JP2012003137A - 光走査装置および画像形成装置 - Google Patents

Abstract

【課題】不要光を十分に遮光するとともに、そのために遮光部材（遮光壁）をポリゴンミラーに近接させる必要があるが、その際に発生する騒音を低減できる光走査装置を提供する。
【解決手段】偏向反射面数が４面のポリゴンミラー１０３を用い、走査レンズ１０４Ｋにより発生したゴースト光を遮光する遮光壁２１１、２１２を有し、ポリゴンミラー１０３に対する遮光壁近接による騒音を低減させるために、入射光側に近い遮光壁２１１の一端２１１Ａとポリゴンミラー１０３の回転中心１０３ｃとの距離をＬ１、入射光側から遠い遮光壁２１２の一端２１２Ａとポリゴンミラー１０３の回転中心１０３ｃとの距離をＬ２とした場合、Ｌ１＜Ｌ２を満足するとともに、少なくとも遮光壁２１１と遮光壁２１３とは、それぞれ一体的に形成されて、ポリゴンミラー１０３を備えた光偏向器（ポリゴンモータ）側に取り付けられている。
【選択図】図５

Description

本発明は、光走査装置および画像形成装置に関し、さらに詳しくは、回転する偏向反射面を備えた光偏向器を具備する光走査装置および該光走査装置を有する画像形成装置に関する。

電子写真方式の画像記録では、レーザを光源に用いた画像形成装置が広く用いられている。この種の画像形成装置は、光源から射出され、光偏向器で偏向された光束を走査光学系で感光体ドラムの表面に集光・走査し、感光体ドラムの表面に潜像を形成する光走査装置を備えている。
ところで、光偏向器で偏向した光束のうち走査光学系のレンズ面で反射する光束は、いわゆる不要光（ゴースト光あるいはフレア光とも呼ばれる）であり、該不要光が走査光学系に入射すると、出力画像の品質が低下する虞があり、このような走査光学系に入射する不要光を防止する技術が知られている（例えば、特許文献１および２参照）。

特許文献１には、複数の光源から放射された複数の光束を複数の偏向面をもつ同一の偏向器の異なる偏向面で偏向させ、かつ、異なる偏向面にて偏向された複数の光束を異なる偏向面にて偏向された光束ごとに設けた各々の走査レンズ系を介して対応する被走査面上に結像させる光走査装置が開示されている。
この光走査装置は、偏向器を回転させるための回転体と、回転体の脱落を防止するための爪部材を有し、爪部材は、複数の走査レンズ系のうち一方の走査レンズ系のレンズ表面で反射したフレア光が複数の走査レンズ系のうち他方の走査レンズ系に入射することを防止する遮光部材を兼ねており、かつ、爪部材は、主走査断面内において、偏向器の偏向面への入射光束の光路と偏向器の偏向面で偏向され被走査面上に入射する走査光束の光路とに挟まれた非有効領域に設けられている。

特許文献２には、複数の光源と、該複数の光源からの光ビームを対称な２方向に振り分けて偏向する光偏向器と、該光偏向器を中心にして２方向に対称に配置され、光偏向器により偏向走査される複数の光ビームをそれぞれ対応する被走査面上に導き結像する光学系を備え、複数の光源、光偏向器および光学系を一つのハウジングに収納した光書込装置が開示されている。
この光書込装置は、ハウジング内の光偏向器の周辺であって該光偏向器による光ビームの偏向走査領域外に、２方向に配置され互いに対向する光学系からの反射・散乱光（フレア光）を遮光する遮光部材と、遮光部材は光学系が配置されるハウジングの基盤と一体に形成されまたは該基盤に取り付けられ、且つ遮光部材の光偏向器の反射面と対向する位置より基盤側には、光偏向器の回転によって生じた気流が逃げる通路となる隙間または切欠きとを有している。

しかしながら、特許文献１に開示されている光走査装置および特許文献２に開示されている光書込装置では、不要光を十分に遮光できないという問題点がある。具体的には、いずれの発明においても、各部品の寸法ばらつきや組み立てばらつきを考慮した場合、不要光が想定した方向と異なる角度で光偏向器に戻って来る可能性があり、その際に遮光部材と光偏向器の間を通り抜ける問題がある。通り抜けた不要光は対向の走査光学系に入射し、出力画像の品質を低下させる。

本発明は、上述の事情に鑑みてなされたものであり、その第１の目的は、不要光を十分に遮光することができる光走査装置を提供することにある。
本発明の第２の目的は、不要光を十分に遮光するために、ポリゴンミラーに対して遮光部材（遮光壁）を近接させる必要があるが、その際に発生する騒音を低減できる光走査装置を提供することにある。
また、本発明の第３の目的は、前記課題を解決した光走査装置を有することにより、高品質の画像を形成することができる画像形成装置を提供することにある。

上述した課題を解決するとともに上述した目的を達成するために、請求項ごとの発明では、以下のような特徴ある手段・発明特定事項（以下、「構成」という）を採っている。
請求項１記載の発明は、複数の光源と、該複数の光源からの複数の光束を偏向する光偏向器と、前記偏向された複数の光束を、各々対応する被走査面上に集光する複数の走査光学系とを有し、前記複数の光源および前記複数の走査光学系は、前記光偏向器の中心に対し線対称に配置されている光走査装置において、前記光偏向器は、複数の偏向反射面が形成された少なくとも１つのポリゴンミラーを有する回転部材を備え、前記線対称に配置されている前記複数の光源の異なる方向から入射される第１および第２の光束を、前記線対称に配置されている前記複数の走査光学系における第１および第２の走査光学系に偏向し、かつ、第１の走査光学系により発生した不要光を遮光する第１および第２の遮光壁を具備し、前記ポリゴンミラーへの入射光側に近い遮光壁を第１の遮光壁、前記入射光側から遠い遮光壁を第２の遮光壁とし、前記ポリゴンミラー側の第１の遮光壁の一端と前記ポリゴンミラーの回転中心との距離をＬ１、前記ポリゴンミラー側の第２の遮光壁の一端と前記ポリゴンミラーの回転中心との距離をＬ２とした場合、Ｌ１＜Ｌ２が成立し、かつ、第１の遮光壁と第２の遮光壁とは、一体的に形成されて、前記光偏向器に取り付けられていることを特徴とする。

請求項２記載の発明は、請求項１記載の光走査装置において、第２の走査光学系により発生した不要光を遮光する第３および第４の遮光壁を有し、前記ポリゴンミラー側の第３の遮光壁の一端と前記ポリゴンミラーの回転中心との距離をＬ３、前記ポリゴンミラー側の第４の遮光壁の一端と前記ポリゴンミラーの回転中心との距離をＬ４とした場合、Ｌ１＝Ｌ３、かつ、Ｌ２＝Ｌ４が成立し、なおかつ、第３の遮光壁と第４の遮光壁とは、一体的に形成されて前記光偏向器に取り付けられていることを特徴とする。

請求項３記載の発明は、請求項１または２記載の光走査装置において、第１と第３の遮光壁の各一端を結ぶ直線および前記第２と第４の遮光壁の各一端を結ぶ直線と、前記ポリゴンミラーの外接円とは、それぞれ２点、計４点で交わることを特徴とする。
請求項４記載の発明は、請求項１ないし３の何れか一つに記載の光走査装置において、第１、第２、第３および第４の遮光壁のうちの、少なくとも一つの遮光壁の前記一端側の端面は、前記ポリゴンミラーの外接円と所定の距離を隔てた同心円上にあるように形成されていることを特徴とする。
請求項５記載の発明は、請求項１ないし４の何れか一つに記載の光走査装置において、前記光偏向器は、複数のポリゴンミラーを回転軸方向に有し、第１、第２、第３および第４の遮光壁は、遮光を必要としない部分において間隙を設けていることを特徴とする。

