JP2011512247A - 選択的水素化触媒およびその調製方法 - Google Patents

選択的水素化触媒およびその調製方法 Download PDF

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Abstract

本発明は、ニッケルを酸化アルミニウム担体上に含む触媒に関する。酸化アルミニウム担体は、焼成された状態で、X線回折法によって得られるディフラクトグラムであって、格子面間隔および相対強度(I)に対応するラインを含むものを有する。

Description

選択的水素化方法は、オイルカットからの多価不飽和化合物を変換することができるが、これは、最も不飽和な化合物を対応するアルケンに転化することによるものであり、これにより、完全飽和、したがって、対応するアルカンの形成を避けることができる。
本発明の目的は、炭化水素留分、好ましくは、水蒸気分解または接触分解からの留分中に存在する不飽和炭化水素化合物の選択的水素化法に適用される、性能が改善された触媒を提案することである。
本明細書において以下、化学元素の族は、CAS分類(CRC Handbook of Chemistry and Physics, publisher: CRC Press, Editor in chief D R Lide, 81st edition, 2000-2001)に従って与えられる。例として、CAS分類における第VIII族は、新IUPAC分類の第8、9および10列の金属に対応する。
選択的水素化触媒は、通常、周期表の第VIII族からの金属、好ましくは、パラジウムまたはニッケルをベースとしている。金属は、担体上に沈着させられた小さな金属粒子の形態にあり、この担体は、ビーズ、押出物、三葉体の形態の、またはその他の表面形状(geometry)を有する形態の耐火性酸化物であり得る。担体における、金属含量、第2の金属元素の任意選択の存在、金属粒子サイズおよび活性相の分布は、触媒の活性および選択性に関係性を有する判定基準の一部である。
本発明は、ニッケルをベースとする従来技術の触媒と比較して、物理化学的および触媒的性能が改善された、ニッケルをベースとする触媒を得ることを目的とする。
本発明の触媒は、ニッケルをアルミナ担体上に沈着させられて含み、前記アルミナ担体は、特定の結晶学的構造、従って、X線回析法によって得られる特定のディフラクトグラム(diffractogram)を有する。担体のこの特定の特性は、触媒的性能の改善の基点にある。
従来技術の特許および特許出願には、少なくとも1種の貴金属と、アルミナをベースとする担体または酸化アルミニウム型触媒担体とを含む選択的水素化触媒であって、特定のX線ディフラクトグラムを有するものが開示されている。引用され得る特定の例として、特許文献1〜3がある。しかし、従来技術の担体または触媒について得られるそれらのディフラクトグラムは、所与の格子面間隔について得られるピークの存在および/または非存在および/または強度において本発明のものとは異なる
欧州特許出願公開第0576828号明細書(EP-A-0576828) 国際公開第06/125832号パンフレット 米国特許第6437206号明細書
(発明の要約)
本発明は、ニッケルを酸化アルミニウム担体上に含む触媒に関する。酸化アルミニウム担体は、焼成された状態で、以下の格子面間隔および相対強度に対応するピークを含む、X線回析法(X ray diffractometry:XRD)によって得られるディフラクトグラムを有する:
Figure 2011512247
(発明の詳細な説明)
本発明は、従来技術のニッケルベースの触媒と比較して、物理化学的特性および触媒的性能が改善されたニッケルベースの触媒の製造を想定する。より正確には、本発明は、アルミナ担体を調製する方法ならびに前記アルミナ担体上の触媒の調製および前記触媒の触媒的性能の改善をもたらす前記触媒を使用する選択的水素化法を提案する。
本発明は、ニッケルをアルミナ担体上に含む触媒に関する。アルミナ担体は、焼成された状態で、以下の格子面間隔および相対強度に対応するピークを含む、X線回析法によって得られるディフラクトグラムを有する:
Figure 2011512247
1%以上の相対強度を有するピークのみが考慮される。
本明細書を通じて、格子面間隔は、±0.01×10−10mの精度で与えられる。
好ましい態様では、アルミナ担体は、その焼成された状態で、以下の格子面間隔および相対強度に対応するピークのみを含むディフラクトグラムを有する:
Figure 2011512247
ディフラクトグラムは、本発明の触媒担体の特定の構造の特徴である。アルミナ担体は、ディフラクトグラムが上記のままである限り、不純物および添加物を含んでもよい。一例として、担体は、無機酸化物、例えば、CAS分類の第IIA、第IIIB、第IVB、第IIB、第IIIAまたは第IVA族からの金属の酸化物、好ましくは、シリカ、二酸化チタン、ジルコニア、酸化亜鉛、酸化マグネシウムまたは酸化カルシウムを含み得る。
