JP2011237465A - 検査装置及び検査方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明に係る検査装置10は、結像面に転写される主パターンと、主パターンに対して光学近接効果補正を行う補正パターンとを有するフォトマスクを検査する。検査装置10は、照明光源111と、照明光源111からの光を集光して前記フォトマスクに照射する光学系と、フォトマスク20の透過像を取得する検出器142と、検出器142により得られた透過像と補正パターンのみに対応する検索画像とを用いて補正パターンに対応する除外領域を決定し、当該除外領域を欠陥検出から除外するためのフィルタを生成する処理部30と、フィルタを用い、除外領域を除外して欠陥検査を行う欠陥判定部とを備える。
【選択図】図1
Description
なお、以下の実施例においては透過照明光による透過光検出の場合を例に説明するが、反射照明による反射光検出においても同様である。
なお、上記の説明は、補正パターン22が露光された基板を現像した後に、レジストが当該パターンで基板上に残るポジパターンの場合である。ネガパターンの場合には、主パターン21、補正パターン22、透過領域23に対応する各画素の輝度の大きさが逆になる。このような場合でも、閾値を設定することにより、各領域を分類する処理を適用できる。
ここで、パターンマッチングの手法について、図6を参照して説明する。図6に示すように、入力画像f、テンプレートtとする。テンプレートtのサイズは、(m、n)であるものとする。入力画像f中から、テンプレートtに一致する部分を検索したい場合、以下の式を適用する。dが0に近い部分がテンプレートtに一致する箇所とみなすことができる。
本実施の形態においては、入力画像として分類データを用い、テンプレートとして検索画像40が用いられる。上記の式を用いて、分類データにおける検索画像40との一致箇所を特定する。検索画像40で分類データの全体をスキャンすることにより、分類データの全体における検索画像40に一致する箇所を特定することができる。なお、本実施の形態においては、テンプレートtの内容に応じて重み係数を乗じている。
そして、フィルタパターン50を用いて補正領域を覆うフィルタを作成する。フィルタパターン50は、主フィルタパターン51、エッジフィルタパターン52、無効領域53を湯含む。主フィルタパターン51は、主部41と略等しい形状である。エッジフィルタパターン52は、主フィルタパターン51の周囲を囲むように形成される。
20 フォトマスク
21 主パターン
22 補正パターン
23 透過領域
30 処理部
31 記憶部
32 画像変換部
33 フィルタ作成部
34 欠陥判定部
40 検索画像
41 主部
42 エッジ部
43 無効領域
50 フィルタパターン
51 主フィルタパターン
52 エッジフィルタパターン
53 無効領域
111 透過照明光源
112 透過側フィルタ
114 ミラー
115 対物レンズ
116 ステージ
121 落射照明光源
122 落射側フィルタ
124 ビームスプリッタ
125 対物レンズ
141 レンズ
142 検出器
150 処理装置
Claims (16)
- 結像面に転写される主パターンと、前記主パターンに対して光学近接効果補正を行う補正パターンとを有するフォトマスクを検査する検査装置であって、
照明光源と、
前記照明光源からの光を集光して前記フォトマスクに照射する光学系と、
前記フォトマスクからの光を検出し、前記フォトマスクの画像を取得する検出器と、
前記検出器により得られた前記フォトマスクの画像と前記補正パターンのみに対応する検索画像とを用いて前記補正パターンに対応する除外領域を決定し、当該除外領域を欠陥検出から除外するためのフィルタを生成する処理部と、
前記フィルタを用い、前記除外領域を除外して欠陥検査を行う欠陥判定部と、
を備える検査装置。 - 前記処理部は、前記画像の各画素の輝度に応じて、前記主パターンに対応する領域と前記補正パターンに対応する領域とそれら以外の領域とを分類した分類データを生成し、
前記分類データと前記検索画像とを用いて、前記除外領域欠陥検出から除外するためのフィルタを生成することを特徴とする請求項1に記載の検査装置。 - 前記検索画像は複数の画素からなり、前記補正パターンの短手方向の幅と略等しい幅を有する主部と、前記主部の前記幅を有する辺を挟んで対向する二辺に沿って設けられたエッジ部とを有する請求項1又は2に記載の検査装置。
- 前記処理部は、前記主部と前記エッジ部とを異なる重みづけ処理を行って、前記除外領域を決定することを特徴とする請求項3に記載の検査装置。
- 前記検索画像の長さは、前記補正パターンの長手方向の長さよりも短いことを特徴とする請求項3又は4のいずれか1項に記載の検査装置。
- 前記検索画像は複数設けられていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の検査装置。
- 前記処理部は、前記検索画像とは異なる前記フィルタを作成するためのフィルタパターンを用いて、前記フィルタを作成することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の検査装置。
- 前記フォトマスクを透過した光により得られる第1の像同士、または前記フォトマスクで反射した光により得られる第2の像同士、または前記第1の像と前記第2の像とを比較して、前記フォトマスクの欠陥を検出することを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の検査装置。
- 結像面に転写される主パターンと、前記主パターンに対して超解像技術のための補正パターンとを有するフォトマスクを検査する検査方法であって、
前記フォトマスクに光を照射し、
前記フォトマスクからの光を検出して前記フォトマスクの画像を取得し、
得られた前記フォトマスクの画像と前記補正パターンのみに対応する検索画像とを用いて前記補正パターンに対応する除外領域を決定して当該除外領域を欠陥検出から除外するためのフィルタを生成し、
前記フィルタを用い、前記除外領域を除外して欠陥検査を行う、
検査方法。 - 前記画像の各画素の輝度に応じて、前記主パターンに対応する領域と前記補正パターンに対応する領域とそれら以外の領域とを分類した分類データを生成し、
前記分類データと前記検索画像とを用いて、前記除外領域を欠陥検出から除外するためのフィルタを生成することを特徴とする請求項9に記載の検査方法。 - 前記補正パターンはバー状であり、
前記検索画像は複数の画素からなり、前記補正パターンの短手方向の幅と略等しい幅を有する主部と、前記主部の前記幅を有する辺を挟んで対向する二辺に沿って設けられたエッジ部とを有する請求項9又は10に記載の検査方法。 - 前記主部と前記エッジ部とを異なる重みづけ処理を行って、前記除外領域を決定することを特徴とする請求項11に記載の検査方法。
- 前記検索画像の長さは、前記補正パターンの長手方向の長さよりも短いことを特徴とする請求項10又は11のいずれか1項に記載の検査方法。
- 前記検索画像は複数設けられていることを特徴とする請求項9〜13のいずれか1項に記載の検査方法。
- 前記検索画像とは異なる前記フィルタを作成するためのフィルタパターンを用いて、前記フィルタを作成することを特徴とする請求項9〜13のいずれか1項に記載の検査方法。
- 前記フォトマスクを透過した光により得られる第1の像同士、または前記フォトマスクで反射した光により得られる第2の像同士、または前記第1の像と前記第2の像とを比較して、前記フォトマスクの欠陥を検出することを特徴とする請求項9〜13のいずれか1項に記載の検査方法。
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