請求項６記載の発明は、請求項１ないし５の何れか一つに記載の光走査装置において、前記複数の遮光壁の少なくとも１つは、第１走査光学系と第２走査光学系との対称中心線に対し、平行でないことを特徴とする。
請求項７記載の発明は、請求項１ないし６の何れか一つに記載の光走査装置において、前記複数の遮光壁の少なくとも１つは、第１走査光学系と第２走査光学系との対称中心線に対し、該対称中心線に向かって前記ポリゴンミラーが回転する向きに傾いていることを特徴とする。
請求項８記載の発明は、請求項１ないし７の何れか一つに記載の光走査装置において、前記回転部材の回転軸は、基板に保持されており、第１、第２、第３および第４の遮光壁は、前記基板上に設置されていることを特徴とする。

請求項９記載の発明は、請求項１ないし８の何れか一つに記載の光走査装置において、前記光偏向器は、天板を有し、第１、第２、第３および第４の遮光壁は、前記天板に取り付けられているか、または前記天板と一体的に形成されていることを特徴とする。
請求項１０記載の発明は、請求項９記載の光走査装置において、前記天板は、前記回転部材の回転中心と中心が一致する開口部を有することを特徴とする。
請求項１１記載の発明は、請求項１０記載の光走査装置において、前記回転部材は、その回転中心を中心とする穴を有することを特徴とする。

請求項１２記載の発明は、請求項１０または１１記載の光走査装置において、前記天板の開口部の直径は、前記回転部材の穴の直径よりも大きいことを特徴とする。
請求項１３記載の発明は、請求項１ないし１２の何れか一つに記載の光走査装置において、前記複数の偏向反射面の面数は、５面以下であることを特徴とする。
請求項１４記載の発明は、請求項１ないし１３の何れか一つに記載の光走査装置において、前記ポリゴンミラーの内接円半径は、１０ｍｍ以下であることを特徴とする。

請求項１５記載の発明は、複数の像担持体と、該複数の像担持体ごとに潜像を形成すべき画像情報に応じて変調された光により、前記複数の像担持体の前記被走査面上を走査する請求項１ないし１４の何れか一つに記載の光走査装置とを有することを特徴とする画像形成装置である。

本発明によれば、上記課題を解決して新規な光走査装置および画像形成装置を実現し提供することができる。主な請求項ごとの発明の効果を挙げれば、以下のとおりである。
請求項１〜４、８〜１２記載の発明によれば、前記構成により、不要光（ゴースト光）遮光による画質の向上を図ることができるとともに、光偏向器（ポリゴンモータ）への遮光壁近接による騒音の増加を防ぐことができる。

請求項５〜７記載の発明によれば、前記構成により、光偏向器（ポリゴンモータ）への遮光壁近接による騒音の増加を防ぐことができる。

請求項１３、１４記載の発明によれば、偏向反射面の面数が５面以下のポリゴンミラーを使用した場合に、ポリゴンミラーの内接円半径が例えば１０ｍｍ以下と小さくなることにより、ポリゴンミラーへ遮光壁を近接させることができるため、本発明に最も有効となる（偏向反射面の面数が６面以上であると、内接円半径も大きくなり、遮光壁を近接させる必要がなくなるからである）。
請求項１５記載の発明によれば、上記した効果を奏する、請求項１ないし１４の何れか一つに記載の光走査装置を有することにより、高品質の画像を形成することができる画像形成装置を実現し提供することができる。

本発明を適用する光走査装置の基本的な構成および原理的な動作を説明するための斜視図である。 本発明の一実施形態例を示す画像形成装置の概略的な全体構成図である。 （ａ）は、本発明の一実施形態を示す光走査装置の横断面図、（ｂ）は、同光走査装置の平面図である。 入射光側の遮光壁の配置領域を示す拡大平面図である。 反入射光側の遮光壁の配置領域を示す拡大平面図である。 （ａ）は、図１２に示す従来の光走査装置における遮光壁の端面の拡大平面図、（ｂ）は、本発明の一実施形態の光走査装置における遮光壁の端面の拡大平面図である。 各遮光壁の仕様・配置条件を変えた４つの試作品について、ポリゴンミラーから５０ｍｍ離れた位置でのポリゴンミラー６００００ｒｐｍ時における音圧レベルの測定結果を表す図表である。 本発明の一実施形態の光偏向器（ポリゴンモータ）の縦断面図である。 （ａ）、（ｂ）は、各遮光壁および天板を一体的に形成した遮光部材を光偏向器（ポリゴンモータ）に取り付けたときを異なる方向から見た場合の斜視図である。 （ａ）〜（ｄ）は、光偏向器（ポリゴンモータ）への遮光部材の取り付け順序・方法を示す斜視図である。 ポリゴンミラーの面数と内接円半径、およびポリゴンミラーと遮光壁間距離の関係を表す図表である。 （ａ）は、従来の光走査装置の横断面図、（ｂ）は、同光走査装置の平面図である。

以下、図を参照して、本発明を実施するための最良の形態および実施例を含む実施形態を説明する。実施形態および変形例等に亘り、同一の機能を有する部材や構成部品等の構成要素については、判別が可能な限り同一符号を付すことにより一度説明した後ではその説明を省略する。図および説明の簡明化を図るため、図に表されるべき構成要素であっても、その図において特別に説明する必要がないものは適宜断わりなく省略することがある。

まず、図１および図２を参照して、本発明の技術思想を採り入れることができる光走査装置、画像形成装置の例を説明する。図１は、本発明を適用する光走査装置の基本的な構成の一部のみを簡略的に示しており、画像形成装置に適用する場合には光偏向器におけるポリゴンミラー５の上下方向の中心線（対称中心線）に関して（に対して）左右対称（線対称）に複数の光源および複数の走査光学系が配置されることは無論である。

図１の光走査装置において、符号１−１、１−２は複数の光源としての半導体レーザ（以下、「ＬＤ」と略記する）を、２−１、２−２はそれぞれカップリングレンズを、３はアパーチャを、４はシリンドリカルレンズを、５はポリゴンミラー（偏向素子）を、６は第１走査レンズを、７は第２走査レンズを、８は反射ミラーを、９は感光体ドラムを示している。

２つのＬＤ１−１、１−２からは、それぞれ１つの光束が出射される。各ＬＤ１−１、１−２から出射されたそれぞれの光束は、カップリングレンズ２−１、２−２で後続の光学系にカップリングされ、アパーチャ３でビーム整形後、シリンドリカルレンズ４で副走査方向にのみ集光され、ポリゴンミラー５の反射点近傍で線像が形成される。ポリゴンミラー５は周面に周方向に一定間隔で数個の偏向反射面が形成されていて、駆動源であるモータにより一定速度で高速回転駆動されることにより、光束を反射しつつ等角速度的に偏向する。ポリゴンミラー５で偏向された計２本の光束は第１走査レンズ６、第２走査レンズ７を透過し、さらには、反射ミラー８により反射されて、感光体ドラム９に導かれる。

