JP2012001421A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012001421A5 JP2012001421A5 JP2010237721A JP2010237721A JP2012001421A5 JP 2012001421 A5 JP2012001421 A5 JP 2012001421A5 JP 2010237721 A JP2010237721 A JP 2010237721A JP 2010237721 A JP2010237721 A JP 2010237721A JP 2012001421 A5 JP2012001421 A5 JP 2012001421A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silica
- concentration
- precipitated silica
- alkali silicate
- water glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Description
[工程(B);シリカ回収工程]
本工程は、液分中のSi濃度が6.0質量%以上のケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸を混合して、液分中のSiを非ゲル状の沈降性シリカとして析出させた後、固液分離を行い、SiO2を含む固形分と、不純物を含む液分を得る工程である。
なお、沈降性シリカは、ケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸との混合と同時に生成する。
本工程において用いられるケイ酸アルカリ水溶液は、特に限定されないが、具体的には前工程(工程(A)または工程(B1))で得られたケイ酸アルカリ水溶液、及び水ガラス等が挙げられる。
本発明で用いられる水ガラスは、市販のものを使用することができ、JIS規格により規定される1号、2号、3号の他に各水ガラスメーカーで製造販売されているJIS規格外の製品も使用することができる。
ケイ酸アルカリ水溶液中に含まれるSiの濃度は、6.0質量%以上、好ましくは8.0質量%以上、特に好ましくは10.0質量%以上である。Si濃度が6.0質量%未満であると、シリカがゲル状で析出するため、固液分離に時間がかかるとともに、得られるシリカの量が低下する。
ケイ酸アルカリ水溶液として水ガラスを用いる場合、Si濃度は好ましくは10.0質量%以上、より好ましくは12.5質量%以上、特に好ましくは15.0質量%以上である。
本工程において用いられる鉱酸は、例えば硫酸、塩酸、硝酸等が挙げられ、硫酸を用いることが薬剤コスト低減の理由で好ましい。
鉱酸の濃度は、ケイ酸アルカリ水溶液と混合する際に、非ゲル状の沈降性シリカが析出すればよく、具体的には、上記工程(A)または工程(B1)で得られたケイ酸アルカリ水溶液を用いる場合、鉱酸の濃度は、好ましくは20体積%以上、より好ましくは25体積%以上、特に好ましくは30体積%以上である。鉱酸の濃度が、上記範囲に満たない場合には、沈降性シリカが生成しない、あるいは沈降性シリカとゲル状シリカの両方が生成するおそれがある。このゲル状シリカが生成すると、最終シリカ生成物中の不純物濃度が高くなる。
水ガラスをケイ酸アルカリ水溶液として用いる場合、鉱酸の濃度は、好ましくは10体積%以上、より好ましくは15体積%以上、特に好ましくは20体積%以上である。鉱酸の濃度が、上記範囲に満たない場合には、沈降性シリカが生成しない、あるいは沈降性シリカとゲル状シリカの両方が生成するおそれがある。
ケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸の混合方法は、特に限定されるものではないが、pHを好ましくは1.0以下、より好ましくは0.9以下に保つことが望ましい。また、沈降性シリカのみを生成させる観点から、ケイ酸アルカリ水溶液を鉱酸に添加する方法が好ましい。具体的には、ケイ酸アルカリ水溶液を鉱酸に滴下する方法や、ケイ酸アルカリ水溶液を、1.0mmφ以上、好ましくは4.0mmφ以上のチューブ等から、鉱酸中に直接押し出す方法等が挙げられる。
また、ケイ酸アルカリ水溶液の鉱酸液中への流出速度は限定されないが、混合する際にpHが1.0を超え、かつ流出速度が大きい場合には、沈降性シリカが生成しない、あるいは沈降性シリカとゲル状シリカの両方が生成するおそれがある。