IIA、IIIB、IVB、IIB、IIA、IVAの列のカチオンの量は、好ましくは0.01〜30重量%の範囲、より好ましくは0.01〜10重量%の範囲、非常に好ましくは0.03〜1.5重量%の範囲である。第IB族からの金属の量は、それが触媒中に存在するならば、担体に対する重量で1〜10000ppmの範囲であり得る。
担体中のアルミナ以外の酸化物の最大量は、存在する酸化物に応じて変わる。それはディフラクトグラムによって決定され得る。ディフラクトグラムの変化は、構造の変化と関連しているからである。通常、このような酸化物の量は、担体の質量に対して、50重量%未満、好ましくは、30重量%、より好ましくは、15重量%未満である。
本発明に従って、多孔性担体は、有利には、ビーズ、三葉体、押出物、ペレットまたは不規則かつ非球形の集塊の形態であって、特定の形態が破砕ステップの結果であり得るものである。非常に有利には、前記担体は、ビーズまたは押出物の形態である。より有利には、前記担体は、ビーズの形態であることがより有利である。
担体の細孔容積は、通常0.1〜1.5cm/gの範囲、好ましくは0.5〜1cm/gの範囲である。
多孔性担体の比表面積は、30〜130m/gの範囲であり、好ましくは50〜100m/gの範囲、より好ましくは60〜80m/gの範囲である。
触媒中のニッケルの量は、通常1〜50重量%の範囲、好ましくは5〜30重量%の範囲である。
したがって、担体の特徴的ピークに加え、酸化物の形態の触媒のディフラクトグラムは、ニッケルの特徴的ピークを酸化物の形態または他の化合物(硝酸ニッケル、塩素酸ニッケル、ギ酸ニッケル)と組み合わせてそれが存在する形態で有する。当業者は、上記の化合物の各々について、これらのピークの位置を見出すためにICDD(International Centre for Diffraction Data)のテーブルを参照するだろう。一例として、酸化ニッケル(NiO)のピークの位置は、テーブル00-047-1049または01-071-1179中に報告されている。それらは以下のように、d(10−10m):2.41、2.09、1.48、1.25、1.21、1.04、0.96、0.93、0.85および0.80として報告されている。硝酸ニッケル化合物Ni(N0(OH)・xH0(xは2〜8の範囲であり、yは0〜4の範囲である)のピークの位置、ギ酸ニッケル化合物Ni(CH0)・xH0(xは0〜2の範囲である)のピークの位置は、適当なICDDテーブル中に与えられている。
触媒はまた、空気中でパッシベーションがなされた還元型で存在し得る。この場合、触媒のディフラクトグラムは、上記に列挙されたピークに加えて、還元型のニッケルの特徴的なピークを提示し得る。ニッケル(Ni)ピークの位置は、例えば、テーブル00-004-0850中に報告されている。それらは、d(10−10m)で以下の通りである:2.03、1.76、1.25、1.06、1.02、0.88、0.81および0.79。
触媒は、当業者に公知である方法に従って、特に、例えば、特許EP-0 466 567(Bl)、US-5 153 163、FR-2 676 184、WO-2004/098774のうち1つに記載される方法の1つに従って、硫黄含有化合物によりパッシベーションがなされた形態であり得る。
この場合、触媒のX線ディフラクトグラムは、上記に列挙されたピークに加え、硫化物の形のニッケルの特徴的なピークも含み得る。硫化ニッケル(Ni)化合物(xは1〜9の範囲であり、yは1〜8の範囲である)のピークの位置は、適当なICDDテーブル中に与えられている。
(担体の調製)
本発明の担体の第1のバリエーションによると、ビーズの形態でアルミナ集塊が存在する。この第1のバリエーションでは、担体の調製は、以下の工程を含む:
s1)水酸化アルミニウムまたはオキシ水酸化アルミニウム、好ましくは、ハイドラルジライト(hydrargillite)をフラッシュ焼成することによって脱水して、活性アルミナ粉末を得る工程;
フラッシュ焼成処理は、激しくかつ急速な加熱であり、これは、ホットガス流によって水酸化アルミニウム(ハイドラルジライト、ギブサイトまたはバイヤライト)またはオキシ水酸化アルミニウム(ベーマイトまたはダイアスポア)の激しい脱水をもたらし、蒸発した水は除去されかつ極めて急速に同伴される。温度は、400〜1200℃の範囲、好ましくは600〜900℃の範囲であり、期間は、1秒未満〜5秒の範囲、好ましくは0.1〜4秒の範囲である。好ましい出発化合物は、ハイドラルジライトである。経験から、この化合物は、所望の特性を有する最終産物を得るのに最も好都合であることがわかっている。さらに、それは比較的安価である。
通常、水酸化アルミニウムまたはオキシ水酸化アルミニウムの脱水後に得られる活性アルミナ粉末は粉砕される。
通常、水酸化アルミニウムまたはオキシ水酸化アルミニウムの脱水後に得られる活性アルミナ粉末は、水または酸性水溶液により洗浄される;