第１走査レンズ６、第２走査レンズ７は、走査光学系を構成していて、この走査光学系の結像機能およびｆθ機能により、各光束は被走査面である感光体ドラム９の表面に集光されるとともに、感光体ドラム９の表面上をその回転軸方向に平行な方向に等速度的に走査される。２つのＬＤ１−１、１−２から出射される各光束は、画像信号によって変調され、感光体ドラム９の表面上には変調信号に応じて画像が書き込まれていく。

図２は、本発明に係る画像形成装置の一実施形態例を概略的に示している。図２において、感光体ドラム９（Ｙ：イエロー、Ｍ：マゼンタ、Ｃ：シアン、Ｋ：ブラック、以下「ＹＭＣＫ」と略記する）は、ＹＭＣＫ各色毎に設けられたドラム形状の像担持体である。以下、感光体ドラム９周りの構成は、ＹＭＣＫ各色毎に同様であるため、適宜、括弧を付したＹＭＣＫを総括的な説明として用いることで簡明に説明する。各感光体ドラム９は、同一径であり、中間転写ベルト１３に等間隔で圧接されている。感光体ドラム９の周囲近傍には、図２中矢印で示すドラム回転方向に沿って、帯電装置１０、現像装置１１、中間転写ベルト１３、ドラムクリーニング装置１２、除電装置（不図示）等が配設されている。

光走査装置１００からの書き込み用のレーザ光は、帯電装置１０と現像装置１１との間において感光体ドラム９上に照射される。帯電装置１０（ＹＭＣＫ）は、各色感光体ドラム９毎に非接触に配設されたローラ形状の装置であり、感光体ドラム９の表面を一様に帯電させる。帯電装置１０により帯電された感光体ドラム９表面に光走査装置１００から書き込み用のレーザ光が照射されると、感光体ドラム９上に各色に対応した静電潜像が形成される。
現像装置１１（ＹＭＣＫ）は、各感光体ドラム９に現像ローラを接触させるよう配設された装置であり、各色対応の感光体ドラム９に対応した色のトナー（現像剤）を保持している。作像時には、感光体ドラム９にトナーを供給し、感光体ドラム９に形成された静電潜像を現像する。静電潜像は、トナーで現像されることにより可視像化されたトナー像となる。
ドラムクリーニング装置１２（ＹＭＣＫ）は、各感光体ドラム９にブレード（クリーニングブレード）を接触させて配設された装置であり、中間転写ベルト１３へのトナー像の転写後に感光体ドラム９上に残留している残留トナー・紙片等を除去・回収し、感光体ドラム９の表面をクリーニングする。また、ドラムクリーニング装置１２と帯電装置１０の間には不図示の除電装置が設けられている。除電装置は、感光体ドラム９の表面を除電する。

中間転写ベルト１３は、各感光体ドラム９の表面に形成された各色トナー像を順次重ね合わせて転写するための無端ベルトである。各色トナー像が順次重ね合わせられることで中間転写ベルト１３上にはフルカラー画像が形成される。光学センサ１４は、中間転写ベルト１３に非接触に配設された装置であり、画像形成装置のメンテナンス用のテストパターンとして形成されるトナーパターンの検出を行う。転写ベルトクリーニング装置１５は、中間転写ベルト１３にブレード（クリーニングブレード）を接触させて配設された装置であり、給送されるシートとしての記録紙へのトナー像の転写後に中間転写ベルト１３上に残留している残留トナー、あるいはトナーパターンを除去・回収し、中間転写ベルト１３の表面をクリーニングする。転写ローラ１６は、２次転写装置を構成しており、中間転写ベルト１３上に形成されたカラー画像を、給紙トレイ１９から搬送される記録紙上に転写する。定着装置１７は、記録紙上に転写されたカラー画像を記録紙に熱定着させる。

給紙ローラ１８は、記録紙を記録紙サイズ毎に格納している給紙トレイ１９から１枚ずつ分離された記録紙を給紙する。排紙ローラ２０は、カラー画像の熱定着された記録紙を画像形成装置の機外に配設された排紙トレイ２１に排出・積載する。なお、感光体ドラム９は、すべて同一の方向に回転する。また、中間転写ベルト１３は、感光体ドラム９の回転方向とは逆の方向で移動し、転写ローラ１６は中間転写ベルト１３とは逆の方向（感光体ドラム９と同一の回転方向）で回転する。図２では、感光体ドラム９および転写ローラ１６は反時計回りに回転し、中間転写ベルト１３は時計回りに回転する。図２では、図示を省略しているが、中間転写ベルト１３を挟んで各感光体ドラム９に対向して１次転写装置を構成する一次転写ローラ等が配設される。

図３を参照して、本発明の一実施形態を示す光走査装置１００を説明する。図３（ａ）は、図３（ｂ）に示す光走査装置１００のＡ−Ａ’の横断面図を、図３（ｂ）は、光走査装置１００の平面（上面）図を示す。以下、光走査装置の説明においては、適宜、括弧を付したＹＭＣＫを添え字符号として用いることで総括的に説明する。
図３に示すように、光源装置１０１（ＹＭＣＫ）は、半導体レーザ１０１ａ、カップリングレンズ１０１ｂ、アパーチャ１０１ｃ（何れも図示せず）を保持している。光源装置１０１（ＹＭＣＫ）は、図３（ｂ）の平面図で見た場合、Ｙ→Ｃ→Ｍ→Ｋの順に時計回り方向に配置されている。
光源装置１０１Ｋと１０１Ｍは、本発明における第１の光源に相当し、第１の光束が出射される。光源装置１０１Ｙと１０１Ｃは、本発明における第２の光源に相当し、第２の光束が出射される。光源装置１０１Ｋと１０１Ｍと、光源装置１０１Ｙと１０１Ｃとは、ポリゴンミラー１０３の回転中心に対し線対称、すなわち左右対称の配置になっている。
走査レンズ１０４Ｋと１０４Ｍは、本発明における第１の走査光学系に、走査レンズ１０４Ｙと１０４Ｃは、本発明における第２の走査光学系に相当する。走査レンズ１０４Ｋおよび１０４Ｙと、走査レンズ１０４Ｃおよび１０４Ｍとは、ポリゴンミラー１０３の回転中心に関し、線対称、厳密に表現すればポリゴンミラー１０３における上下方向の中心線（図８に示す回転軸４０４の中心線）に対し左右対称の配置になっている。

アパーチャ１０１ｃで整形された光束は、シリンドリカルレンズ１０２で副走査方向にのみ集光され、ポリゴンミラー１０３の反射点近傍で線像が形成される。本実施形態例では、光源装置１０１の［Ｙ，Ｋ］と［Ｃ，Ｍ］で光源の高さが異なっており、１０１Ｃと１０１Ｍからの光束はポリゴンミラー１０３の上面１０３ａに、１０１Ｙと１０１Ｋの光束はポリゴンミラー１０３の下面１０３ｂに、それぞれ入射される。

ポリゴンミラー１０３は、図３（ｂ）の平面図で見た場合、反時計回り方向に等速回転し、入射光束を偏向する。ポリゴンミラー１０３で偏向された計４本の光束は走査レンズ１０４（ＹＭＣＫ）を透過し、さらには、反射ミラー１０５（ＹＭＣＫ）（平面図においては不図示）、１０６（ＹＭＣＫ）に反射されて、感光体ドラム（図示せず）に導かれる。なお、走査レンズ１０４の走査開始位置は、走査先端位置に配置された同期検知素子１０７（ＹＫ）により制御されている。本実施形態例の走査レンズ１０４（ＹＭＣＫ）は、図１で説明した第１走査レンズ６、第２走査レンズ７の２本のレンズの集光機能を１本で担っている。

