JP2011511428A - 電子ソースの性能を正規化するための方法および装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】質量スペクトロメータを作動させるための方法は、第1電子放出器を用いて質量スペクトロメータを作動させながら、第1性能特性を決定するステップと、第1性能特性に関連する第1情報を記憶するステップと、第2電子放出器を用いて質量スペクトロメータを作動させながら、第2性能特性を決定するステップと、第2性能特性に関連する第2情報を記憶するステップと、その後、第1電子放出器を使用する作動から、第2電子放出器を使用する作動へ切り換えるステップとを備え、この切り換えるステップは、切り換え前の第1電子放出器の性能に対して切り換え後の第2電子放出器の性能を正規化するよう、第1情報および前記第2情報を使用することを含む。
【選択図】図2
Description
前記イオン容積部へ、各々が電子を選択的に供給できる第1電子放出器および第2電子放出器と、コントローラとを含む質量スペクトロメータを備え、前記コントローラは、第1電子放出器を用いて質量スペクトロメータを作動させながら、第1性能特性を決定し、第1性能特性に関連する第1情報を記憶し、第2電子放出器を用いて質量スペクトロメータを作動させながら、第2性能特性を決定し、第2性能特性に関連する第2情報を記憶し、その後、第1電子放出器を使用する作動から、第2電子放出器を使用する作動へ切り換えるようになっており、この切り換えは、切り換え前の第1電子放出器の性能に対して切り換え後の第2電子放出器の性能を正規化するよう、第1情報および第2情報を使用することを含む、装置に関する。
12 イオンソース
14 質量分析器
16 ガスクロマトグラフ
18 試薬ガスソース
20 真空ソース
22 制御システム
24 検出器
26 ガスクロマトグラフカラム
28 デジタル信号プロセッサ
29 メモリ
30,32 出力
34 ライン
36 ハウジング
38 イオン容積部
39,40 開口部
4 ガス供給導管
42 バルブ
43 出力
44 ガス入口ポート
46 電子ソース
47 フィラメントアセンブリ
48,49 フィラメント
50 仮想線
51 ターゲットロケーション
52 フィラメント電源
54,55 出力
56 電子ゲート
57 出力
58 電子レンズ
59 出力
60 電子放出センサ
62 ライン
64 磁界発生器
66 出力
68 レンズ要素
70 出力
71 制御ライン
72 イオン移動パス
Claims (22)
- 第1電子放出器および第2電子放出器を有する質量スペクトロメータを作動させるための方法であって、
前記第1電子放出器を用いて前記質量スペクトロメータを作動させながら、第1性能特性を決定するステップと、
前記第1性能特性に関連する第1情報を記憶するステップと、
前記第2電子放出器を用いて前記質量スペクトロメータを作動させながら、第2性能特性を決定するステップと、
前記第2性能特性に関連する第2情報を記憶するステップと、
その後、前記第1電子放出器を使用する作動から、前記第2電子放出器を使用する作動へ切り換えるステップと、を備え、この切り換えるステップは、切り換え前の前記第1電子放出器の性能に対して切り換え後の前記第2電子放出器の性能を正規化するよう、前記第1情報および前記第2情報を使用することを含む、質量スペクトロメータを作動させるための方法。 - 前記質量スペクトロメータは、イオン容積部を含み、前記第1電子放出器および前記第2電子放出器は、前記イオン容積部へ電子を供給するように配置されており、
前記第1性能特性を決定するステップは、前記質量スペクトロメータが第1作動パラメータで作動中に、前記第1電子放出器からの電子に応答し、前記イオン容積部内の材料から生じる第1イオン強度を決定することを含み、
前記第1情報を記憶するステップは、前記第1イオン強度と前記第1作動パラメータとの関係に関連する情報を記憶することを含み、
前記第2性能特性を決定するステップは、前記質量スペクトロメータが第2作動パラメータで作動中に、前記第2電子放出器からの電子に応答し、前記イオン容積部内の材料から生じる第2イオン強度を決定することを含み、
前記第2情報を記憶するステップは、前記第2イオン強度と前記第2作動パラメータとの関係に関連する情報を記憶することを含む、請求項1に記載の方法。 - 前記質量スペクトロメータは、ゲート部分を含み、このゲート部分は、第1信号のデューティサイクルの変化に応答し、前記第1イオン放出器から前記イオン容積部への電子の流れを変えると共に、第2信号のデューティサイクルの変化に応答し、第2電子放出器から前記イオン容積部への電子の流れを変えるようになっており、
前記第1信号のデューティサイクルを指定するよう、前記第1作動パラメータをコンフィギュアするステップと、
前記第2信号のデューティサイクルを指定するよう、前記第2作動パラメータをコンフィギュアするステップと、を含む、請求項2に記載の方法。 - 第1質量対電荷比およびこの第1質量対電荷比と異なる第2質量対電荷比を含む質量対電荷比のレンジにわたってイオンを分析するステップと、