さらに、本工程において、ケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸を混合する際の沈降性シリカの析出温度を10℃以上、80℃以下に保持することで、得られるシリカの収量を増加させることができる。析出温度は10℃以上、80℃以下、好ましくは40℃以上、70℃以下、より好ましくは50℃以上、60℃以下である。析出温度が80℃を超えると、エネルギーコストの上昇や設備の腐食等が生じてしまう。
上記ケイ酸アルカリ水溶液中のSiを沈降性シリカとして析出させた後、フィルタープレス等の固液分離手段を用いて、SiO2を含む固形分と、不純物を含む液分に分離する。得られた沈降性シリカはゲル状ではなく、粒子状であるため固液分離に要する時間を短くすることができる。
本工程は、液分中のSi濃度が6.0質量%以上のケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸を混合して、液分中のSiを非ゲル状の沈降性シリカとして析出させた後、固液分離を行い、SiO2を含む固形分と、不純物を含む液分を得る工程である。
なお、沈降性シリカは、ケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸との混合と同時に生成する。
本工程において用いられるケイ酸アルカリ水溶液は、特に限定されないが、具体的には前工程(工程(A)または工程(B1))で得られたケイ酸アルカリ水溶液、及び水ガラス等が挙げられる。
本発明で用いられる水ガラスは、市販のものを使用することができ、JIS規格により規定される1号、2号、3号の他に各水ガラスメーカーで製造販売されているJIS規格外の製品も使用することができる。
ケイ酸アルカリ水溶液中に含まれるSiの濃度は、6.0質量%以上、好ましくは8.0質量%以上、特に好ましくは10.0質量%以上である。Si濃度が6.0質量%未満であると、シリカがゲル状で析出するため、固液分離に時間がかかるとともに、得られるシリカの量が低下する。
ケイ酸アルカリ水溶液として水ガラスを用いる場合、Si濃度は好ましくは10.0質量%以上、より好ましくは12.5質量%以上、特に好ましくは15.0質量%以上である。
本工程において用いられる鉱酸は、例えば硫酸、塩酸、硝酸等が挙げられ、硫酸を用いることが薬剤コスト低減の理由で好ましい。
鉱酸の濃度は、ケイ酸アルカリ水溶液と混合する際に、非ゲル状の沈降性シリカが析出すればよく、具体的には、上記工程(A)または工程(B1)で得られたケイ酸アルカリ水溶液を用いる場合、鉱酸の濃度は、好ましくは20体積%以上、より好ましくは25体積%以上、特に好ましくは30体積%以上である。鉱酸の濃度が、上記範囲に満たない場合には、沈降性シリカが生成しない、あるいは沈降性シリカとゲル状シリカの両方が生成するおそれがある。このゲル状シリカが生成すると、最終シリカ生成物中の不純物濃度が高くなる。
水ガラスをケイ酸アルカリ水溶液として用いる場合、鉱酸の濃度は、好ましくは10体積%以上、より好ましくは15体積%以上、特に好ましくは20体積%以上である。鉱酸の濃度が、上記範囲に満たない場合には、沈降性シリカが生成しない、あるいは沈降性シリカとゲル状シリカの両方が生成するおそれがある。
ケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸の混合方法は、特に限定されるものではないが、pHを好ましくは1.0以下、より好ましくは0.9以下に保つことが望ましい。また、沈降性シリカのみを生成させる観点から、ケイ酸アルカリ水溶液を鉱酸に添加する方法が好ましい。具体的には、ケイ酸アルカリ水溶液を鉱酸に滴下する方法や、ケイ酸アルカリ水溶液を、1.0mmφ以上、好ましくは4.0mmφ以上のチューブ等から、鉱酸中に直接押し出す方法等が挙げられる。
また、ケイ酸アルカリ水溶液の鉱酸液中への流出速度は限定されないが、混合する際にpHが1.0を超え、かつ流出速度が大きい場合には、沈降性シリカが生成しない、あるいは沈降性シリカとゲル状シリカの両方が生成するおそれがある。
