JP2012158486A5 - - Google Patents
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［実施例１２］
３５質量％の過酸化水素水の添加量を４．７ｍｌから１．１ｍｌに変更し、かつ、蒸留水を用いた水洗を行わない以外は実施例１と同様にして精製シリカ９．８ｇを得た。
得られた精製シリカ中のチタン（Ｔｉ）の濃度を測定した。その結果を表１に示す。
得られた精製シリカは、乾燥後に、Ｎａ：３１０ｐｐｍ、Ｓ：４２５ｐｐｍ、Ａｌ：０．９ｐｐｍ、Ｆｅ：０．９ｐｐｍ、Ｃａ：１．０ｐｐｍ、Ｂ：検出限界未満（０．０５ｐｐｍ未満）、Ｐ：検出限界未満（１．０ｐｐｍ未満）の成分組成を有していた。また、Ｓｉの回収率は６６％であった。
３５質量％の過酸化水素水の添加量を４．７ｍｌから１．１ｍｌに変更し、かつ、蒸留水を用いた水洗を行わない以外は実施例１と同様にして精製シリカ９．８ｇを得た。
得られた精製シリカ中のチタン（Ｔｉ）の濃度を測定した。その結果を表１に示す。
得られた精製シリカは、乾燥後に、Ｎａ：３１０ｐｐｍ、Ｓ：４２５ｐｐｍ、Ａｌ：０．９ｐｐｍ、Ｆｅ：０．９ｐｐｍ、Ｃａ：１．０ｐｐｍ、Ｂ：検出限界未満（０．０５ｐｐｍ未満）、Ｐ：検出限界未満（１．０ｐｐｍ未満）の成分組成を有していた。また、Ｓｉの回収率は６６％であった。
［実施例１４］
水ガラス溶液（富士化学（株）製：ＳｉＯ２／Ｎａ２Ｏ（モル比）＝３．２０）１４０ｇに、水３５ｇを加えて混合し、次いで３５質量％の過酸化水素水１．１ｍｌを添加することによって、過酸化水素が添加されたＳｉ濃度１０．０質量％の水ガラス溶液を得た。
得られた水ガラス水溶液６６．２ｇを硫酸濃度１０．７体積％の硫酸２００ｇ中に滴下し、常温（２５℃）下で沈降性シリカを析出させた後、減圧下でブフナー漏斗を用いて固液分離し、ＳｉＯ２を含む固形分（沈降性シリカ）１９．４ｇと、不純物を含む液分２４６．８ｇを得た。なお、ｐＨは滴下終了時まで１．０以下に保った。その後、１０５℃で１日乾燥させ、精製シリカ９．７ｇを得た。
得られた精製シリカ中のチタン（Ｔｉ）の濃度を測定した。その結果を表１に示す。
得られた精製シリカは、乾燥後に、Ｎａ：２４６ｐｐｍ、Ｓ：３０８ｐｐｍ、Ａｌ：９．５ｐｐｍ、Ｆｅ：８．２ｐｐｍ、Ｃａ：２．６ｐｐｍ、Ｂ：０．５ｐｐｍ、Ｐ：１．３ｐｐｍの成分組成を有していた。また、Ｓｉの回収率は６５％であった。
水ガラス溶液（富士化学（株）製：ＳｉＯ２／Ｎａ２Ｏ（モル比）＝３．２０）１４０ｇに、水３５ｇを加えて混合し、次いで３５質量％の過酸化水素水１．１ｍｌを添加することによって、過酸化水素が添加されたＳｉ濃度１０．０質量％の水ガラス溶液を得た。
得られた水ガラス水溶液６６．２ｇを硫酸濃度１０．７体積％の硫酸２００ｇ中に滴下し、常温（２５℃）下で沈降性シリカを析出させた後、減圧下でブフナー漏斗を用いて固液分離し、ＳｉＯ２を含む固形分（沈降性シリカ）１９．４ｇと、不純物を含む液分２４６．８ｇを得た。なお、ｐＨは滴下終了時まで１．０以下に保った。その後、１０５℃で１日乾燥させ、精製シリカ９．７ｇを得た。
得られた精製シリカ中のチタン（Ｔｉ）の濃度を測定した。その結果を表１に示す。
得られた精製シリカは、乾燥後に、Ｎａ：２４６ｐｐｍ、Ｓ：３０８ｐｐｍ、Ａｌ：９．５ｐｐｍ、Ｆｅ：８．２ｐｐｍ、Ｃａ：２．６ｐｐｍ、Ｂ：０．５ｐｐｍ、Ｐ：１．３ｐｐｍの成分組成を有していた。また、Ｓｉの回収率は６５％であった。
［実施例１６］
３５質量％の過酸化水素水の添加量を４．７ｍｌから１．１ｍｌに変更し、かつ、ｐＨを滴下終了時まで２．０に保った以外は実施例１と同様にして精製シリカ９．８ｇを得た。
得られた精製シリカ中のチタン（Ｔｉ）の濃度を測定した。その結果を表１に示す。
得られた精製シリカは、乾燥後に、Ｎａ：６２ｐｐｍ、Ｓ：９１ｐｐｍ、Ａｌ：検出限界未満（０．５ｐｐｍ未満）、Ｆｅ：０．９ｐｐｍ、Ｃａ：検出限界未満（０．５ｐｐｍ未満）、Ｂ：検出限界未満（０．０５ｐｐｍ未満）、Ｐ：検出限界未満（１．０ｐｐｍ未満）の成分組成を有していた。また、Ｓｉの回収率は６６％であった。
３５質量％の過酸化水素水の添加量を４．７ｍｌから１．１ｍｌに変更し、かつ、ｐＨを滴下終了時まで２．０に保った以外は実施例１と同様にして精製シリカ９．８ｇを得た。
得られた精製シリカ中のチタン（Ｔｉ）の濃度を測定した。その結果を表１に示す。
得られた精製シリカは、乾燥後に、Ｎａ：６２ｐｐｍ、Ｓ：９１ｐｐｍ、Ａｌ：検出限界未満（０．５ｐｐｍ未満）、Ｆｅ：０．９ｐｐｍ、Ｃａ：検出限界未満（０．５ｐｐｍ未満）、Ｂ：検出限界未満（０．０５ｐｐｍ未満）、Ｐ：検出限界未満（１．０ｐｐｍ未満）の成分組成を有していた。また、Ｓｉの回収率は６６％であった。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2011018223A JP5496122B2 (ja) | 2011-01-31 | 2011-01-31 | 高純度シリカの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2011018223A JP5496122B2 (ja) | 2011-01-31 | 2011-01-31 | 高純度シリカの製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
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| JP2012158486A JP2012158486A (ja) | 2012-08-23 |
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| JP5496122B2 JP5496122B2 (ja) | 2014-05-21 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP (1) | JP5496122B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5689038B2 (ja) * | 2011-07-27 | 2015-03-25 | 太平洋セメント株式会社 | 高純度シリカの製造方法 |
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| JP6791769B2 (ja) * | 2017-01-24 | 2020-11-25 | 太平洋セメント株式会社 | 精製シリカの製造方法 |
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2011
- 2011-01-31 JP JP2011018223A patent/JP5496122B2/ja active Active
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