このような左右対称の走査光学系においては、走査レンズ１０４（例えばＫ）のレンズ面における反射光が、対向側の走査レンズ１０４（例えばＹ）にゴースト光（不要光）として入射し、画質を劣化させる問題がある。対向する走査光学系へのゴースト光の入射を防ぐためには、遮光部材を設置する必要がある。

図１２を参照して、従来の光走査装置９００の遮光部材について説明する。図１２（ａ）は、図１２（ｂ）に示す光走査装置９００のＡ−Ａ’の横断面図を、図１２（ｂ）は、光走査装置９００の平面図を示す。なお、図１２に示す従来の光走査装置９００を構成する各構成要素は、図３に示した本実施形態の光走査装置１００を構成する各構成要素の符号に、数値「８００」を加えたものに相当する。
図１２（ｂ）に示すように、ポリゴンミラー９０３は、内接円半径１８ｍｍの６面の多面鏡であり、ポリゴンミラー９０３の回転中心９０３ｃから見て光源装置９０１側に、遮光部材９１０が配置されている。遮光部材９１０は厚さ０．５ｍｍの板金でできており、走査レンズ９０４Ｋ、９０４Ｍ側に遮光壁９１０Ａが１枚、走査レンズ９０４Ｙ、９０４Ｃ側に遮光壁９１０Ｂが１枚、計２枚が走査レンズ１０４Ｋと走査レンズ１０４Ｙの対称中心線Ｂに対し左右対称に配置されている。
遮光部材９１０は、光走査装置のハウジング９１１上に設置されており、ポリゴンミラー９０３との間隔が一定になるように配置されている。

光走査装置による書込み幅を広げようとした場合、光偏向器の画角（一回の走査において、書込に使用できる角度）を広げることになり、面数の少ない（５面や４面）のポリゴンミラーが必要となる。面数が少ない（５面や４面）ポリゴンミラーは、６面のポリゴンミラーに対して同一画角に必要な内接円半径を小さくすることができるが、内接円半径が小さい分、対向側の走査光学系に対してゴースト光が入射しやすくなる。

図３〜図５を参照して、本実施形態における光走査装置１００について説明する（請求項１）。本実施形態の光走査装置１００は、図１２に示した従来の光走査装置９００と比較して、６面の多面鏡を備えたポリゴンミラー９０３に代えて、例えば４面の多面鏡を備えたポリゴンミラー１０３を用いる点、遮光壁９１０Ａおよび９１０Ｂを備えた遮光部材９１０に代えて、図３〜図５に示すように、遮光部材としての４つの遮光壁２１１、２１２、２１３、２１４を具備している点が主に相違する。以下、従来の光走査装置９００と相違するポリゴンミラー１０３および４つの遮光壁２１１、２１２、２１３、２１４について詳述する。

遮光壁２１１は、ポリゴンミラー１０３への入射光側に近い位置に配置され、第１の走査光学系としての走査レンズ１０４Ｋ、１０４Ｍにより発生した不要光（以下、「ゴースト光」ともいう）を遮光する第１の遮光壁に相当する。遮光壁２１２は、ポリゴンミラー１０３への入射光側から遠い位置に配置され、走査レンズ１０４Ｋ、１０４Ｍにより発生したゴースト光を遮光する第２の遮光壁に相当する。遮光壁２１３は、ポリゴンミラー１０３への入射光側に近い位置に配置され、第２の走査光学系としての走査レンズ１０４Ｙ、１０４Ｃにより発生したゴースト光を遮光する第３の遮光壁に相当する。遮光壁２１４は、ポリゴンミラー１０３への入射光側から遠い位置に配置され、走査レンズ１０４Ｙ、１０４Ｃにより発生したゴースト光を遮光する第４の遮光壁に相当する。
後述する図９に示すように、少なくとも遮光壁２１１と遮光壁２１２とは、少なくとも遮光壁２１３と遮光壁２１４とは、それぞれ一体的に形成されて、ポリゴンミラー１０３を備えた光偏向器（後述する図８のポリゴンモータ４００参照）側に取り付けられている。なお、図９は、４つの遮光壁２１１〜２１４の全てが天板部材としての天板２１５とともに一体的に形成されて、ポリゴンミラー１０３を備えた光偏向器（図８のポリゴンモータ４００参照）側に取り付けられている例を示している。

図４、図５は、面数が４面、内接円半径７ｍｍのポリゴンミラー１０３を用い、走査レンズ１０４Ｋの第２面における反射光（ゴースト光）を計算したものである。なお、反射光（ゴースト光）はポリゴンミラー１０３の端に当たる場合を計算したものであり、各々の回転角からポリゴンミラー１０３を少し回転させると、反射光がポリゴンミラー１０３を抜けるといった状況である。

図４は、入射光側の遮光壁２１１とポリゴンミラー１０３との位置関係を示したものである。遮光壁２１１の一端（もしくは端点）２１１Ａは、光源装置１０１Ｋから入射される第１の光束としての入射光３０１Ｋと、走査レンズ１０４Ｋの第２面により発生したゴースト光３０２Ｋと、ポリゴンミラー１０３の外接円３０３とに囲まれた図中ハッチを施して示す範囲内に配置されている。この構成により、入射光３０１Ｋをポリゴンミラー１０３に入射させ、かつ、遮光壁２１１によりゴースト光３０２Ｋを遮断することができる。ここで、遮光壁２１１の一端２１１Ａとは、図４および図５に示すとおり、遮光壁２１１におけるポリゴンミラー１０３側寄りの部位を指している（遮光壁２１３の一端２１３Ａ等も同様）。

一方、本構成において遮光壁２１１の一端２１１Ａとポリゴンミラー１０３の外接円３０３との距離は１．１ｍｍであり、従来における６面のポリゴンミラーを用いた場合のその外接円との距離（２．４ｍｍ）に比べ、非常に近接している。後述するが、４面のポリゴンミラーにおいては遮光壁２１１の他に、入射光から離れた位置に遮光壁２１２を設ける必要があり、従来の構成に対しポリゴンミラー回転による騒音が課題となる。

図５は、反入射光側の遮光壁２１２とポリゴンミラー１０３との位置関係を示したものである。遮光壁２１２の一端２１２Ａは、同期検知素子１０７Ｋへの同期光３０４と、走査レンズ１０４Ｋの第２面により発生したゴースト光３０５Ｋと、ポリゴンミラー１０３の外接円３０３とに囲まれた図中ハッチを施して示す範囲内に配置されている。この構成により、同期光３０４を同期検知素子１０７Ｋに入射させ、かつ、遮光壁２１２によりゴースト光３０５Ｋを遮断することができる。ここで、遮光壁２１２の一端２１２Ａとは、図４および図５に示すとおり、遮光壁２１２におけるポリゴンミラー１０３側寄りの部位を指している（遮光壁２１４の一端２１４Ａ等も同様）。

図４と図５とを見比べると、遮光壁２１２の配置可能な領域は、遮光壁２１１のそれに比べて広いことが分かる。これは、ポリゴンミラー１０３の回転中心１０３ｃが反入射光側に位置するため、ポリゴンミラー本体でゴースト光を防ぐ範囲が、入射光側に比べ広いことに起因する。故に、遮光壁近接による騒音を低減させるためには、入射光側に近い遮光壁２１１の一端２１１Ａとポリゴンミラー１０３の回転中心１０３ｃとの距離をＬ１、入射光側から遠い遮光壁２１２の一端２１２Ａとポリゴンミラー１０３の回転中心１０３ｃとの距離をＬ２とした場合、Ｌ１＜Ｌ２が成立すればよいことが分かる。