さらに、本工程において、ケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸を混合する際の沈降性シリカの析出温度を10℃以上、80℃以下に保持することで、得られるシリカの収量を増加させることができる。析出温度は10℃以上、80℃以下、好ましくは40℃以上、70℃以下、より好ましくは50℃以上、60℃以下である。析出温度が80℃を超えると、エネルギーコストの上昇や設備の腐食等が生じてしまう。
上記ケイ酸アルカリ水溶液中のSiを沈降性シリカとして析出させた後、フィルタープレス等の固液分離手段を用いて、SiO2を含む固形分と、不純物を含む液分に分離する。得られた沈降性シリカはゲル状ではなく、粒子状であるため固液分離に要する時間を短くすることができる。
[実施例11]
水ガラス溶液(富士化学(株)製:SiO2/Na2O(モル比)=3.20)140gに水35gを加えて、Si濃度10%の水ガラス溶液を得た。
得られた水ガラス溶液を硫酸濃度30体積%の硫酸中に滴下し、かつウォーターバスによって析出温度を60℃に保ちながら沈降性シリカを析出させた後、減圧下でブフナー漏斗で固液分離し、SiO2を含む固形分(沈降性シリカ)39.8gと、不純物を含む液分135.0gを得た。
得られた沈降性シリカ中のナトリウム(Na)、硫黄(S)、アルミニウム(Al)、鉄(Fe)、ホウ素(B)、リン(P)の濃度を測定した。その結果を表1に示す。
得られた沈降性シリカは、乾燥後に、Na:832ppm、S:1753ppm、Al:2.3ppm、Fe:4.0ppm、B:0.05ppm未満、P:1.0ppm未満の成分組成を有していた。また、Siの回収率は93%であった。
水ガラス溶液(富士化学(株)製:SiO2/Na2O(モル比)=3.20)140gに水35gを加えて、Si濃度10%の水ガラス溶液を得た。
得られた水ガラス溶液を硫酸濃度30体積%の硫酸中に滴下し、かつウォーターバスによって析出温度を60℃に保ちながら沈降性シリカを析出させた後、減圧下でブフナー漏斗で固液分離し、SiO2を含む固形分(沈降性シリカ)39.8gと、不純物を含む液分135.0gを得た。
得られた沈降性シリカ中のナトリウム(Na)、硫黄(S)、アルミニウム(Al)、鉄(Fe)、ホウ素(B)、リン(P)の濃度を測定した。その結果を表1に示す。
得られた沈降性シリカは、乾燥後に、Na:832ppm、S:1753ppm、Al:2.3ppm、Fe:4.0ppm、B:0.05ppm未満、P:1.0ppm未満の成分組成を有していた。また、Siの回収率は93%であった。
[実施例12]
水ガラス溶液(富士化学(株)製:SiO2/Na2O(モル比)=3.20)140gに水35gを加えて、Si濃度10%の水ガラス溶液を得た。
得られた水ガラス溶液を硫酸濃度20体積%の硫酸中に滴下し、かつウォーターバスによって析出温度を60℃に保ちながら沈降性シリカを析出させた後、減圧下でブフナー漏斗で固液分離し、SiO2を含む固形分(沈降性シリカ)38.5gと、不純物を含む液分136.2gを得た。
得られた沈降性シリカ中のナトリウム(Na)、硫黄(S)、アルミニウム(Al)、鉄(Fe)、ホウ素(B)、リン(P)の濃度を測定した。その結果を表1に示す。
得られた沈降性シリカは、乾燥後に、Na:796ppm、S:1312ppm、Al:2.9ppm、Fe:4.8ppm、B:0.05ppm未満、P:1.0ppm未満の成分組成を有していた。また、Siの回収率は90%であった。
水ガラス溶液(富士化学(株)製:SiO2/Na2O(モル比)=3.20)140gに水35gを加えて、Si濃度10%の水ガラス溶液を得た。
得られた水ガラス溶液を硫酸濃度20体積%の硫酸中に滴下し、かつウォーターバスによって析出温度を60℃に保ちながら沈降性シリカを析出させた後、減圧下でブフナー漏斗で固液分離し、SiO2を含む固形分(沈降性シリカ)38.5gと、不純物を含む液分136.2gを得た。
得られた沈降性シリカ中のナトリウム(Na)、硫黄(S)、アルミニウム(Al)、鉄(Fe)、ホウ素(B)、リン(P)の濃度を測定した。その結果を表1に示す。
得られた沈降性シリカは、乾燥後に、Na:796ppm、S:1312ppm、Al:2.9ppm、Fe:4.8ppm、B:0.05ppm未満、P:1.0ppm未満の成分組成を有していた。また、Siの回収率は90%であった。
[実施例13]
水ガラス溶液(富士化学(株)製:SiO2/Na2O(モル比)=3.20)140gに水35gを加えて、Si濃度10%の水ガラス溶液を得た。
