JP2008076217A - 電子デバイス用基板形状検査装置及び電子デバイス用基板形状検査方法、並びにマスクブランク用基板の製造方法 - Google Patents
電子デバイス用基板形状検査装置及び電子デバイス用基板形状検査方法、並びにマスクブランク用基板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008076217A JP2008076217A JP2006255506A JP2006255506A JP2008076217A JP 2008076217 A JP2008076217 A JP 2008076217A JP 2006255506 A JP2006255506 A JP 2006255506A JP 2006255506 A JP2006255506 A JP 2006255506A JP 2008076217 A JP2008076217 A JP 2008076217A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- shape
- electronic device
- inspection
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
【解決手段】電子デバイス用基板の形状を光学的に検出する形状検出手段1と、検出した形状情報に必要に応じた画像処理を施す形状情報処理手段5と、前記検出した形状情報又はこれに前記画像処理を施した形状情報に基づいて前記基板の形状を測定する形状測定手段6とを備え、前記形状検出手段1は受光部を備え、前記基板の少なくとも測定部位を通過した光を反射させて再び前記受光部に戻すように光路中に光学部材を介在させた。
【選択図】図1
Description
従来より、マスクブランク用ガラス基板は、所定の大きさの矩形状に切り出したガラス基板に面取り加工を施し、そのガラス基板の主表面を鏡面研磨するとともに、ガラス基板の主表面の周縁に形成された端面(基板の側面と、該側面と主表面との間に介在する面取り面とを含む。)についても所定の鏡面となるように研磨を施すことにより製造されている。
(構成1)電子デバイス用基板の形状を光学的に検出する形状検出手段と、検出した形状情報に必要に応じた画像処理を施す形状情報処理手段と、前記検出した形状情報又はこれに前記画像処理を施した形状情報に基づいて前記基板の形状を測定する形状測定手段とを備え、前記形状検出手段は受光部を備え、前記基板の少なくとも測定部位を通過した光を反射させて再び前記受光部に戻すように光路中に光学部材を介在させたことを特徴とする電子デバイス用基板形状検査装置である。
(構成2)前記受光部と前記基板との間の光路中に角度調整可能の光学プリズムを配置するとともに、前記基板の後方位置に傾き調整可能の光反射部材を配置したことを特徴とする構成1に記載の電子デバイス用基板形状検査装置である。
(構成3)前記電子デバイス用基板は、主表面と該主表面の周縁に形成された端面とを有するマスクブランク用基板であることを特徴とする構成1又は2に記載の電子デバイス用基板形状検査装置である。
(構成5)前記受光部と前記基板との間の光路中に角度調整可能の光学プリズムを配置するとともに、前記基板の後方位置に傾き調整可能の光反射部材を配置したことを特徴とする構成4に記載の電子デバイス用基板形状検査方法である。
構成2の基板形状検査装置によれば、光学プリズムの角度調整と光反射部材の傾き調整等により、コントラストを好適に高めて基板のエッジの検出精度を向上させ、基板の形状測定精度を向上させることができる。ここで、光反射部材としては、反射ミラーなどが挙げられる。また、上記光学プリズムとして例えば45度の傾斜を持つ光学プリズムを使用することにより、前記基板を装置に対して水平置きでセットした状態のまま、基板の端面の形状検査を高精度で行うことができる。
構成5の基板形状検査方法によれば、光学プリズムの角度調整と光反射部材の傾き調整等により、コントラストを好適に高めて基板のエッジの検出精度を向上させ、基板の形状測定精度を向上させることができる。ここで、光反射部材としては、反射ミラーなどが挙げられる。また、上記光学プリズムとして例えば45度の傾斜を持つ光学プリズムを使用することにより、前記基板を装置に対して水平置きでセットした状態のまま、基板の端面の形状検査を高精度で行うことができる。
また、本発明によれば、電子デバイス用基板に関する評価項目を1回の測定で検査でき、従来の測定者間の人的ばらつきがなく、基板とは非接触であるため測定時の傷等の欠陥の発生がなく、しかも高い測定精度が得られ、検査能率を著しく向上させることができる基板形状検査方法を提供することができる。