s2)前記活性アルミナ粉末を成形して、500〜1100kg/mの範囲、好ましくは700〜950kg/mの間に含まれる未処理充填密度(billes d’une densite de remplissage, green packing density)を有し、主として0.8〜10mmの範囲、好ましくは、1〜5mmの範囲の径を有するビーズを得る工程;
造粒と呼ばれる、前記活性アルミナ粉末を形成してビーズを得ることは、通常、ロータリー式造粒機または回転ドラムなどの回転技術を使用して実施される。このような方法は、径および細孔分布が制御されたビーズを製造することができ、前記寸法および前記分布は、通常、凝集工程の間に生じさせられる。多孔度は、種々の手段によって、例えば、アルミナ粉末のグラニュロメトリを選択することまたは種々のグラニュロメトリを有する複数種のアルミナ粉末の凝集によって生じさせられ得る。アルミナ粉末または異なる尤度分布を有するいくつかのアルミナ粉末の凝集の粒度分析を選択することによってなど、種々の手段によって生じさせられ得る。別の方法は、凝集工程の前またはその最中に、ポロゲン(porogen)と呼ばれる1種以上の化合物を、アルミナ粉末と混合することからなり、ポロゲンは、加熱時に消失し、その結果、ビーズ中に細孔が生じる。挙げられてよいポロゲン性(porogenic)化合物の例として、木粉、木炭、硫黄、タール、プラスチック材料または塩化ポリビニル、ポリビニルアルコール、ナフタレンなどといったプラスチック材料のエマルジョンがある。加えられるポロゲン性化合物の量は、所望の容積によって決定される。
前記アルミナ粉末の成形の際に、通常、加熱時に消失する1種以上のポロゲン性材料がそれに加えられる。前記ポロゲン性物質は、木粉、木炭、硫黄、タール、プラスチック材料ならびにプラスチック材料、ポリビニルアルコールおよびナフタレンのエマルジョンによって構成される群から選択される;
s3)前記ビーズを200〜1200℃の範囲、好ましくは400〜900℃の範囲の温度で熱処理して、50〜420m/gの範囲の比表面積を生じさせる工程;
s4)前記ビーズに水または水溶液(好ましくは酸性)を含浸させ、次いで、前記ビーズを100〜300℃の範囲、好ましくは、150〜250℃の範囲でオートクレーブ中に置くことによる、前記ビーズの水熱処理、;
水熱処理は、通常、100〜300℃、好ましくは150〜250℃の温度で、45分超、好ましくは1〜24時間、より好ましくは1.5〜12時間の期間にわたって実施される。水熱処理は、通常、1種以上の無機および/または有機酸、好ましくは、硝酸、塩酸、過塩素酸、硫酸、または溶液中のpHが4未満である弱酸、例えば、酢酸またはギ酸を含む酸性水溶液を使用して実施される。通常、前記酸性水溶液はまた、アルミニウムイオンと結合することができる陰イオンを遊離させ得る1種以上の化合物、好ましくは、ニトラート(例えば、硝酸アルミニウム)、クロリド、スルファート、パークロラート、クロロアセタート、トリクロロアセタート、ブロモアセタート、ジブロモアセタートイオンおよび一般式R−COOを有する陰イオン、例えば、ホルマートまたはアセタートを含む化合物を含む;
s5)850〜1100℃の範囲、好ましくは875〜1075℃の範囲の温度で、得られた集塊を焼成する工程。
この焼成処理は、通常、30〜130m/gの範囲の担体の比表面積を得るために、および所望のX線ディフラクトグラムを得るために実施される。
本発明の担体の第2のバリエーションによると、アルミナ集塊は、押出物材料の形態である。この第2のバリエーションでは、担体は、以下の工程を含む:
s1)アルミナベースの材料を混合し、押出して、成形する工程;
通常、前記アルミナベースの材料は、無水ハイドラルジライトである。アルミナベースの材料はまた、通常、ベーマイト、擬ベーマイトもしくはバイヤライトまたは前記材料の混合物の沈殿から引き出され得る。
前記アルミナベースの物質を成形する場合、通常、加熱時に消失する1種以上のポロゲン材料が加えられる。前記ポロゲン材料は、木粉、木炭、硫黄、タール、プラスチック材料またはプラスチック材料、ポリビニルアルコールおよびナフタレンのエマルジョンによって構成される群から選択される;
s2)得られた押出材料を200〜1200℃の範囲の温度で熱処理して、それらに、50〜420m/gの範囲の比表面積を提供する工程;
s3)前記押出材料に水または水溶液(好ましくは、酸性)を含浸させ、次いで、それらを100〜300℃の範囲、好ましくは、150〜250℃の範囲でオートクレーブ中に置くことによる前記押出材料の水熱処理工程;
水熱処理は、通常、100〜300℃、好ましくは150〜250℃の温度で、45分超、好ましくは1〜24時間、より好ましくは1.5〜12時間の期間にわたって実施される。水熱処理は、通常、1種以上の無機および/または有機酸、好ましくは、硝酸、塩酸、過塩素酸、硫酸、または溶液中のpHが4未満である弱酸、例えば、酢酸またはギ酸を含む酸性水溶液を使用して実施される。通常、前記酸性水溶液はまた、アルミニウムイオンと結合することができる陰イオンを遊離させ得る1種以上の化合物、好ましくは、ニトラート(例えば、硝酸アルミニウム)、クロリド、スルファート、パークロラート、クロロアセタート、トリクロロアセタート、ブロモアセタート、ジブロモアセタートおよび一般式R−COOを有する陰イオン、例えば、ホルマートまたはアセタートを含む化合物を含む。