得られた水ガラス溶液を硫酸濃度10体積%の硫酸中に滴下し、かつウォーターバスによって析出温度を60℃に保ちながら沈降性シリカを析出させた後、減圧下でブフナー漏斗で固液分離し、SiO2を含む固形分(沈降性シリカ)36.4gと、不純物を含む液分138.7gを得た。
得られた沈降性シリカ中のナトリウム(Na)、硫黄(S)、アルミニウム(Al)、鉄(Fe)、ホウ素(B)、リン(P)の濃度を測定した。その結果を表1に示す。
得られた沈降性シリカは、乾燥後に、Na:316ppm、S:427ppm、Al:5.1ppm、Fe:6.7ppm、B:0.05ppm、P:1.0ppm未満の成分組成を有していた。また、Siの回収率は85%であった。
なお、実施例1〜13において、工程(B)におけるケイ酸アルカリ水溶液と硫酸の混合は、pH1.0以下に保ちながら行われた。
水ガラス溶液(富士化学(株)製:SiO2/Na2O(モル比)=3.20)140gに水35gを加えて、Si濃度10%の水ガラス溶液を得た。
得られた水ガラス溶液を硫酸濃度10体積%の硫酸中に滴下し、かつウォーターバスによって析出温度を60℃に保ちながら沈降性シリカを析出させた後、減圧下でブフナー漏斗で固液分離し、SiO2を含む固形分(沈降性シリカ)36.4gと、不純物を含む液分138.7gを得た。
得られた沈降性シリカ中のナトリウム(Na)、硫黄(S)、アルミニウム(Al)、鉄(Fe)、ホウ素(B)、リン(P)の濃度を測定した。その結果を表1に示す。
得られた沈降性シリカは、乾燥後に、Na:316ppm、S:427ppm、Al:5.1ppm、Fe:6.7ppm、B:0.05ppm、P:1.0ppm未満の成分組成を有していた。また、Siの回収率は85%であった。
なお、実施例1〜13において、工程(B)におけるケイ酸アルカリ水溶液と硫酸の混合は、pH1.0以下に保ちながら行われた。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010237721A JP5688946B2 (ja) | 2010-05-20 | 2010-10-22 | 高純度シリカの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010115970 | 2010-05-20 | ||
JP2010115970 | 2010-05-20 | ||
JP2010237721A JP5688946B2 (ja) | 2010-05-20 | 2010-10-22 | 高純度シリカの製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012001421A JP2012001421A (ja) | 2012-01-05 |
JP2012001421A5 true JP2012001421A5 (ja) | 2013-10-31 |
JP5688946B2 JP5688946B2 (ja) | 2015-03-25 |
Family
ID=45533830
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010237721A Active JP5688946B2 (ja) | 2010-05-20 | 2010-10-22 | 高純度シリカの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5688946B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5843684B2 (ja) * | 2012-03-30 | 2016-01-13 | 太平洋セメント株式会社 | 高純度シリカの製造方法 |
JP5968126B2 (ja) * | 2012-07-04 | 2016-08-10 | 太平洋セメント株式会社 | 非晶質シリカの製造方法 |
JP2014141400A (ja) * | 2012-12-28 | 2014-08-07 | Taiheiyo Cement Corp | シリカとカーボンの混合物の製造方法 |
CN104556070B (zh) * | 2014-12-26 | 2017-01-11 | 中天科技精密材料有限公司 | 一种回收高纯二氧化硅的方法及装置 |