本実施形態例においては、Ｌ１＝１１．０ｍｍ、Ｌ２＝１４．９ｍｍとした。遮光壁２１１および２１２は、走査レンズ１０４Ｋからのゴースト光３０２Ｋ、３０５Ｋを防止することができるが、走査レンズ１０４Ｙからのゴースト光３０２Ｙ、３０５Ｙを防止することもできる。図４、図５に、走査レンズ１０４Ｋと走査レンズ１０４Ｙの対称中心線Ｂを対称軸とし、遮光壁２１１、２１２を対称に配置させた２１１’、２１２’を示した。光源装置１０１Ｋと光源装置１０１Ｙ、走査レンズ１０４Ｋと走査レンズ１０４Ｙは、ポリゴンミラー１０３を中心に左右対称に配置されているため、図中の走査レンズを１０４Ｙと読み替えた場合、走査レンズ１０４Ｙからのゴースト光３０２Ｙ、３０５Yも、遮光壁２１１、２１２で遮光できることが分かる。

上述した内容をまとめると、以下のようになる。対向走査方式の光走査装置においては、第１の走査光学系のゴースト光が第２の走査光学系に入射し、画質を劣化させる問題がある。第２の走査光学系へのゴースト光の入射を防ぐためには、遮光部材を設置する必要があるが、特に内接円半径ｒが小さいポリゴンミラーを使用する際には、遮光壁とポリゴンミラーの距離が近くなる。例えば、図４および図５に示した本実施形態例のように、内接円半径ｒ＝７ｍｍ、４面ポリゴンミラー１０３においては、ポリゴンミラー１０３と遮光壁２１１の一端２１１Ａとの距離は１．１ｍｍと非常に近くなる（従来は２．４ｍｍ）。
一方、図１２に示した従来の光走査装置９００における内接円半径（ｒ＝１８ｍｍ、６面）が大きいポリゴンミラー９０３においては、反入射光側のゴースト光については、ポリゴンミラー９０３自身が遮光壁となり、反入射光側に遮光部材を設ける必要がなかった。しかしながら、本実施形態例のように、内接円半径が小さいポリゴンミラー１０３においては、新たに遮光部材を設ける必要がある。ここで、入射光側の遮光壁を第１の遮光壁、反入射光側の遮光壁を第２の遮光壁とする。

第１の遮光壁は、入射光、入射光側のゴースト光、ポリゴンミラーの外接円から配置が決まることに対し、第２の遮光壁は、同期光、反入射光側のゴースト光、ポリゴンの外接円から配置が決まる。ポリゴンミラーの回転中心が反入射光側に位置するため、第２の遮光壁の方が、ポリゴンミラーと遮光壁間の距離が長い。即ち、ポリゴンミラーからの距離を入射光側と反入射光側で統一する場合に比べ、ポリゴンモータ回転による騒音を低減することができる。また後述する図９等に示すように遮光壁を基板上に設置し立てる場合、厚み数ｍｍの遮光壁１枚を基板に対して独立で立てるよりも、複数枚組み合わせて一体的に立てる方がポリゴンミラーと遮光壁間の距離が安定し、確実にゴースト光を防ぐ他、騒音の増加を防ぐことができる。
本実施形態の請求項１に対応した例によれば、上述したとおり、ゴースト光を遮光でき、これによる画質の向上、およびポリゴンモータと遮光壁の一端との近接による騒音の低下を図れる。

次に、ゴースト光による画質の劣化をさらに確実に防止するために、走査レンズ１０４Ｙ、１０４Ｋのゴースト光に対し、それぞれ遮光壁を設けることが望ましい実施形態例を説明する（請求項２）。具体的には、走査レンズ１０４Ｙからのゴースト光３０２Ｙ、３０５Ｙに対し、遮光壁２１３、２１４を加え、計４枚をポリゴンミラー１０３の周辺に立てることが望ましい。このとき、光源装置１０１Ｋと光源装置１０１Ｙ、走査レンズ１０４Ｋと走査レンズ１０４Ｙは、ポリゴンミラー１０３を中心に左右対称に配置されているため、入射光側に近い遮光壁２１３の一端２１３Ａとポリゴンミラー１０３の回転中心１０３ｃとの距離をＬ３、入射光側から遠い遮光壁２１４の一端２１４Ａとポリゴンミラー１０３の回転中心１０３ｃとの距離をＬ４とした場合、Ｌ１＝Ｌ３、Ｌ２＝Ｌ４が成立する。また、ポリゴンミラー１０３への入射光３０１Ｋ、３０１Ｙおよび走査レンズ１０４Ｋ、１０４Ｙより発生したゴースト光３０２Ｋ、３０２Ｙ、３０５Ｋ、３０５Ｙも、ポリゴンミラー１０３の回転中心１０３ｃを通る走査レンズ１０４Ｋと走査レンズ１０４Ｙの対称中心線Ｂに対し左右対称に位置するため、入射光３０１Ｋ、３０１Ｙを遮ることなく、ゴースト光３０２Ｋ、３０２Ｙ、３０５Ｋ、３０５Ｙを遮光壁２１３、２１４により、遮ることができる。

本実施形態の請求項２に対応した例によれば、請求項１に対応した実施形態例に対し、より確実にゴースト光を遮光して画質劣化を防止することができる。入射光側および反入射光側にそれぞれ遮光壁を設置し１枚立てることで、第１の走査光学系のゴースト光と第２の走査光学系のゴースト光を遮光することも可能であるが、確実にゴースト光を防ぐためには、各側に２枚、合計４枚対称に遮光壁を立てることが望ましい。また遮光壁を基板上に立てる場合、厚み数ｍｍの遮光壁１枚を基板に対して独立で立てるよりも、複数枚組み合わせて一体的に立てる方がポリゴンミラーと遮光壁間の距離が安定し、確実にゴースト光を防ぐ他、騒音の増加を防ぐことができる。

図４および図５に示した内容から、ゴースト光の遮光による画質劣化を確実に防止するためには、遮光壁２１１と遮光壁２１３の間および遮光壁２１２と遮光壁２１４の間に、ポリゴンミラー１０３が入り込むように遮光部材を配置すればよい（請求項３）。具体的には、遮光壁２１１、２１３の各一端２１１Ａ、２１３Ａを結ぶ直線ＳＬ１とポリゴンミラー１０３の外接円３０３とは２点のＰ１、Ｐ２で交わるように、かつ、遮光壁２１２、２１４の各一端２１２Ａ、２１４Ａを結ぶ直線ＳＬ２とポリゴンミラー１０３の外接円３０３とは２点Ｐ３、Ｐ４で交わるように、計４点で交わるようにすればよいことが分かる。

ポリゴンミラー１０３と遮光壁が近接している場合、遮光壁の端面とポリゴンミラー１０３との距離は位置によらず常に一定であることが望ましい実施形態例（請求項４）を説明する。図６は、従来例と本実施形態例とにおけるポリゴンミラー側の遮光壁の端面形状を拡大して比較したものである。
図６（ａ）に示す従来の遮光壁９１０Ａの端面９１０Ａ’は、ポリゴンミラー１０３の図中矢印で示す回転気流に対し接触面積・抵抗が大きい形状になっている。ポリゴンミラー１０３と遮光壁の端面とがある程度の距離を保っている場合においては問題はないが、近接した場合においては端面９１０Ａ’付近において乱流が発生し、騒音が大きくなる問題が発生する。