s4)850〜1100℃の範囲、好ましくは、875〜1075℃の範囲の温度で、得られた集塊を焼成する工程。
この焼成は、通常、30〜130m/gの範囲の担体の比表面積を得るためおよび所望のX線ディフラクトグラムを得るために実施される。
(触媒の調製)
触媒は、当業者に公知である任意の方法を使用して調製される。
(c1)ニッケルを含む溶液の調製)
ニッケル前駆体塩は、通常、塩化ニッケル、硝酸ニッケルおよび硫酸ニッケルによって構成される群から選択される。非常に好ましくは、ニッケル前駆体塩は、硝酸ニッケルである。溶液は、ニッケル前駆体を、0から使用される前駆体の限界溶解度の範囲の濃度で溶解させることによって調製される。濃度は、触媒中のニッケルの重量所望量に応じて調整される。
(C2)アルミナ担体への溶液の含浸)
アルミナ担体は、乾式含浸または過剰含浸を使用して、静的または動的様式で含浸させられてもよい。含浸は、1回以上の連続含浸工程において実施され得る。
(C3)触媒の乾燥)
含浸済みの触媒は、通常、乾燥させられて、含浸の間に取り込まれた水のすべてまたは一部が排除されるが、その際の温度は、好ましくは50〜250℃の範囲、より好ましくは70〜200℃の範囲である。乾燥処理は、空気中で、または不活性雰囲気(例えば、窒素)中で実施される。
(C4)触媒の焼成)
次いで、触媒は、一般に、空気中で焼成される。焼成温度は、通常250〜900℃の範囲、好ましくは約300〜500℃の範囲である。焼成期間は、通常、0.5〜5時間の範囲である。
(C5)前記工程で得られた触媒の還元による活性化(任意選択の工程))
工程C3)またはC4)の最後に得られた触媒は、通常、還元される。この工程は、好ましくは、還元ガスの存在下、好ましくは現場(in situ)ガス状水素によって、すなわち、接触変換(catalytic transformation)が行われる反応器において行われる。この工程は、好ましくは100〜600℃の範囲、より好ましくは200〜500℃の範囲の温度で行われる。
(C5’)パッシベーション−活性化(任意選択の工程))
バリエーションにおいて、ニッケル触媒は、工程C3)またはC4)の後に、硫黄および当業者に公知である任意の方法を使用してパッシベーションがなされる。一例として、ニッケルベースの触媒は、EP-0 466 567(B1)、US-5 153 163およびFR-2 676 184において記載された方法の1つを用いて現場外(ex situ)で活性化させられ得る。触媒は、その後、一般的には、還元されるが、それは、ガス状水素中、好ましくは100〜400℃の範囲、より好ましくは150〜350℃の範囲の温度で行われる。
US-5 153 163に記載されたバリエーションでは、ニッケル触媒は、工程C3)またはC4)の最後に硫黄を用いてパッシベートされる。含浸させられるべき触媒の細孔容積に対応する、ジエタノールジスルフィド(di-ethanol di-sulphide:DEODS)およびギ酸を含有する所定容積の水溶液は調製され得る。導入される硫黄の量は、通常、ニッケルのモルあたり平均0.25〜0.35、好ましくは、0.3モルの硫黄をニッケル粒子の表面に導入するように調整される。この溶液は、次いで、得られた触媒に含浸させられる。次いで、触媒は、通常、100〜250℃の範囲の温度で、0.5〜1.5時間の範囲の期間にわたって熱処理を受ける。
別の触媒調製のバリエーションでは、触媒は、複数の含浸工程を使用して調製される。
2回の含浸工程で調製される触媒のために、以下の一連が使用され得る:
− 含浸1−乾燥−含浸2−乾燥−焼成;
− 含浸1−乾燥−焼成−含浸2−乾燥−焼成。
本発明はまた、本発明に記載される触媒調製法から得られる触媒に関する。
(担体の特徴付け)
種々の担体のダイアグラムは、Bragg-Brentano幾何学型の回析計(PANalytical製のX'PERT'Pro)により記録された。この回折計は、銅管(1.54Å)と、比例計数管と、2θに応じて開口部が変化させられ得るスリットとを備えている。照射されるサンプルの表面積は、10×10mmであり、サンプリング間隔は、0.05°2θであり、間隔あたりの時間は、5〜15秒であった。
記録の後、強度が修正され、一定の照射容積での強度に変換された。
回析ピークの位置、相対強度および幅の測定値は、ディフラクトグラムの完全モデリングによって、擬似ヴォイト(pseudo-Voigt)型対称分析関数を用い、ガウス−ローレンツ比を0.6に固定して決定された。
機能(function)の位置、強度および幅は、算出されたプロファイルを実験ピークへ調整するようアフィン変換された。
算出されたピークについてのアフィン変換されたパラメータは、以下の実験ピークを認定した:
・位置(格子面間隔)