前記質量分析器が前記第1の質量対電荷比を有するイオンを分析しているときに、前記第1信号のデューティサイクルを第1の値に設定すると共に、前記質量分析器が前記第2質量対電荷比を有するイオンを分析しているときに、前記第1信号のデューティサイクルを前記第1の値と異なる第2の値に設定するステップと、
前記質量分析器が前記第1の質量対電荷比を有するイオンを分析しているときに、前記第2信号のデューティサイクルを第3の値に設定すると共に、前記質量分析器が前記第2質量対電荷比を有するイオンを分析しているときに、前記第2信号のデューティサイクルを前記第3の値と異なる第4の値に設定するステップとを含む、請求項3に記載の方法。 - 前記第1電子放出器および前記第2電子放出器は、それぞれ第1フィラメントおよび第2フィラメントを含み、
前記質量スペクトロメータは、前記第1フィラメントへ第1フィラメント電流を選択的に供給すると共に、前記第2フィラメントへ第2フィラメント電流を選択的に供給するための電源を含み、
前記第1フィラメント電流を指定するよう、前記第1作動パラメータをコンフィギュアするステップと、
前記第2フィラメント電流を指定するよう、前記第2作動パラメータをコンフィギュアするステップと、を含む、請求項2に記載の方法。 - 前記質量スペクトロメータは、第1信号に応答し、前記第1電子放出器からの電子を前記イオン容積部内に選択的に合焦すると共に、第2信号に応答し、前記第2電子放出器からの電子を前記イオン容積部内に選択的に合焦するための電子レンズ部分を含み、
前記第1信号を指定するよう、前記第1作動パラメータをコンフィギュアするステップと、
前記第2信号を指定するよう、前記第2作動パラメータをコンフィギュアするステップと、を含む、請求項2に記載の方法。 - 前記質量スペクトロメータは、前記第1電子放出器から前記イオン容積部への前記電子の流れに影響する磁界を発生するよう、第1信号に応答自在であり、かつ前記第2電子放出器から前記イオン容積部への前記電子の流れに影響する磁界を発生するよう、第2信号に応答自在な磁界発生器を含み、
前記第1信号を指定するよう、前記第1作動パラメータをコンフィギュアするステップと、
前記第2信号を指定するよう、前記第2作動パラメータをコンフィギュアするステップと、を含む、請求項2に記載の方法。 - 前記質量スペクトロメータは、前記イオン容積部内で生じるイオン強度を検出するための検出器を含み、前記検出器は、利得制御電圧に応答して変化する利得を有し、
前記第1性能特性を決定している間に使用される利得制御電圧を指定するよう、前記第1作動パラメータをコンフィギュアするステップと、
前記第2性能特性を決定している間に使用される利得制御電圧を指定するよう、前記第2作動パラメータをコンフィギュアするステップと、を含む、請求項2に記載の方法。 - 前記イオン容積部からのイオンの強度を検出するステップを含み、
前記質量スペクトロメータは、あるスケーリング率を使用し、前記検出されたイオン強度をスケーリングするデジタルプロセッサを含み、
前記第1性能特性を決定中に使用される前記スケーリング率を指定するよう、前記第1作動パラメータをコンフィギュアするステップと、
前記第2性能特性を決定中に使用される前記スケーリング率を指定するよう、前記第2作動パラメータをコンフィギュアするステップと、を含む、請求項2に記載の方法。 - 前記第1電子放出器を用いて前記質量スペクトロメータを作動させることによって生じる前記第1性能特性の時間に対する変化を決定するステップと、
前記変化を補償する態様で、前記第1情報および前記第2情報のうちの1つを更新するステップを更に含む、請求項1に記載の方法。 - 前記第1情報および前記第2情報の双方に対して更新を実行する、請求項10に記載の方法。
- 前記質量スペクトロメータが標準値の許容可能な限度内で作動しているかどうかを評価するチューニングプロセス中に、前記変化を決定するステップを実行する、請求項10に記載の方法。
- 前記質量スペクトロメータのバックグラウンドイオン強度を分析することにより、クロマトグラフィ作業を実施する前に前記変化を決定するステップを実行する、請求項10に記載の方法。
- 前記切り換えステップ直後の作動中の前記第2電子放出器から、前記イオン容積部内への電子の流れのレートにより生じるイオン発生レベルが、前記切り換えステップ直前の作動中の前記第1電子放出器から前記イオン容積部内への電子の流れのレートによって生じるイオン発生レベルと実質的に同じとなるよう、前記第2電子放出器の性能を正規化することを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第2電子放出器に対し、前記質量スペクトロメータを再較正することなく、前記切り換えを行う、請求項1〜14のうちのいずれか1項に記載の方法。
- 前記第1電子放出器を用いた場合の問題を検出するステップを更に備え、
前記問題が検出されたときに、前記切り換えを行う、請求項1〜15のうちのいずれか1項に記載の方法。 - イオン容積部を構成する構造体と、
