JP2012000736A - シリコンブロックの面取加工方法及びその装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】シリコンブロックの連続回転、加工帯体の循回移送及びシリコンブロック又は加工帯体のシリコンブロックの回転軸線方向の移動の複合作用によってシリコンブロックの四つの角縁部を連続して、研削又は研磨加工してR面又はC面に面取加工を行うことができる。
【解決手段】シリコンブロックWの角縁部WをR面又はC面に面取加工する装置であって、シリコンブロックを保持して連続回転させる保持回転部Aと、シリコンブロックの角縁部を研削又は研磨加工して面取加工を行う無端帯状の加工帯体Tをシリコンブロックの回転軸線Oに直交する方向Nに循回移送させる加工ヘッド部Bと、加工帯体をシリコンブロックの角縁部に圧接させる圧接機構部Cと、保持回転部又は加工ヘッド部をシリコンブロックの回転軸線方向に移動させる移動機構部Dとを備えてなる。
【選択図】図1

Description

本発明は、例えば、太陽電池等に用いられるシリコンウエハの製造工程において、四角柱状に切断加工された単結晶のシリコンブロックの面取り加工に用いられるシリコンブロックの面取加工方法及び面取加工装置に関するものである。
従来、この種のシリコンブロックの面取加工装置として、シリコンブロックの四つの角縁部を研磨砥石や研削砥石によりR面又はC面に面取加工する構造のものが知られている。
特開2005−347706号 特開2007−13012号
しかしながらこれら従来構造の場合、シリコンブロックの角縁部を砥石車を用いて研磨又は研削加工により面取加工することになり、砥石車による研削又は研磨加工により面取加工する構造のためシリコンブロックの角縁部にチッピングが生じたり、R面又はC面の研磨面の表面精度が劣ったりすることがあり、シリコンウエハの品質並びに歩留まり性に影響を及ぼすことがあるという不都合を有している。
本発明はこのような不都合を解決することを目的とするもので、本発明のうち、請求項1記載の方法の発明は、シリコンブロックの角縁部をR面に面取加工するに際し、上記シリコンブロックを保持回転部により保持して連続回転させ、該シリコンブロックの角縁部を研削又は研磨加工して面取加工を行う加工ヘッド部の無端帯状の加工帯体を該シリコンブロックの回転軸線に直交する方向に循回移送させ、該加工ヘッド部は該シリコンブロックの角縁部の長手方向と加工帯体の幅方向とが同方向となるように配置され、該加工帯体を圧接機構部により該シリコンブロックの角縁部に圧接させ、該保持回転部又は該加工ヘッド部を移動機構部により該シリコンブロックの回転軸線方向に移動させることを特徴とするシリコンブロックの面取加工方法にある。
又、請求項2記載の方法の発明は、シリコンブロックの角縁部をC面に面取加工するに際し、上記シリコンブロックを保持回転部により保持して割出回転停止し、該シリコンブロックの角縁部を研削又は研磨加工して面取加工を行う加工ヘッド部の無端帯状の加工帯体を該シリコンブロックの回転軸線に直交する方向に循回移送させ、該加工ヘッド部はシリコンブロックの角縁部の長手方向に直交する方向と加工帯体の幅方向とが同方向となるように配置され、該加工帯体を圧接機構部により該シリコンブロックの角縁部に圧接させ、該保持回転部又は該加工ヘッド部を移動機構部により該シリコンブロックの回転軸線方向に移動させることを特徴とするシリコンブロックの面取加工方法にある。
又、請求項3記載の方法の発明は、上記加工ヘッド部を上記シリコンブロックの回転軸線に直交する方向に対して切替旋回機構部により選択的に90度切替旋回させ、上記シリコンブロックの角縁部をR面に面取加工したり、該シリコンブロックの角縁部をC面に面取加工したりすることを特徴とするものである。