・強度
・FWHM(full width at half the maximum:半値全幅)
線形拡散バックグラウンドが、ピークプロファイルと同時にラインアップされた。実験的ダイアグラムのアファイン変換(affinement)の品質にとって極めて重要であるが、明確には定義されていない、特定の極めて幅の広い低強度ピークは、拡散バックグラウンドに対する補完であると考えられた。
本明細書において報告された相対強度は、拡散バックグラウンドを上回る最も強いピーク(d=1.39Å)の高さの割合(%)として表される。
ピークの幅は、各実験ピークについて算出されたプロファイルのFWHM(半値全幅)を使用して認定された(細い(F)、正常(N)、広い(W)、極めて広い(VW))。2θとして表される幅は、分析に使用される装置および分析に使用される波長に応じて変わる。対照的に、これらの値から推定されるピークの認定(細い(F)、正常(N)、広い(W)、極めて広い(VW))は、使用される装置の種類および分析条件に拘わらず有効である。互いに対する、それらの半値全幅に対するピークの相対的分類は、使用される装置の種類および分析条件に拘わらず有効である。
ピーク幅の認定は、以下に与えられる。
Figure 2011512247
ニッケルを酸化アルミニウム担体上に含む本発明の触媒について、酸化アルミニウム担体は、通常、焼成状態で、X線回析法によって得られる、以下の格子面間隔、相対強度およびピーク幅に対応するピークを含むディフラクトグラムを有する。
Figure 2011512247
好ましい態様において、焼成された状態では、アルミナ担体は、以下の格子面間隔、相対強度およびピーク幅に対応するピークのみを含むディフラクトグラムを有する:
Figure 2011512247
さらに、1.99×10−10mおよび1.95×10−10mというそれぞれの格子面間隔での相対強度の比は、以下のようである:
(I/I1.99/(I/I1.95は、1.2〜3.8の範囲、好ましくは1.5〜2.5の範囲である。
(本発明の触媒の使用)
本発明の触媒は、有機化合物の変換を含む方法において使用され得る。したがって、本発明の触媒は、芳香族化合物、ケトン、アルデヒド、酸またはニトロ機能を含む化合物の水素化、一酸化炭素のC−Cアルコール、メタノールまたはジメチルエーテルへの水素化、異性化または水素化異性化反応、水素化分解反応を含む方法において、および炭素−炭素結合の切断または形成を含む一般反応において使用され得る。
これらの反応のために通常使用される操作条件は、以下のとおりである:温度:0〜500℃の範囲、好ましくは25〜350℃の範囲、圧力:0.1〜20MPaの範囲、好ましくは0.1〜10MPaの範囲、毎時空間速度(hourly space velocity:HSV):液体の供給原料について0.1〜50h−1の範囲、好ましくは0.5〜20h−1の範囲、ガス供給原料について500〜30000h−1、好ましくは500〜15000h−1の範囲。水素が存在する場合、水素対供給原料のモル比は、1〜500リットル/リットルの範囲、好ましくは、10〜150リットル/リットルの範囲である。
本発明の触媒の使用およびその使用の条件は、ユーザーによって、使用される反応および技術に適応させられなければならない。
本発明の触媒はまた、アセチレン、ジエンまたはオレフィン基を含む化合物の水素化反応において使用され得る。
本発明はまた、供給原料を、本発明の触媒または本発明に従って調製された触媒と接触させることによる選択的水素化法であって、前記供給原料は、C3水蒸気分解留分、C4水蒸気分解留分、C5水蒸気分解留分および熱分解ガソリンとも呼ばれる水蒸気分解ガソリンによって構成される群から選択される、方法に関する。
好ましい適用によると、本発明の触媒は、水蒸気分解および/または接触分解に由来する多価不飽和炭化水素留分、好ましくは、水蒸気分解に由来する多価不飽和炭化水素留分の選択的水素化のための反応のために使用される。
(C3−C5留分の水素化)
水蒸気分解または接触分解などの炭化水素転化法は、高温で操作され、さまざまな不飽和分子、例えば、エチレン、プロピレン、線状(linear)ブテン、イソブテン、ペンテンならびに最大約15個の炭素原子を含有する不飽和分子を生じさせる。
並行して、多価不飽和化合物もまた形成される:アセチレン、プロパジエンおよびメチルアセチレン(またはプロピン)、1−2および1−3ブタジエン、ビニルアセチレンおよびエチルアセチレンおよびC5+ガソリンフラクションに対応する沸点を有する他の多価不飽和化合物。
これらの種々の留分が重合装置などの石油化学法において使用されることを可能とするために、これらの多価不飽和化合物のすべてが排除されなければならない。
したがって、例えば、C3水蒸気分解留分は、以下の平均組成:90重量%程度のプロピレン、3〜8重量%の程度のプロパジエンおよびメチルアセチレンを有し、残りは、本質的にプロパンであり得る。特定のC3留分では、0.1〜2重量%のC2およびC4も存在し得る。石油化学製品および重合装置のためのこれらの多価不飽和化合物の濃度に関する規格は極めて低い:化学的品質のプロピレンのために20〜30重量ppmのメチルアセチレンおよびプロパジエン(MAPD)および「重合」品質のために10重量ppm未満、さらには1重量ppmにまで低下させられる。
