続された、第2の電位比較ノードとなるゲート電極を有する第2のトランジスタをさらに備えている半導体記憶装置。 - 請求項2に記載の半導体記憶装置において、
前記第1のセンスアンプは、前記第1の差動ノードとなる拡散層を有する第3のトランジスタと、前記第2の差動ノードとなる拡散層を有する第4のトランジスタとを有している半導体記憶装置。 - 請求項2または3に記載の半導体記憶装置において、
前記第2のセンスアンプは、前記第1のビット線及び前記第2のビット線の電位を増幅することなく、前記出力ノードから前記第1のビット線及び前記第2のビット線の電位に応じてローレベルまたはハイレベルの信号を出力する半導体記憶装置。 - 請求項4に記載の半導体記憶装置において、
前記第2のセンスアンプは、前記第1のトランジスタの拡散層の一方、及び前記第2のトランジスタの拡散層の一方に接続された差動増幅部と、前記差動増幅部に接続された第3の差動ノードと第4の差動ノードとを有しており、
前記第3の差動ノード及び前記第4の差動ノードの電位は、前記第1のビット線と前記第2のビット線の電圧に応じてローレベルまたはハイレベルになる半導体記憶装置。 - 請求項2〜5のうちいずれか1つに記載の半導体記憶装置において、
前記第1の記憶素子及び前記第2の記憶素子は強誘電体キャパシタである半導体記憶装置。 - 第1のゲート電極、第1の拡散層及び第2の拡散層を有する第1の選択トランジスタと、前記第1の拡散層に接続された第1の電極と、前記第1の電極に対向する第2の電極とを有し、データを保持可能な第1の記憶素子とを有する第1のメモリセルと、
第2のゲート電極、第3の拡散層及び第4の拡散層を有する第2の選択トランジスタと、前記第3の拡散層に接続された第3の電極と、前記第3の電極に対向する第4の電極とを有し、データを保持可能な第2の記憶素子とを有する第2のメモリセルと、
前記第1の選択トランジスタの前記第2の拡散層に接続された第1のビット線と、
前記第2の選択トランジスタの前記第4の拡散層に接続された第2のビット線と、
前記第1のゲート電極及び前記第2のゲート電極に接続されたワード線と、
前記第1のビット線に接続された第1の差動ノードと、前記第2のビット線に接続された第2の差動ノードとを有する第1のセンスアンプと、
前記第1のビット線に接続された、第1の電位比較ノードとなるゲート電極を有する第1のトランジスタと、前記第1のトランジスタと同じ導電型であって、前記第2のビット線に接続された、第2の電位比較ノードとなるゲート電極を有する第2のトランジスタと、前記第1のトランジスタ及び前記第2のトランジスタの拡散層の一方に接続された差動増幅部と、前記差動増幅部に接続された第3の差動ノード及び第4の差動ノードと、出力ノードとを有する第2のセンスアンプとを備えている半導体記憶装置の駆動方法であって、
前記第1の選択トランジスタ及び前記第2の選択トランジスタをオン状態にして前記第1の記憶素子に保持されたデータを前記第1のビット線に読み出すとともに、前記第2の記憶素子に保持されたデータを前記第2のビット線に読み出すステップ(a)と、
前記ステップ(a)の後、前記第2の電極及び前記第4の電極にハイレベルの信号を印加した状態で前記第2のセンスアンプを駆動させ、前記第1のビット線と前記第2のビット線との電位差に応じて前記第3の差動ノード及び前記第4の差動ノードの電位をハイレベルまたはローレベルにするステップ(b)と、
前記ステップ(b)の後、前記第2の電極及び前記第4の電極にローレベルの信号を印加した状態で前記第1のセンスアンプを駆動させ、前記第1のビット線と前記第2のビット線の電位をローレベルまたはハイレベルにすることによって、前記第1のビット線と前記第2のビット線との電位差を増幅するステップ(c)と、
前記ステップ(b)での前記第3の差動ノード及び前記第4の差動ノードの電位に基づいて、前記出力ノードから前記第1の記憶素子または前記第2の記憶素子に保持されたデータを出力するステップ(d)と、
前記ステップ(d)の後、前記第2のセンスアンプを駆動させ、前記ステップ(c)での前記第1のビット線と前記第2のビット線との電位差に応じて前記第3の差動ノード及び前記第4の差動ノードの電位をハイレベルまたはローレベルにするステップ(e)と、
前記ステップ(e)での前記第3の差動ノード及び前記第4の差動ノードの電位に基づいて、前記出力ノードから前記第1の記憶素子または前記第2の記憶素子に保持されたデータを出力するステップ(f)とを備えている半導体記憶装置の駆動方法。 - 請求項7に記載の半導体記憶装置の駆動方法において、
前記ステップ(b)では、前記第2のセンスアンプが、前記第1のビット線及び前記第2のビット線の電圧を増幅させることなく前記第3の差動ノード及び前記第4の差動ノードの電位をハイレベルまたはローレベルにする半導体記憶装置の駆動方法。
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