そこで、本実施形態例においては、図６（ｂ）に示すように、ポリゴンミラー１０３の図中矢印で示す回転気流に対する遮光壁２１１の端面との接触面積・抵抗を低減させるために、遮光壁２１１の端面２１１Ａ’を、ポリゴンミラー１０３の外接円３０３と所定の距離を隔てた外接円３０３の同心円上にあるように形成、換言すればポリゴンミラー１０３の外接円３０３と一定の距離を保持しつつ外接円３０３に沿った同心円状の面形状を形成したものである。なお、図６（ｂ）は遮光壁２１１の端面２１１Ａ’に適用した図であるが、遮光壁２１２〜２１４の全てを同様の構成としてもよい。

上述した請求項４に対応した実施形態例から、ポリゴンミラー１０３と遮光壁が近接している場合、遮光壁の端面とポリゴンミラー１０３との距離は位置によらず常に一定であることが望ましいことが分かる。これは、ポリゴンミラー１０３と遮光壁の端面との距離を離そうとすると、入射光を遮ってしまう可能性もあるからである。また、騒音の観点からも、回転気流に対し遮光壁を立てるよりも、気流の流れに沿った遮光壁の端面形状を設けた方が、流動性が良く、騒音が低減することが分かる。

遮光壁２１１、２１２、２１３、２１４は、ポリゴンミラー１０３の回転軸方向に異なる複数のゴースト光を１枚で遮光するように配置されている実施形態例（請求項５）を説明する。具体的には、図３（ａ）に示したように、遮光壁２１１、２１２は、２段に積み重なっている走査レンズ１０４Ｋと走査レンズ１０４Ｍの反射光を１枚で遮るように、遮光壁の高さが設定されている。遮光壁２１３、２１４も同様に、走査レンズ１０４Ｙと走査レンズ１０４Ｃの反射光を１枚で遮るように、遮光壁の高さが設定されている。なお、図３（ｂ）に示すように、走査レンズ１０４Ｋと走査レンズ１０４Ｍおよび走査レンズ１０４Ｙと走査レンズ１０４Ｃは、平面図から見た場合に各々同一の位置に配置されているが、光源装置１０１Ｋおよび光源装置１０１Ｙと、光源装置１０１Ｃおよび光源装置１０１Ｍとは上述したようにその光源の高さ位置が異なる。このとき、遮光壁２１１、２１２、２１３、２１４の配置できる領域は、ＫとＭ、ＹとＣで異なるが、各々の領域の重なる領域において遮光壁を配置している。これにより、複数段の走査レンズ１０４からの反射光を、遮光壁１枚で遮ることができる。また、ポリゴンミラー１０３の回転による騒音を低減させるために、遮光壁２１１、２１２、２１３、２１４の遮光として必要の無い部位については、後述する図９に示すように間隙２１１ａ、２１２ａ、２１３ａ、２１４ａを設けた。これにより、ポリゴンミラー１０３の回転気流と遮光壁２１１、２１２、２１３、２１４とが干渉する部分が減り、さらに騒音を低減することができる。

図７に示す図表は、上欄に記載されている遮光壁の仕様・配置条件を変えて本発明に係る光走査装置の４つの試作品♯１〜♯４を作製し、ポリゴンミラー１０３から５０ｍｍ離れた位置でのポリゴンミラー１０３の６００００ｒｐｍ時における音圧レベルの測定結果を表している。なお、試作品♯１〜♯４は、図３に示した光走査装置を基本構成とし、後述する仕様・配置条件のみを変えたものである。仕様・配置条件としては、遮光壁２１１〜２１４の一端２１１Ａ〜２１４Ａ（図７では「遮光壁２１１、遮光壁２１２、遮光壁２１３、遮光壁２１４」と記載している）とポリゴンミラー１０３面（偏向反射面）の外接円３０３との距離および（Ｌ１〜Ｌ４の距離）、遮光壁２１１、２１３の対称中心線Ｂに対する傾き、遮光壁２１１〜２１４の間隙２１１ａ〜２１４ａ（図７では「遮光壁の間隙」と記載している）の有無が挙げられる。

試作品♯１〜♯４の主な仕様・配置条件を列挙すると、次のとおりである。
試作品♯１：遮光部材２１１〜２１４の一端２１１Ａ〜２１４Ａの全てをポリゴンミラー１０３の外接円３０３から１．１ｍｍの位置に配置した場合である。
試作品♯２：反入射光（反光源）側の遮光部材２１２、２１４の一端２１１Ａ〜２１４Ａのみポリゴンミラー１０３面の外接円３０３から５．０ｍｍの位置に離した場合である。
試作品♯３：遮光部材２１１〜２１４の一端２１１Ａ〜２１４Ａの全てをポリゴンミラー１０３面の外接円３０３から１．１ｍｍの位置に配置し、かつ、遮光壁２１１、２１３が、遮光壁２１１、２１３の対称中心線Ｂに対してポリゴンミラーの回転方向に傾いている場合である。
試作品♯４：遮光部材２１１〜２１４の一端２１１Ａ〜２１４Ａの全てをポリゴンミラー１０３面から１．１ｍｍの位置に配置し、かつ、間隙２１１ａ〜２１４ａを設けた場合である。

図７の音圧レベルの測定結果から、反光源側の遮光部材２１２、２１４をポリゴンミラー１０３から離すことにより、６００００ｒｐｍにおいては、試作品♯１に対して試作品♯２の音圧レベルが５．０ｄＢ低下していることが分かる。また間隙を設ける前後では、試作品♯１に対して試作品♯４の音圧レベルが３．５ｄＢ低下していることが分かる。

ポリゴンミラーに遮光壁が近接している場合、ポリゴンミラーで発生した空気の流れ（ポリゴンミラーと同一方向に回転する）を遮光壁が乱すことにより、騒音が発生する。この騒音をさらに低減するためには、空気の流れに沿って遮光壁を設置するとよい実施形態例（請求項６、７）を説明する。
具体的には、図４に示すように、走査レンズ１０４Ｋと走査レンズ１０４Ｙ（図示せず）の対称中心線Ｂに対し、この対称中心線Ｂに向かってポリゴンミラー１０３が回転する向き（対称中心線Ｂ付近におけるポリゴンミラー１０３の外接円３０３の接線方向）に遮光壁を傾けるとよい。本実施形態例では、光源側に近い遮光壁２１１と遮光壁２１３を、入射光３０１Ｙを遮らない角度で傾けた。このように遮光壁２１１、２１３を傾けた場合（図７の試作品♯３）は、図７における従来の試作品♯１（走査レンズ１０４Ｋと走査レンズ１０４Ｙの対称中心線Ｂに平行に配置）と比較して、音圧レベルが２．２ｄＢ低下していることが分かる（６００００ｒｐｍ時）。