C4水蒸気分解留分は、例えば、以下の平均モル組成を有する:1%のブタン、46.5%のブテン、51%のブタジエン、1.3%のビニルアセチレン(vinylacetylene:VAC)および0.2%のブチン。特定のC4留分では、0.1〜2重量%のC3およびC5も存在し得る。これでもやはり、規格は厳密である:石油化学製品または重合において使用されることになるC4留分について、ジオレフィン含量は、厳密に10重量ppm未満である。
C5水蒸気分解留分は、例えば、以下の平均重量組成を有する:21%のペンタン、45%のペンテン、34%のペンタジエン。
選択的水素化法は、言及されるC3−C5オイルカットからの多価不飽和化合物を排除するよう徐々に課される。この方法は、ほとんどの不飽和化合物を、対応するアルケンに転化し、完全飽和、ひいては、対応するアルカンの形成を避けることができるからである。
選択的水素化は、気相または液相中で、好ましくは、液相中で実施され得る。実際、液相反応は、エネルギー費を低減させ、触媒のサイクル時間を増大させ得る。
液相反応のために、圧力は、通常、1〜3MPaの範囲であり、温度は、2〜50℃の範囲であり、水素/(水素化されるべき多価不飽和化合物)モル比は、0.1〜4の範囲、好ましくは、1〜2の範囲である。
気相水素化反応のために、圧力は、通常1〜3MPaの範囲であり、温度は、40〜120℃の範囲であり、水素/(水素化されるべき多価不飽和化合物)モル比は、0.1〜4の範囲、好ましくは1〜2の範囲である。
(水蒸気分解ガソリンの水素化)
水蒸気分解によって、主に、エチレン、プロピレン、C4留分および熱分解ガソリンとしても知られる水蒸気分解ガソリンが生成する。
さらに好ましい態様によると、供給原料は熱分解ガソリンである。熱分解ガソリンは、通常0〜250℃の範囲、好ましくは10〜220℃の範囲である沸点を有する留分に対応する。この供給原料は、通常、C5〜C12留分を痕跡量のC3、C4、C13、14、C15とともに含む(例えば、これらの留分の各々について0.1〜3重量%の範囲)。
一例として、C5−200℃留分は、通常、以下の組成を有する:
パラフィン:8〜12重量%
芳香族化合物:58〜62重量%
モノオレフィン:8〜10重量%
ジオレフィン:18〜22重量%
硫黄20〜300重量ppm
熱分解ガソリンの選択的水素化は、処理されるべき供給原料を、水素化触媒を含有する1以上の反応器中に過剰に導入された水素と接触させることからなる。
水素流量は、ジオレフィン、アセチレンおよびアルケニル芳香族化合物のすべての理論的水素化のために十分な量を提供し、反応器出口で過剰の水素を維持するように調節される。反応器中の温度勾配を制限するために、流出物の一部を反応器の入口および/または中央に再循環させることが有利であり得る。
熱分解ガソリンの選択的水素化の場合、水素/(水素化されるべき多価不飽和化合物)のモル比は、通常1〜2の範囲であり、温度は、通常40〜200℃の範囲、好ましくは50〜180℃の範囲であり、毎時空間速度(時間当たりかつ触媒の容積あたりの炭化水素の容積に相当する)は、通常0.5〜10h−1の範囲、好ましくは1〜5h−1の範囲であり、圧力は、通常1.0〜6.5MPaの範囲、好ましくは2.0〜3.5MPaの範囲である。
(実施例)
(実施例1:触媒A(本発明に合致する))
触媒Aの担体を、担体調製態様の第1のバリエーションを使用して調製した。ビーズの形態の触媒Aの担体を調製する工程は、以下の通りであった:
s1)ハイドラルジライトをフラッシュ焼成により脱水して、活性アルミナ粉末を得る工程。ホットガスの流れは、蒸発した水が極めて迅速に除去されかつ同伴されることを意味していた。温度は、800℃に固定され、ガスによって脱水されるべき材料の接触時間は1秒であった。得られた活性アルミナ粉末を粉砕し、次いで、水で洗浄した;
s2)前記活性アルミナ粉末を成形して、785kg/mの未処理充填密度および主に、2〜4mmの範囲である径を有するビーズを得る工程;
造粒と呼ばれる、前記活性アルミナ粉末を成形してビーズを得る工程は、ロータリー式ボウル造粒機を使用して実施された;
s3)前記ビーズを720℃で熱処理して、200m/gの比面積を生じさせる工程;
s4)酸性水溶液を含浸させることによって前記ビーズを水熱処理する工程。水熱処理は、ロータリーバスケット式オートクレーブ中、200℃の温度で6.5時間にわたって実施され、含浸溶液は、硝酸アルミニウムを含む酸性水溶液であった;
s5)得られた集塊を、950℃の温度で2時間にわたって焼成する工程。得られた集塊は、67m/gの比表面積を有していた。
調製された担体のXRD特徴は、以下の通りであった:
Figure 2011512247