又、請求項4記載の装置の発明は、シリコンブロックの角縁部をR面に面取加工する装置であって、シリコンブロックを保持して連続回転させる保持回転部と、該シリコンブロックの角縁部を研削又は研磨加工して面取加工を行う無端帯状の加工帯体をシリコンブロックの回転軸線に直交する方向に循回移送させると共に該シリコンブロックの角縁部の長手方向と加工帯体の幅方向とが同方向となるように配置された加工ヘッド部と、該加工帯体を該シリコンブロックの角縁部に圧接させる圧接機構部と、該保持回転部又は該加工ヘッド部を該シリコンブロックの回転軸線方向に移動させる移動機構部とを備えてなることを特徴とするシリコンブロックの面取加工装置にある。
又、請求項5記載の装置の発明は、シリコンブロックの角縁部をC面に面取加工する装置であって、シリコンブロックを保持して割出回転停止させる保持回転部と、該シリコンブロックの角縁部を研削又は研磨加工して面取加工を行う無端帯状の加工帯体をシリコンブロックの回転軸線に直交する方向に循回移送させると共に該シリコンブロックの角縁部の長手方向に直交する方向と加工帯体の幅方向とが同方向となるように配置された加工ヘッド部と、該加工帯体を該シリコンブロックの角縁部に圧接させる圧接機構部と、該保持回転部又は該加工ヘッド部を該シリコンブロックの回転軸線方向に移動させる移動機構部とを備えてなることを特徴とするシリコンブロックの面取加工装置にある。
又、請求項6記載の装置の発明にあっては、上記シリコンブロックの角縁部をR面に面取加工する場合、又は、該シリコンブロックの角縁部をC面に面取加工する場合において、上記加工ヘッド部を該シリコンブロックの回転軸線に直交する方向に対して選択的に90度切替旋回させる切替旋回機構部を設けてなることを特徴とするものである。
本発明は上述の如く、請求項1又は4記載の発明にあっては、シリコンブロックを保持回転部により保持して連続回転させ、加工ヘッド部の無端帯状の加工帯体をシリコンブロックの回転軸線に直交する方向に循回移送させ、加工ヘッド部はシリコンブロックの角縁部の長手方向に直交する方向と加工帯体の幅方向とが同方向となるように配置され、圧接機構部によりシリコンブロックの角縁部に加工帯体を圧接させ、移動機構部により保持回転部又は加工ヘッド部をシリコンブロックの回転軸線方向に移動させることになり、しかして、シリコンブロックの連続回転、加工帯体の循回移送及びシリコンブロック又は加工帯体のシリコンブロックの回転軸線方向の移動の複合作用によってシリコンブロックの四つの角縁部を連続して、研削又は研磨加工してR面に面取加工を行うことができ、したがって、シリコンブロックの四つの角縁部をR面に面取り加工することができ、砥石車構造に比較して、シリコンブロックの角縁部のチッピングを防ぐと共にR面の研磨面の表面精度を高めることができ、ひいては、シリコンウエハの品質並びに歩留まり性を向上することができる。
又、請求項2又は5記載の発明にあっては、シリコンブロックを保持回転部により保持してシリコンブロックの四つの角縁部が加工帯体に対向するように割出回転して停止し、加工ヘッド部の無端帯状の加工帯体をシリコンブロックの回転軸線に直交する方向に循回移送させ、加工ヘッド部はシリコンブロックの角縁部の長手方向に直交する方向と加工帯体の幅方向とが同方向となるように配置され、圧接機構部によりシリコンブロックの角縁部に加工帯体を圧接させ、移動機構部により保持回転部又は加工ヘッド部をシリコンブロックの回転軸線方向に移動させることになり、しかして、シリコンブロックの四つの角縁部毎にそれぞれ割出回転停止し、加工帯体の循回移送及びシリコンブロック又は加工帯体のシリコンブロックの回転軸線方向の移動の複合作用によりシリコンブロックの四つの角縁部を順次、研削又は研磨加工して、C面に面取加工を行うことができ、したがって、シリコンブロックの四つの角縁部をC面に面取り加工することができ、砥石車構造に比較して、シリコンブロックの角縁部のチッピングを防ぐと共にC面の研磨面の表面精度を高めることができ、ひいては、シリコンウエハの品質並びに歩留まり性を向上することができる。