KR102657883B1 (ko) * | 2021-08-02 | 2024-04-17 | (주)에이스나노켐 | 규산의 금속 불순물 제거 방법, 고순도 규산 및 고순도 콜로이달 실리카 |
KR102650839B1 (ko) * | 2021-09-01 | 2024-03-26 | (주)에이스나노켐 | 고순도 콜로이달 실리카의 제조방법 및 고순도 실리카 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6321213A (ja) * | 1986-07-14 | 1988-01-28 | Jgc Corp | 高純度シリカの製造方法 |
JPH01153564A (ja) * | 1987-12-10 | 1989-06-15 | Isolite Kogyo Kk | 白色珪藻土及びその製造方法 |
JP2010030873A (ja) * | 2008-07-25 | 2010-02-12 | K & I Internatl Co Ltd | 高純度シリコン及びその製造方法 |
JP5094614B2 (ja) * | 2008-07-29 | 2012-12-12 | 太平洋セメント株式会社 | 高純度シリカの製造方法 |
-
2010
- 2010-10-22 JP JP2010237721A patent/JP5688946B2/ja active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2012001421A5 (ja) | ||
CN102286667B (zh) | 一种铝及铝合金用无钠精炼剂及其生产方法 | |
RU2013142832A (ru) | Высокочистый гранулированный диоксид кремния для применения в областях использования кварцевого стекла | |
JP2014511330A (ja) | アルカリ金属ケイ酸塩溶液からの高純度水性コロイダルシリカゾルの製造方法 | |
US11027981B2 (en) | Process for the preparation of silicate and its use for the preparation of precipitated silica | |
TWI272246B (en) | High purity phosphoric acid and method for production thereof | |
CN103073006A (zh) | 一种介孔二氧化硅的制备方法 | |
JP5496122B2 (ja) | 高純度シリカの製造方法 | |
CN104959108A (zh) | 一种污水氨氮净化吸附用凹凸棒石/海浮石复合滤料及其制备方法 | |
JP2012158486A5 (ja) | ||
JP5688946B2 (ja) | 高純度シリカの製造方法 | |
JP5334043B2 (ja) | 水ガラスの製造方法 | |
JP6134599B2 (ja) | 高純度シリカゾルおよびその製造方法 | |
RU2421400C1 (ru) | Способ получения алюмокремниевого коагулянта-флокулянта | |
JP6804315B2 (ja) | 精製シリカの製造方法 | |
CN109592693A (zh) | 一种酸浸渣制取水玻璃的方法 | |
CN105566098A (zh) | 一种高纯度结晶乙酸钙和无水乙酸钙的联产方法 | |
JP2013095635A5 (ja) | ||
JP5843684B2 (ja) | 高純度シリカの製造方法 | |
US4693878A (en) | Process for the production of soluble alkali silicates | |
JP6791769B2 (ja) | 精製シリカの製造方法 | |
JP6005045B2 (ja) | シリカとカーボンの混合物の製造方法 | |
CN108726539A (zh) | 一种高纯无水碘化钠粉体的制备工艺 | |
JP7061452B2 (ja) | リン酸の製造方法および精製方法 | |
RU2420454C1 (ru) | Способ получения нанодисперсного кремнезема |