硝酸ニッケルNi(NOの水溶液は、25℃で、49.5gの硝酸ニッケル六水和物を鉱質除去水中に、アルミナ担体の細孔容積に対応する容積まで希釈することによって調製された。次いで、この溶液を、100gの調製されたアルミナ担体に含浸させた。
得られた触媒Aを、空気中120℃で乾燥させ、次いで、空気中2時間にわたって450℃で焼成した。触媒Aは、10重量%のニッケルを含んでいた。
(実施例2:触媒B(本発明に合致しない))
触媒Bの担体を、担体調製態様の第1のバリエーションに従って調製した。担体を調製するための操作条件および方法は、実施例1において用いられたものと同一であったが、工程s5)の焼成は、650℃で2時間にわたって行われた。142m/gの比表面積を有する集塊が得られた。
調製された担体のXRD特徴は、以下の通りであった:
Figure 2011512247

硝酸ニッケルNi(NOの水溶液は、25℃で、75.4gの硝酸ニッケル六水和物を鉱質除去水中に調製されたアルミナ粉末の細孔容積に対応する容積まで希釈することによって調製された。次いで、この溶液を、100gの調製されたアルミナ担体に含浸させた。
得られた触媒Bを、空気中120℃で乾燥させ、次いで、空気中450℃で2時間にわたって焼成した。触媒Bは、15重量%のニッケルを含んでいた。
(実施例3:触媒C(本発明に合致する))
特許US-5 153 163に記載の通り、1.7gのジエタノールジスルフィド(diethanol disulphide:DEODS)および10.2gのギ酸を含む、含浸させられるべき触媒の細孔容積に対応する容積の水溶液が調製された。導入される硫黄の量は、ニッケル粒子の表面に、ニッケルのモルあたり平均0.3モルの硫黄を導入するように調整された。次いで、この溶液は、100gの触媒A中に含浸させられた。次いで、触媒を、150℃で1時間にわたって熱処理にかけた。そのようにして調製された触媒Cは、10重量%のNiおよび0.7重量%の硫黄を含んでいた。
(実施例5:触媒D(本発明に合致しない))
特許US-5 153 163に記載のとおり、3.6gのジエタノールジスルフィド(DEODS)および15.6gのギ酸を含む、含浸させられるべき触媒の細孔容積に対応する容積の水溶液が調製された。導入される硫黄の量は、ニッケル粒子の表面に、ニッケルのモルあたり平均0.3モルのSを導入するように調整された。次いで、この溶液は、100gの触媒B中に含浸させられた。次いで、触媒を、150℃で1時間にわたる熱処理にかけた。そのようにして調製された触媒Dは、15重量%のNiおよび1.4重量%の硫黄を含んでいた。
(実施例6:Sの存在下でのスチレン−イソプレン混合物の水素化についての触媒試験)
触媒試験に先立って、触媒AおよびBを、時間当たり、かつ、触媒の重量(グラム)あたり1リットルの水素流中、300℃/時間の昇温および16時間にわたる410℃の一定温度段階により処理した。
触媒試験に先立って、触媒CおよびDを、時間当たり、かつ、触媒の重量(グラム)あたり1リットルの水素流中、300℃/時間の昇温および16時間にわたる300℃の一定温度段階により処理した。
次いで、触媒を、完全に撹拌された「グリニャール」型バッチ反応器中で水素化試験にかけた。この最後に、4mlの還元された触媒ビーズを、撹拌アームの周囲に配置される環状バスケットに、空気の不在下で固定化した。反応器中に使用されたバスケットは、Robinson Mahoney型のものであった。
水素化は、液相中で実施された。
供給原料は、以下の組成を有していた:8重量%のスチレン、8重量%のイソプレン、10ppmのS(ペンタンチオールのかたちで導入される)、100ppmのS(チオフェンのかたちで導入される);溶媒はn−ヘプタンであった。
試験を、3.5MPaの一定の水素圧力および60℃の温度で実施した。反応生成物は、ガスクロマトグラフィーによって分析された。
触媒活性は、ニッケルの重量(グラム)あたり、かつ1分あたりに消費されるHのモルで表されており、表1に示されている。
Figure 2011512247
本発明に合致する触媒AおよびCは、本発明に合致しない触媒BおよびDよりも約1.5〜2倍活性である。

Claims (19)

  1. ニッケルを酸化アルミニウム担体上に含む触媒であって、前記酸化アルミニウム担体は、焼成された状態で、以下の格子面間隔dおよび相対強度I/Iに対応するピークを含む、X線回析法によって得られるディフラクトグラムを有する触媒。
    Figure 2011512247
  2. 酸化アルミニウム担体は、焼成された状態で、以下の格子面間隔および相対強度に対応する以下のピークのみを含むディフラクトグラムを有する、請求項1に記載の触媒。
    Figure 2011512247
  3. 酸化アルミニウム担体は、焼成された状態で、以下の格子面間隔、相対強度およびピーク幅に対応するピークを含むディフラクトグラムを有する、請求項1に記載の触媒。
    Figure 2011512247