しかしながら、ポリゴンミラー１０３から１．１ｍｍと非常に近接した位置に遮光壁を配置させるためには、遮光壁の製造ばらつきおよび組み付けばらつきを考慮する必要がある。図８を参照して、本実施形態例における光偏向器としてのポリゴンモータ４００の断面構成（請求項８）を説明する。
図８に示すように、ポリゴンモータ４００の回転部材としての回転体４０１は、ポリゴンミラー１０３と、ロータ磁石４０２を支持するフランジ４０３とから構成されている。ポリゴンモータ４００は、回転体４０１と、この回転体４０１を支える回転軸４０４と、この回転軸４０４を支える軸受４０５と、この軸受４０５を支え回路基板が実装されている基板４０６と、後述するステータコア４０７とにより構成される。
回転体４０１の回転軸４０４装着支持部の上部には、回転体４０１の回転中心（ポリゴンミラー１０３の回転中心１０３ｃと同じ）を中心とする穴４０１ａ（上方に貫通している）が形成されている。

ロータ磁石４０２は、フランジ４０３の下部内面に固定され、軸受４０５に固定されたステータコア４０７（巻線コイル４０７ａ）とともにアウターロータ型のブラシレスモータを構成している。ポリゴンミラー１０３は、ミラーの回転中心（回転軸）を基準とした切削加工により偏向反射面が形成されている。そのため、ハウジング１１１にポリゴンモータ４００を位置決めする際には、ポリゴンミラー１０３の回転中心１０３ｃと同一線上の軸受４０５を、基準とすることが多い。図１２に示した従来の光走査装置のように、ポリゴンモータ４００を搭載する光走査装置のハウジング１１１に遮光壁を設ける場合、ポリゴンミラー１０３と遮光壁の間の公差は、ポリゴンモータ４００に直接遮光部材を設ける場合に比べ、多くの寸法公差が積み上がる。具体的には、遮光部材の公差、ハウジングの公差、軸受、回転軸、ポリゴンミラーの公差が積上がる。公差の積上げはミラー−遮光壁間の距離が、製造上ばらつくことになり、入射光を遮る他、ゴースト光を遮れなくなるといった問題を引き起こす。特に本実施形態例のように、ポリゴンミラー１０３から１．１ｍｍと非常に近接した位置に遮光壁を配置させる場合においては、騒音の増加や、ポリゴンミラー１０３と遮光壁が干渉（衝突）するといった懸念が生じる。そこで、ポリゴンミラー１０３を回転保持しているポリゴンモータ４００の基板４０６に直接遮光壁を設けた方が、ミラー−遮光壁間の距離が安定し、確実にゴースト光を遮光する他、騒音の増加を防ぐことができる。

遮光壁を基板上に設置・立てる場合、厚み数ｍｍの遮光壁１枚を基板に対して独立で立てるよりも、複数枚組み合わせて一体的に立てる方が、基板に対し安定的に遮光壁を立てることができ、ミラー−遮光壁間の距離が安定する実施形態例（請求項９）を説明する。具体的には、図９に示すように、遮光壁２１１、２１２、２１３、２１４を天板２１５とともに一体的に形成し、締結手段としてのネジ５０１で基板４０６に取り付け・保持した。天板２１５の上部には、図８に示したポリゴンモータ４００における回転体４０１の回転中心（ポリゴンミラー１０３の回転中心１０３ｃと同じ）と中心が一致する開口部２１５ａが形成されている。開口部２１５ａの直径（内径）は、回転体４０１の穴４０１ａの直径（内径）よりも大きく形成されている。
なお、図９中の回転体４０１は、回転軸周りに回転させた時の形状を示している。以下、遮光壁２１１、２１２、２１３、２１４および天板２１５を一体的に形成した部材を遮光部材２１６という。

遮光壁２１１、２１２、２１３、２１４および天板２１５一体的に形成する場合、それらの材料としては例えば板金あるいは適宜のエンジニアリングプラスチックが用いられる。遮光壁２１１、２１２、２１３、２１４は、天板２１５とともに一体的に形成することに限らず、遮光壁２１１、２１２、２１３、２１４を天板２１５にネジ等の締結手段を介して取り付けたり、接着剤あるいは溶着・溶接等によって取り付けたりしてもよい。

上記請求項９に対応した実施形態例によれば、ゴースト光遮光による画質向上および騒音の増加を防ぐことができる。ポリゴンミラー１０３に対し遮光部材２１６を安定的に設置し・立てるためには、遮光壁２１１〜２１４を天板２１５で繋ぎ、一体的に保持した方がよいことが分かる。

次に、図１０を参照して、遮光部材２１６のポリゴンモータ４００への取り付け方法および遮光部材２１６の実施形態例（請求項１０〜１２）を説明する。ここでは、一例として図１０（ａ）に示すように、直径Ｄａの丸棒５００ａと直径Ｄｂ（Ｄｂ＜Ｄａ）の丸棒５００ｂとが一体となっている組立調整治具５００が用いられる。丸棒５００ａの直径Ｄａは、天板２１５の上部に形成された開口部２１５ａ（図１０（ｄ）参照）の直径よりわずかに小さい値であり、作業者の操作で嵌合可能に設定されている。丸棒５００ｂの直径Ｄｂは、回転体４０１の穴４０１ａの直径よりわずかに小さい値であり、作業者の操作で嵌合可能に設定されている。

手順１：図１０（ａ）に示すように、先ず、回転体４０１の穴４０１ａに組立調整治具５００の丸棒５００ｂを挿入する。
手順２：図１０（ｂ）ないし図１０（ｃ）に示すように、組立調整治具５００の丸棒５００ａが天板２１５の開口部２１５ａに挿入されるように、遮光部材２１６を基板４０６上に載置する。
手順３：ネジ５０１を用いて、遮光部材２１６および基板４０６をハウジング１１１に締結・固定する。このとき、遮光部材２１６が丸棒５００ｂを中心に回動しないように、遮光部材２１６に位置決めの溝２１６Ａを設けた（図１０（ｃ）参照）。遮光部材２１６の回動方向に沿う溝２１６Ａの幅寸法は、位置決め機能を発揮すべくネジ５０１の外径寸法よりもわずかに大きく設定される。
手順４：図１０（ｄ）に示すように、組立調整治具５００を遮光部材２１６の上側から抜き取る。

ここで、回転体４０１の穴４０１ａは、図８に示す回転軸４０４が焼きばめされる穴４０１ｂとほぼ同軸に形成されているため、各遮光壁２１１〜２１４を、回転体４０１の回転中心（ポリゴンミラー１０３の回転中心１０３ｃ）に対して所望の位置に配置することができる。

上記請求項１０〜１２に対応した実施形態例によれば、以下の利点・効果を奏する。天板２１５は、ポリゴンモータ４００の回転体４０１の回転中心と中心が一致する開口部２１５ａを有し、またポリゴンモータ４００の回転体４０１は、ポリゴンミラー１０３の回転中心１０３ｃを中心とする穴４０１ａを有することにより、また天板２１５の開口部２１５ａの直径は穴４０１ａの直径よりも大きいことにより、ポリゴンミラー１０３の回転中心１０３ｃを中心とした各遮光壁２１１〜２１４の位置決めを行うことができ、ミラー面に対し高精度に各遮光壁２１１〜２１４を配置することができる（ポリゴンミラー１０３本体は、回転中心１０３ｃを中心とした切削加工により面が形成されているため、中心に対する精度が高いからである。）