前記イオン容積部へ、各々が電子を選択的に供給できる第1電子放出器および第2電子放出器と、
コントローラとを含む質量スペクトロメータを備え、前記コントローラは、
前記第1電子放出器を用いて前記質量スペクトロメータを作動させながら、第1性能特性を決定し、
前記第1性能特性に関連する第1情報を記憶し、
前記第2電子放出器を用いて前記質量スペクトロメータを作動させながら、第2性能特性を決定し、
前記第2性能特性に関連する第2情報を記憶し、
その後、前記第1電子放出器を使用する作動から、前記第2電子放出器を使用する作動へ切り換えるようになっており、この切り換えは、切り換え前の前記第1電子放出器の性能に対して切り換え後の前記第2電子放出器の性能を正規化するよう、前記第1情報および前記第2情報を使用することを含む、装置。 - 前記第1性能特性は、前記質量スペクトロメータが第1作動パラメータで作動中に前記第1電子放出器からの電子に応答し、前記イオン容積部内の材料から生じる第1イオン強度を含み、
前記第1情報は、前記第1イオン強度と前記第1作動パラメータとの関係に関連する情報を含み、
前記第2性能特性は、前記質量スペクトロメータが第2作動パラメータで作動中に前記第2電子放出器からの電子に応答し、前記イオン容積部内の材料から生じる第2イオン強度を含み、
前記第2情報は、前記第2イオン強度と前記第2作動パラメータとの関係に関連する情報を含む、請求項17に記載の装置。 - 前記質量スペクトロメータは、ゲート部分を含み、このゲート部分は、第1信号のデューティサイクルの変化に応答し、前記第1イオン放出器から前記イオン容積部への電子の流れを変えると共に、第2信号のデューティサイクルの変化に応答し、第2電子放出器から前記イオン容積部への電子の流れを変えるようになっており、
前記第1作動パラメータは、前記第1信号のデューティサイクルを指定し、
前記第2作動パラメータは、前記第2信号のデューティサイクルを指定する、請求項18に記載の装置。 - 前記質量スペクトロメータは、第1質量対電荷比およびこの第1質量対電荷比と異なる第2質量対電荷比を含む質量対電荷比のレンジにわたってイオンを分析するための質量分析器を含み、
前記第1信号のデューティサイクルは、前記質量分析器が前記第1の質量対電荷比を有するイオンを分析しているときの第1の値および前記質量分析器が前記第2質量対電荷比を有するイオンを分析しているときの前記第1の値と異なる第2の値であり、
前記第2信号のデューティサイクルは、前記質量分析器が前記第1の質量対電荷比を有するイオンを分析しているときの第3の値および前記質量分析器が前記第2質量対電荷比を有するイオンを分析しているときの、前記第3の値と異なる第4の値であり、請求項19に記載の装置。 - 前記コントローラは、
前記第1電子放出器を用いて前記質量スペクトロメータを作動させることによって生じる前記第1性能特性の時間に対する変化を決定し、
前記変化を補償する態様で、前記第1情報および前記第2情報のうちの1つを更新するようになっている、請求項17〜20のうちのいずれか1項に記載の装置。 - 前記コントローラは、前記第1情報および前記第2情報の双方を更新することを含む態様で、前記更新を実行するようになっている、請求項21に記載の装置。
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Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US7745781B2 (en) * | 2008-05-30 | 2010-06-29 | Varian, Inc. | Real-time control of ion detection with extended dynamic range |
JP5918384B2 (ja) * | 2011-10-31 | 2016-05-18 | エム ケー エス インストルメンツ インコーポレーテッドMks Instruments,Incorporated | 静電イオントラップの同調方法および装置 |
WO2014164198A1 (en) * | 2013-03-11 | 2014-10-09 | David Rafferty | Automatic gain control with defocusing lens |
US8969794B2 (en) | 2013-03-15 | 2015-03-03 | 1St Detect Corporation | Mass dependent automatic gain control for mass spectrometer |
US9865422B2 (en) | 2013-03-15 | 2018-01-09 | Nissin Ion Equipment Co., Ltd. | Plasma generator with at least one non-metallic component |