  4. 酸化アルミニウム担体は、焼成された状態で、以下の格子面間隔、相対強度およびピーク幅に対応するピークのみを含むディフラクトグラムを有する、請求項2に記載の触媒。
    Figure 2011512247
  5. 触媒中のニッケルの量は、1〜50重量%の範囲であり、担体の比表面積は、30〜130m/gの範囲である、請求項1〜4のいずれか1つに記載の触媒。
  6. 担体の特徴的ピークに加えて、酸化物の形態の触媒のディフラクトグラムは、酸化物の形態のニッケルの特徴的ピークを、以下の格子面間隔d(10−10mで表される):2.41、2.09、1.48、1.25、1.21、1.04、0.96、0.93、0.85、0.80に含む、請求項1〜5のいずれか1つに記載の触媒。
  7. 担体の特徴的ピークに加えて、空気中でパッシベーションがなされた還元型の触媒のディフラクトグラムは、還元型ニッケルの特徴的ピークを、以下の格子面間隔d(10−10m):2.03、1.76、1.25、1.06、1.02、0.88、0.81、0.79に含む、請求項1〜5のいずれか1つに記載の触媒。
  8. 1.99×10−10mおよび1.95×10−10mの各格子面間隔での相対強度の比が、(I/I1.99/(I/I1.95が1.2〜3.8の範囲であるようにされる、請求項1〜7のいずれか1つに記載の触媒。
  9. 請求項1〜8のいずれか1つに記載の触媒担体を調製する方法であって、
    担体はビーズの形態のアルミナの集塊であり、
    s1)水酸化アルミニウムまたはオキシ水酸化アルミニウムをフラッシュ焼成することにより脱水して、活性アルミナ粉末を得る工程であって、前記フラッシュ焼成は、400〜1200℃の範囲の温度の熱ガス流を使用して、0.1〜5秒の範囲の期間にわたって加熱することである、工程と、
    s2)前記活性アルミナ粉末を成形して、500〜1100kg/mの範囲の未処理充填密度を有し、主として、0.8〜10mmの範囲の径を有するビーズを得る工程と、
    s3)200〜1200℃の範囲の温度で前記ビーズを熱処理して、それらに50〜420m/gの範囲の比表面積を提供する工程と、
    s4)前記ビーズを水熱処理する工程であって、水または水溶液を含浸させ、次いで、それらをオートクレーブ中に、100〜300℃の範囲の温度で45分超の期間にわたって置くことによる、工程と、
    s5)850〜1100℃の範囲の温度で、得られた集塊を焼成する工程と
    を含む、方法。
  10. 水酸化アルミニウムまたはオキシ水酸化アルミニウムの脱水後に得られた活性アルミナ粉末を粉砕する、請求項9に記載の担体を調製する方法。
  11. 水酸化アルミニウムまたはオキシ水酸化アルミニウムの脱水後に得られた活性アルミナ粉末を、水または酸性水溶液で洗浄する、請求項9または10に記載の担体を調製する方法。
  12. 請求項1〜8に記載の触媒担体を調製する方法であって、担体は押出物材料の形態のアルミナの集塊であり、
    sl)アルミナベースの材料を混合し、押出して、これを成形する工程と、
    s2)得られた押出材料を200〜1200℃の範囲の温度で熱処理して、それらに、50〜420m/gの範囲の比表面積を提供する工程と、
    s3)前記押出物材料を水熱処理する工程であって、水または水溶液を含浸させ、次いで、それらをオートクレーブ中に100〜300℃の範囲の温度で45分超の期間にわたって置くことによる、工程と、
    s4)850〜1100℃の範囲の温度で、得られた集塊を焼成する工程と
    を含む方法。
  13. 前記アルミナベースの材料は、無水ハイドラルジライトである、請求項12に記載の担体を調製する方法。
  14. 前記アルミナベースの材料は、ベーマイト、擬ベーマイトもしくはバイヤライトまたは前記材料の混合物の沈殿に由来する、請求項12に記載の担体を調製する方法。
  15. 前記アルミナ粉末または前記のアルミナベースの材料を成形する際に、1種以上のプロゲン性材料をそこに加える、請求項9〜14のいずれか1つに記載の担体を調製する方法。
  16. 前記プロゲン性材料は、木粉、木炭、硫黄、タール、プラスチック材料またはプラスチック材料、ポリビニルアルコールおよびナフタレンのエマルジョンによって構成される群から選択される、請求項15に記載の担体を調製する方法。
  17. 水熱処理を、1種以上の無機および/または有機酸を含む酸性水溶液を使用して実施する、請求項9〜16のいずれか1つに記載の担体を調製する方法。
  18. 水熱処理を、硝酸、塩酸、過塩素酸、硫酸、酢酸またはギ酸によって構成される群から選択される1種以上の酸を含む酸性水溶液を使用して実施する、請求項17に記載の担体を調製する方法。
  19. 選択的水素化法であって、請求項1〜9のいずれか1つに記載の触媒を、C3水蒸気分解留分、C4水蒸気分解留分、C5水蒸気分解留分および水蒸気分解ガソリンによって構成される群から選択される供給原料と接触させる方法。
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