又、請求項3又は6記載の発明にあっては、上記シリコンブロックの角縁部をR面に面取加工する場合、又は、シリコンブロックの角縁部をC面に面取加工する場合において、上記加工ヘッド部をシリコンブロックの回転軸線に直交する方向に対して選択的に90度切替旋回させる切替旋回機構部を設けているから、シリコンブロックの角縁部をR面又はC面に選択的に面取加工することができ、シリコンブロックの面取仕様に対する面取加工の融通性を高めることができる。
本発明の実施の形態例の全体正面図である。 本発明の実施の形態例の側面図である。 本発明の実施の形態例のR面の面取加工時の拡大側断面図である。 本発明の実施の形態例のR面の面取加工時の拡大正面図である。 本発明の実施の形態例のR面の面取加工時の拡大平断面図である。 本発明の実施の形態例のR面の面取加工の説明図である。 本発明の実施の形態例のR面の面取加工の説明図である。 本発明の実施の形態例のC面の面取加工時の拡大側断面図である。 本発明の実施の形態例のC面の面取加工時の拡大正面図である。 本発明の実施の形態例のC面の面取加工の説明図である。 本発明の実施の形態例のC面の面取加工の説明図である。
図1乃至図11は本発明の請求項3又は6に対応する実施の形態例を示し、Wはシリコンブロックであって、太陽電池等に用いられるシリコンウエハの製造工程において四角柱状に切断加工されてなり、このシリコンブロックWの四つの角縁部Wを研磨又は研削してR面(弧状面)又はC面(平坦面)に面取加工されることになる。ここに、シリコンブロックWの角縁部Wに全く面取りがなされていない場合には、研削加工及び研磨加工が併用されたり、ある程度の面取りがなされている場合には、研磨加工がなされたりして面取加工が行われることになる。
この場合、大別して、上記シリコンブロックWを保持して連続回転又は割出回転して回転停止させる保持回転部Aと、シリコンブロックWの角縁部Wを研削又は研磨加工して面取加工を行う無端帯状の加工帯体TをシリコンブロックWの回転軸線Oに直交する方向に循回移送させる加工ヘッド部Bと、加工帯体TをシリコンブロックWの角縁部Wに圧接させる圧接機構部Cと、保持回転部A又は加工ヘッド部B、この場合、保持回転部AをシリコンブロックWの回転軸線O方向に移動させる移動機構部Dとからなり、かつ、上記シリコンブロックWの角縁部WをR面に面取加工する場合、又は、シリコンブロックWの角縁部WをC面に面取加工する場合において、上記加工ヘッド部BをシリコンブロックWの回転軸線Oに直交する方向に対して選択的に90度切替旋回させる切替旋回機構部Eを具えている。
この場合、上記保持回転部Aは、図1、図2の如く、シリコンブロックWを保持可能な対向一対の保持部1・1及び一方の保持部1を回転軸線Oで連続回転又はシリコンブロックWの四つの角縁部Wがそれぞれ加工帯体Tに対向するように割出回転して停止させる回転機構2からなり、かつ、この場合、上記保持部1は外爪把持構造が採用され、回転機構2は制御用モータ2aからなる構造が採用され、機台M上に移動機構部Dを介して設けられている。
又、上記加工ヘッド部Bは、図1、図3の如く、ヘッド体3に駆動ロール4及び圧接ロール5が上下に配置され、圧接ロール5の表面部材は弾性材からなり、この駆動ロール4と圧接ロール5との間に無端帯状の加工帯体Tを掛回し、この加工帯体Tは可撓性基材にダイヤモンド砥粒を設けてなり、この駆動ロール4を回転用モータ4aにより回転駆動し、加工帯体TをシリコンブロックWの回転軸線Oに直交する方向Nに循回移送させる構造となっている。
又、上記圧接機構部Cは、図1の如く、上記機台Mに加工ポスト6を立設し、この加工ポスト6に取付部材7を摺動ガイド7a及び摺動部7bにより上下移動自在に設け、取付部材7をボールねじ機構8を介して上下動させる制御用モータ9を設けてなり、加工帯体TをシリコンブロックWの角縁部Wに圧接させる構造となっている。