本発明が最も有効であるのは、ポリゴンミラー１０３の内接円半径が小さい５面以下のポリゴンモータ４００を使用した場合（請求項１３、１４）である。図１１の図表に示すように、一定画角に必要なポリゴンミラー１０３の内接円半径は、面数が少なくなると小さくなる傾向にある。一方、ポリゴンミラー１０３の内接円半径が小さくなると、上述したようにゴースト光が対向の走査光学系に入射しやすくなるため、ポリゴンミラー１０３と遮光壁の位置関係は近くなる。図１１に示すように、面数が５面以下のポリゴンミラー１０３においては、ポリゴンミラー−遮光壁間の距離が２ｍｍ未満となり、公差の点からハウジング上に遮光壁を配置することが困難となる。このような点から、上述したように、本願発明の請求項１、８等の構成を併せて採ることが有効となる。

以上説明したとおり、本発明を特定の実施形態等について説明したが、本発明が開示する技術的範囲は、上述した実施形態例あるいは実施例等に例示されているものに限定されるものではなく、それらを適宜組み合わせて構成してもよく、本発明の範囲内において、その必要性および用途等に応じて種々の実施形態や変形例あるいは実施例を構成し得ることは当業者ならば明らかである。

９ 感光体ドラム（像担持体、被走査面）
１００ 光走査装置
１０１ 光源装置
１０２ シリンドリカルレンズ
１０３ ポリゴンミラー
１０３ａ ポリゴンミラーの上面
１０３ｂ ポリゴンミラーの下面
１０３ｃ ポリゴンミラーの回転中心
１０４Ｋ、１０４Ｍ 走査レンズ（第１の走査光学系）
１０４Ｙ、１０４Ｃ 走査レンズ（第２の走査光学系）
２１１ 遮光壁 （第１の遮光壁、遮光部材を構成）
２１１Ａ 遮光壁の一端（端点）
２１１Ａ’ 遮光壁の端面
２１１ａ〜２１４ａ 間隙
２１２ 遮光壁 （第２の遮光壁、遮光部材を構成）
２１２Ａ 遮光壁の一端（端点）
２１３ 遮光壁 （第３の遮光壁、遮光部材を構成）
２１３Ａ 遮光壁の一端（端点）
２１４ 遮光壁 （第４の遮光壁、遮光部材を構成）
２１４Ａ 遮光壁の一端（端点）
２１５ 天板（天板部材）
２１５ａ 開口
２１６ 遮光部材
３０３ ポリゴンミラーの外接円
４００ ポリゴンモータ（光偏向器）
４０１ 回転体 （回転部材）
４０１ａ 回転体の穴
４０６ 基板
５００ 組立調整治具
Ｂ 対称中心線

特許第４１５４１５２号公報 特許第３８６２９５０号公報

Claims (15)

1. 複数の光源と、該複数の光源からの複数の光束を偏向する光偏向器と、前記偏向された複数の光束を、各々対応する被走査面上に集光する複数の走査光学系とを有し、前記複数の光源および前記複数の走査光学系は、前記光偏向器の中心に対し線対称に配置されている光走査装置において、
   前記光偏向器は、複数の偏向反射面が形成された少なくとも１つのポリゴンミラーを有する回転部材を備え、前記線対称に配置されている前記複数の光源の異なる方向から入射される第１および第２の光束を、前記線対称に配置されている前記複数の走査光学系における第１および第２の走査光学系に偏向し、かつ、第１の走査光学系により発生した不要光を遮光する第１および第２の遮光壁を具備し、
   前記ポリゴンミラーへの入射光側に近い遮光壁を第１の遮光壁、前記入射光側から遠い遮光壁を第２の遮光壁とし、前記ポリゴンミラー側の第１の遮光壁の一端と前記ポリゴンミラーの回転中心との距離をＬ１、前記ポリゴンミラー側の第２の遮光壁の一端と前記ポリゴンミラーの回転中心との距離をＬ２とした場合、Ｌ１＜Ｌ２が成立し、かつ、第１の遮光壁と第２の遮光壁とは、一体的に形成されて、前記光偏向器に取り付けられていることを特徴とする光走査装置。
2. 請求項１記載の光走査装置において、
   第２の走査光学系により発生した不要光を遮光する第３および第４の遮光壁を有し、前記ポリゴンミラー側の第３の遮光壁の一端と前記ポリゴンミラーの回転中心との距離をＬ３、前記ポリゴンミラー側の第４の遮光壁の一端と前記ポリゴンミラーの回転中心との距離をＬ４とした場合、Ｌ１＝Ｌ３、かつ、Ｌ２＝Ｌ４が成立し、なおかつ、第３の遮光壁と第４の遮光壁とは、一体的に形成されて前記光偏向器に取り付けられていることを特徴とする光走査装置。
3. 請求項１または２記載の光走査装置において、
   第１と第３の遮光壁の各一端を結ぶ直線および前記第２と第４の遮光壁の各一端を結ぶ直線と、前記ポリゴンミラーの外接円とは、それぞれ２点、計４点で交わることを特徴とする光走査装置。
4. 請求項１ないし３の何れか一つに記載の光走査装置において、
   第１、第２、第３および第４の遮光壁のうちの、少なくとも一つの遮光壁の前記一端側の端面は、前記ポリゴンミラーの外接円と所定の距離を隔てた同心円上にあるように形成されていることを特徴とする光走査装置。
5. 請求項１ないし４の何れか一つに記載の光走査装置において、
   前記光偏向器は、複数のポリゴンミラーを回転軸方向に有し、
   第１、第２、第３および第４の遮光壁は、遮光を必要としない部分において間隙を設けていることを特徴とする光走査装置。
6. 請求項１ないし５の何れか一つに記載の光走査装置において、
   前記複数の遮光壁の少なくとも１つは、第１走査光学系と第２走査光学系との対称中心線に対し、平行でないことを特徴とする光走査装置。
7. 請求項１ないし６の何れか一つに記載の光走査装置において、
   前記複数の遮光壁の少なくとも１つは、第１走査光学系と第２走査光学系との対称中心線に対し、該対称中心線に向かって前記ポリゴンミラーが回転する向きに傾いていることを特徴とする光走査装置。
8. 請求項１ないし７の何れか一つに記載の光走査装置において、
   前記回転部材の回転軸は、基板に保持されており、
   第１、第２、第３および第４の遮光壁は、前記基板上に設置されていることを特徴とする光走査装置。
9. 請求項１ないし８の何れか一つに記載の光走査装置において、
   前記光偏向器は、天板を有し、
   第１、第２、第３および第４の遮光壁は、前記天板に取り付けられているか、または前記天板と一体的に形成されていることを特徴とする光走査装置。
10. 請求項９記載の光走査装置において、
    前記天板は、前記回転部材の回転中心と中心が一致する開口部を有することを特徴とする光走査装置。
11. 請求項１０記載の光走査装置において、
    前記回転部材は、その回転中心を中心とする穴を有することを特徴とする光走査装置。
12. 請求項１０または１１記載の光走査装置において、
    前記天板の開口部の直径は、前記回転部材の穴の直径よりも大きいことを特徴とする光走査装置。
13. 請求項１ないし１２の何れか一つに記載の光走査装置において、
    前記複数の偏向反射面の面数は、５面以下であることを特徴とする光走査装置。
14. 請求項１ないし１３の何れか一つに記載の光走査装置において、
    前記ポリゴンミラーの内接円半径は、１０ｍｍ以下であることを特徴とする光走査装置。
15. 複数の像担持体と、該複数の像担持体ごとに潜像を形成すべき画像情報に応じて変調された光により、前記複数の像担持体の前記被走査面上を走査する請求項１ないし１４の何れか一つに記載の光走査装置とを有することを特徴とする画像形成装置。

Images