US8994272B2 (en) * | 2013-03-15 | 2015-03-31 | Nissin Ion Equipment Co., Ltd. | Ion source having at least one electron gun comprising a gas inlet and a plasma region defined by an anode and a ground element thereof |
DE102019208278A1 (de) * | 2019-06-06 | 2019-08-01 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Ionisierungseinrichtung und Massenspektrometer |
US11145502B2 (en) | 2019-12-19 | 2021-10-12 | Thermo Finnigan Llc | Emission current measurement for superior instrument-to-instrument repeatability |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007227255A (ja) * | 2006-02-24 | 2007-09-06 | Shimadzu Corp | 電子線源装置 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1150207A (en) | 1966-09-06 | 1969-04-30 | Ass Elect Ind | Improvements relating to Mass Spectrometry. |
US3823315A (en) | 1972-10-30 | 1974-07-09 | Automated Med Syst | Automatic gain method and controller for mass spectrometer |
US3920986A (en) | 1974-02-28 | 1975-11-18 | Finnigan Corp | Mass spectrometer system having synchronously programmable sensitivity |
US3946229A (en) | 1974-03-29 | 1976-03-23 | The Bendix Corporation | Gain control for a quadrupole mass spectrometer |
JPS5719949A (en) * | 1980-07-09 | 1982-02-02 | Hitachi Ltd | Dual filament ion source |
JP2585616B2 (ja) | 1987-08-12 | 1997-02-26 | 株式会社日立製作所 | 二次イオン質量分析計方法 |
US4847493A (en) | 1987-10-09 | 1989-07-11 | Masstron, Inc. | Calibration of a mass spectrometer |
US5256947A (en) * | 1990-10-10 | 1993-10-26 | Nec Electronics, Inc. | Multiple filament enhanced ion source |
US5545895A (en) | 1995-03-20 | 1996-08-13 | The Dow Chemical Company | Method of standardizing data obtained through mass spectrometry |
US7838850B2 (en) * | 1999-12-13 | 2010-11-23 | Semequip, Inc. | External cathode ion source |
WO2005045877A1 (en) * | 2003-10-31 | 2005-05-19 | Saintech Pty Ltd | Dual filament ion source |
JP4407337B2 (ja) | 2004-03-25 | 2010-02-03 | 株式会社島津製作所 | クロマトグラフ質量分析装置 |
US7323682B2 (en) * | 2004-07-02 | 2008-01-29 | Thermo Finnigan Llc | Pulsed ion source for quadrupole mass spectrometer and method |
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US7902529B2 (en) * | 2007-08-02 | 2011-03-08 | Thermo Finnigan Llc | Method and apparatus for selectively providing electrons in an ion source |
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