又、上記移動機構部Dは、この場合、図1、図3の如く、上記保持回転部Aの対向一対の保持部1・1を回転自在に保持可能な移動台10を上記機台Mに摺動ガイド10a及び摺動部10bにより水平移動自在に設け、移動台10をボールねじ機構11を介して上下動させる制御用モータ12を設けてなり、機台Mの一方側部に供給取出位置Gが設けられ、移動台10を供給取出位置GからシリコンブロックWの長さと加工帯体Tの幅寸法に応じた面取加工位置HにシリコンブロックWの回転軸線O方向に往復移動させる構造となっている。
又、上記切替旋回機構部Eは、図5の如く、上記加工ヘッド部Bの上記ヘッド体3を上記圧接機構部Cの取付部材7に旋回軸13により吊下状態で水平旋回自在に設け、この旋回軸13を制御用モータ14によりシリコンブロックWの回転軸線Oに直交する方向に対して選択的に90度(θ)切替旋回自在に設けられ、上記シリコンブロックWの角縁部WをR面に面取加工する場合、又は、シリコンブロックWの角縁部WをC面に面取加工する場合において、図5の実線位置又は想像線位置に示すように、上記加工ヘッド部Bを90度切替旋回させる構造となっている。
この実施の形態例は上記構成であるから、シリコンブロックWの角縁部WをR面に面取加工するに際しては、図1乃至図7の如く、準備作業として、図5の実線位置の如く、切替旋回機構部EによりシリコンブロックWの角縁部Wの長手方向と加工帯体Tの幅方向とが同方向となるように切替旋回設定し、シリコンブロックWを保持回転部Aにより保持して図5の矢印方向Sに連続回転させ、図6、図7の如く、加工ヘッド部Bの無端帯状の加工帯体TをシリコンブロックWの回転軸線Oに直交する方向Nに循回移送させ、圧接機構部CによりシリコンブロックWの角縁部Wに加工帯体Tを圧接させ、移動機構部Dにより保持回転部AをシリコンブロックWの回転軸線O方向の移動方向Fに移動、又はシリコンブロックWの長さと加工帯体Tの幅寸法に応じた面取ストローク分、複数回往復移動させることになり、しかして、シリコンブロックWの連続回転、加工帯体Tの循回移送及びシリコンブロックWの回転軸線O方向の移動の複合作用によってシリコンブロックWの四つの角縁部Wを連続して、研削又は研磨加工してR面に面取加工を行うことができ、したがって、シリコンブロックWの四つの角縁部WをR面に面取り加工することができ、砥石車構造に比較して、シリコンブロックWの角縁部Wのチッピングを防ぐと共にR面の研磨面の表面精度を高めることができ、ひいては、シリコンウエハの品質並びに歩留まり性を向上することができる。
又、この場合、シリコンブロックWの角縁部WをC面に面取加工するに際しては、図8乃至図11の如く、準備作業として、図5の想像線位置の如く、切替旋回機構部EによりシリコンブロックWの回転軸線Oに直交する方向に対して90度(θ)切替旋回させ、これによりシリコンブロックWの角縁部Wの長手方向に直交する方向と加工帯体Tの幅方向とは同方向となり、上記シリコンブロックWを保持回転部Aにより保持してシリコンブロックWの四つの角縁部Wが加工帯体Tに対向するように割出回転して停止し、図10、図11の如く、加工ヘッド部Bの無端帯状の加工帯体TをシリコンブロックWの回転軸線Oに直交する方向Nに循回移送させ、圧接機構部CによりシリコンブロックWの角縁部Wに加工帯体Tを圧接させ、移動機構部Dにより保持回転部AをシリコンブロックWの回転軸線O方向の移動方向Fに移動、又はシリコンブロックWの長さと加工帯体Tの幅寸法に応じた面取ストローク分、複数回往復移動させることになり、しかして、シリコンブロックWの四つの角縁部W毎にそれぞれ割出回転停止し、加工帯体Tの循回移送及びシリコンブロックWの回転軸線O方向の移動の複合作用によりシリコンブロックWの四つの角縁部Wを順次、研削又は研磨加工して、C面に面取加工を行うことができ、したがって、シリコンブロックWの四つの角縁部WをC面に面取り加工することができ、砥石車構造に比較して、シリコンブロックWの角縁部Wのチッピングを防ぐと共にC面の研磨面の表面精度を高めることができ、ひいては、シリコンウエハの品質並びに歩留まり性を向上することができる。
又、この場合、上記シリコンブロックWの角縁部WをR面に面取加工する場合、又は、シリコンブロックの角縁部をC面に面取加工する場合において、上記加工ヘッド部BをシリコンブロックWの回転軸線Oに直交する方向に対して選択的に90度切替旋回させる切替旋回機構部Eを設けているから、シリコンブロックWの角縁部WをR面又はC面に選択的に面取加工することができ、シリコンブロックWの面取仕様に対する面取加工の融通性を高めることができる。
本発明の他の実施の形態例として、図示を省略しているが、本発明の請求項1又は請求項3に対応する構造として、上記切替旋回機構部Eの旋回軸13等を構成要素として組み込まない構造とし、上記加工ヘッド部Bの上記ヘッド体3を上記圧接機構部Cの取付部材7にシリコンブロックWの角縁部Wの長手方向と加工帯体Tの幅方向とが同方向となるように吊下状態で固定する構造とし、R面の面取加工のみを行う形態例もあり、又、図示を省略しているが、本発明の請求項2又は請求項5に対応する構造として、同じく、上記切替旋回機構部Eの旋回軸13等を構成要素として組み込まない構造とし、上記加工ヘッド部Bの上記ヘッド体3を上記圧接機構部Cの取付部材7にシリコンブロックWの角縁部Wの長手方向に直交する方向と加工帯体Tの幅方向とが同方向となるように吊下状態で固定する構造とし、C面の面取加工のみを行う形態例もあり、これら図示を省略した二つの実施の形態例においては、切替旋回機構部Eがもたらす作用効果を除き、それぞれ同様な作用効果を得ることができる。
又、上記実施の形態例においては、移動機構部Dとして、保持回転部AをシリコンブロックWの回転軸線O方向に移動させる構造としているが、これに代えて、図示を省略しているが、加工ヘッド部BをシリコンブロックWの回転軸線O方向に移動させる構造とすることもあり、保持回転部Aの移動を加工ヘッド部Bの移動に変更してもシリコンブロックWと加工帯体Tとはいずれも相対的な移動が行われ、上記作用効果と同様な作用効果を得ることができる。
尚、本発明は上記実施の形態例に限られるものではなく、保持回転部A、加工ヘッド部B、圧接機構部C、移動機構部D、切替旋回機構部Eの構造、その制御手段並びに加工帯体Tの種類等は適宜変更して設計される。
又、例えば、上記実施の形態例においては、乾式構造となっているが、各種材質の遊離砥粒や化学剤を含む加工液体や潤滑剤を供給する所謂湿式構造とすることもあり、シリコンブロックWの種類や面取加工条件により選択して設計されることになる。
以上、所期の目的を充分達成することができる。
W シリコンブロック
角縁部
A 保持回転部
T 加工帯体
O 回転軸線
B 加工ヘッド部
C 圧接機構部
D 移動機構部
E 切替旋回機構部
N 直交する方向

Claims (6)

  1. シリコンブロックの角縁部をR面に面取加工するに際し、上記シリコンブロックを保持回転部により保持して連続回転させ、該シリコンブロックの角縁部を研削又は研磨加工して面取加工を行う加工ヘッド部の無端帯状の加工帯体を該シリコンブロックの回転軸線に直交する方向に循回移送させ、該加工ヘッド部は該シリコンブロックの角縁部の長手方向と加工帯体の幅方向とが同方向となるように配置され、該加工帯体を圧接機構部により該シリコンブロックの角縁部に圧接させ、該保持回転部又は該加工ヘッド部を移動機構部により該シリコンブロックの回転軸線方向に移動させることを特徴とするシリコンブロックの面取加工方法。
  2. シリコンブロックの角縁部をC面に面取加工するに際し、上記シリコンブロックを保持回転部により保持して割出回転停止し、該シリコンブロックの角縁部を研削又は研磨加工して面取加工を行う加工ヘッド部の無端帯状の加工帯体を該シリコンブロックの回転軸線に直交する方向に循回移送させ、該加工ヘッド部はシリコンブロックの角縁部の長手方向に直交する方向と加工帯体の幅方向とが同方向となるように配置され、該加工帯体を圧接機構部により該シリコンブロックの角縁部に圧接させ、該保持回転部又は該加工ヘッド部を移動機構部により該シリコンブロックの回転軸線方向に移動させることを特徴とするシリコンブロックの面取加工方法。
  3. 上記加工ヘッド部を上記シリコンブロックの回転軸線に直交する方向に対して切替旋回機構部により選択的に90度切替旋回させ、上記シリコンブロックの角縁部をR面に面取加工したり、該シリコンブロックの角縁部をC面に面取加工したりすることを特徴とする請求項1又は2記載のシリコンブロックの面取加工方法。
  4. シリコンブロックの角縁部をR面に面取加工する装置であって、シリコンブロックを保持して連続回転させる保持回転部と、該シリコンブロックの角縁部を研削又は研磨加工して面取加工を行う無端帯状の加工帯体をシリコンブロックの回転軸線に直交する方向に循回移送させると共に該シリコンブロックの角縁部の長手方向と加工帯体の幅方向とが同方向となるように配置された加工ヘッド部と、該加工帯体を該シリコンブロックの角縁部に圧接させる圧接機構部と、該保持回転部又は該加工ヘッド部を該シリコンブロックの回転軸線方向に移動させる移動機構部とを備えてなることを特徴とするシリコンブロックの面取加工装置。
  5. シリコンブロックの角縁部をC面に面取加工する装置であって、シリコンブロックを保持して割出回転停止させる保持回転部と、該シリコンブロックの角縁部を研削又は研磨加工して面取加工を行う無端帯状の加工帯体をシリコンブロックの回転軸線に直交する方向に循回移送させると共に該シリコンブロックの角縁部の長手方向に直交する方向と加工帯体の幅方向とが同方向となるように配置された加工ヘッド部と、該加工帯体を該シリコンブロックの角縁部に圧接させる圧接機構部と、該保持回転部又は該加工ヘッド部を該シリコンブロックの回転軸線方向に移動させる移動機構部とを備えてなることを特徴とするシリコンブロックの面取加工装置。
  6. 上記シリコンブロックの角縁部をR面に面取加工する場合、又は、該シリコンブロックの角縁部をC面に面取加工する場合において、上記加工ヘッド部を該シリコンブロックの回転軸線に直交する方向に対して選択的に90度切替旋回させる切替旋回機構部を設けてなることを特徴とする請求項4又は5記載のシリコンブロックの面取加工装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103831705A (zh) * 2012-11-27 2014-06-04 日本微涂料株式会社 通过研磨带研磨玻璃板等工件的周缘部的研磨装置及方法
CN115157070A (zh) * 2022-08-26 2022-10-11 深圳市誉辰智能装备股份有限公司 方壳电池表面打磨清洁机
CN116000753A (zh) * 2023-02-22 2023-04-25 南京三芯半导体设备制造有限公司 一种提高长方形硅棒加工效率的方法及装置

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58169324A (ja) * 1982-03-30 1983-10-05 Sanshin Shoko:Kk フレキシブルディスクヘッドの自動面取加工方法及びその装置
JPS62190731A (ja) * 1986-01-07 1987-08-20 シーメンス ソーラー インダストリーズ,エル.ピー. 半導体材料のウエ−ハを製造する方法
JPH04294971A (ja) * 1991-03-20 1992-10-19 Amitec Kk 面取り用研削装置
JPH05318304A (ja) * 1991-03-29 1993-12-03 Sanshin:Kk ワークの自動面取加工方法及びその装置
JPH09225510A (ja) * 1996-02-16 1997-09-02 Kawasaki Steel Corp ステンレス冷延用圧延ロールの研磨方法
JP2003136388A (ja) * 2001-11-05 2003-05-14 Shigeru Co Ltd 流しの天板とシンクとの溶接接合部の研磨方法
JP2009233794A (ja) * 2008-03-27 2009-10-15 Jcm:Kk シリコンブロックの研削研磨機及びシリコンウエハの加工方法
JP2011077413A (ja) * 2009-09-30 2011-04-14 Noritake Co Ltd シリコンウェハーの製造方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58169324A (ja) * 1982-03-30 1983-10-05 Sanshin Shoko:Kk フレキシブルディスクヘッドの自動面取加工方法及びその装置
JPS62190731A (ja) * 1986-01-07 1987-08-20 シーメンス ソーラー インダストリーズ,エル.ピー. 半導体材料のウエ−ハを製造する方法
JPH04294971A (ja) * 1991-03-20 1992-10-19 Amitec Kk 面取り用研削装置
JPH05318304A (ja) * 1991-03-29 1993-12-03 Sanshin:Kk ワークの自動面取加工方法及びその装置
JPH09225510A (ja) * 1996-02-16 1997-09-02 Kawasaki Steel Corp ステンレス冷延用圧延ロールの研磨方法
JP2003136388A (ja) * 2001-11-05 2003-05-14 Shigeru Co Ltd 流しの天板とシンクとの溶接接合部の研磨方法
JP2009233794A (ja) * 2008-03-27 2009-10-15 Jcm:Kk シリコンブロックの研削研磨機及びシリコンウエハの加工方法
JP2011077413A (ja) * 2009-09-30 2011-04-14 Noritake Co Ltd シリコンウェハーの製造方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103831705A (zh) * 2012-11-27 2014-06-04 日本微涂料株式会社 通过研磨带研磨玻璃板等工件的周缘部的研磨装置及方法
KR20140067886A (ko) * 2012-11-27 2014-06-05 니혼 미크로 코팅 가부시끼 가이샤 판유리 등 워크의 주연부를 연마 테이프에 의해 연마하는 연마 장치 및 연마 방법
JP2014104526A (ja) * 2012-11-27 2014-06-09 Mipox Corp 板ガラス等ワークの周縁部を研磨テープにより研磨する研磨装置及び研磨方法
KR102059203B1 (ko) * 2012-11-27 2019-12-24 니혼 미크로 코팅 가부시끼 가이샤 판유리 등 워크의 주연부를 연마 테이프에 의해 연마하는 연마 장치 및 연마 방법
CN115157070A (zh) * 2022-08-26 2022-10-11 深圳市誉辰智能装备股份有限公司 方壳电池表面打磨清洁机
CN116000753A (zh) * 2023-02-22 2023-04-25 南京三芯半导体设备制造有限公司 一种提高长方形硅棒加工效率的方法及装置
CN116000753B (zh) * 2023-02-22 2023-11-10 南京三芯半导体设备制造有限公司 一种提高长方形硅棒加工效率的方法及装置

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