図1は本発明に係る基板形状検査装置の一実施形態の構成図、図2は本発明の基板形状検査装置における形状検出手段の構成図、図3は光学プリズムの配置を示す平面図である。
本発明の一実施形態による基板形状検査装置は、図1に示すように、形状検出手段1と、入力手段2と、CPU(中央処理装置)3と、表示手段4と、形状情報処理手段5と、形状測定手段6とを備えている。
上記CPU3は、たとえばPC(パーソナルコンピュータ)のCPUにより構成され、図示していないPCの記憶手段(ハードディスク等)中の制御プログラム等に従って、形状検出手段1と、入力手段2と、表示手段4と、形状情報処理手段5と、形状測定手段6との間でデータのやり取りを実行する。
上記表示手段4は、基板形状検査装置による形状検査の結果を表示、出力するディスプレイ(モニター画面)や出力装置(プリンタ)である。
上記形状測定手段6は、前記検出した形状情報又はこれに前記画像処理を施した形状情報に基づいて基板の形状を測定するものである。すなわち、上記形状測定手段6は、検出された形状情報等に基づき、例えば基板の外形寸法、直角度、板厚寸法等を算出する測定プログラムに従って測定を実行する。その結果は上記表示手段4によって表示される。
図4は、検査対象であるマスクブランク用ガラス基板の(a)平面図及び(b)断面図である。
マスクブランク用ガラス基板10は、両面の主表面21a,21bと該主表面21a,21bの周縁に形成された端面とを有し、該端面は、前記基板10の側面(以下、T面とも呼ぶ。)23と、該側面23と前記主表面21a,21bとの間に介在する表裏の面取り面(以下、C面とも呼ぶ。)22a,22bとを含む。
なお、本実施の形態では、図2に示すように、光学プリズム8と基板10との間に集光レンズ11を配置しているが、測定の際、フォーカスに特に支障がなければ集光レンズ11を省いてもよい。
なお、上述の基板形状検査方法における、形状検出手段、形状情報処理手段、形状測定手段等については、前述の基板形状検査装置の場合と同様である。
本発明の基板形状検査装置を用いて、マスクブランク用ガラス基板の形状検査を行った。
本実施例で使用した基板形状検査装置は、形状検出手段としてデジタルカラーCCDビデオカメラ(画素数768×494)を搭載し、さらに水平置きにセットした基板に対して、45度の傾斜を持つ光学プリズムと集光レンズと反射ミラーを前述の図2及び図3に示すように配置したものである。
上記基板形状検査装置を用いて、以上のように仕上げたマスクブランク用ガラス基板の形状検査を行った。
次に、各測定値の再現性を確認するため、基板をセットした状態のまま、以上の形状検査を繰り返し50回行ったところ、各測定値の再現性は良好であることが確認できた。
また、本実施例と同様にマスクブランク用ガラス基板を50枚準備し、これらについて同様に基板形状検査を行ったところ、検査時の基板の欠陥発生はまったくみられなかった。したがって、本発明は、マスクブランク用基板の出荷時の最終検査に用いると好適である。
2 入力手段
3 中央処理装置(CPU)
4 表示手段
5 形状情報処理手段
6 形状測定手段
7 受光部
8 光学プリズム
9 反射ミラー
10 マスクブランク用ガラス基板
11 レンズ
13a,13b 位置決め部材
21a,21b 主表面
22a,22b 面取り面(C面)
23 側面(T面)
24a,24b ノッチマーク
Claims (6)
- 電子デバイス用基板の形状を光学的に検出する形状検出手段と、検出した形状情報に必要に応じた画像処理を施す形状情報処理手段と、前記検出した形状情報又はこれに前記画像処理を施した形状情報に基づいて前記基板の形状を測定する形状測定手段とを備え、
前記形状検出手段は受光部を備え、前記基板の少なくとも測定部位を通過した光を反射させて再び前記受光部に戻すように光路中に光学部材を介在させたことを特徴とする電子デバイス用基板形状検査装置。 - 前記受光部と前記基板との間の光路中に角度調整可能の光学プリズムを配置するとともに、前記基板の後方位置に傾き調整可能の光反射部材を配置したことを特徴とする請求項1に記載の電子デバイス用基板形状検査装置。
- 前記電子デバイス用基板は、主表面と該主表面の周縁に形成された端面とを有するマスクブランク用基板であることを特徴とする請求項1又は2に記載の電子デバイス用基板形状検査装置。
- 電子デバイス用基板の形状を光学的に検出する形状検出手段と、検出した形状情報に必要に応じた画像処理を施す形状情報処理手段と、前記検出した形状情報又はこれに前記画像処理を施した形状情報に基づいて前記基板の形状を測定する形状測定手段とを備え、
前記形状検出手段は受光部を備え、前記基板の少なくとも測定部位を通過した光を反射させて再び前記受光部に戻すように光路中に光学部材を介在させ、前記基板の形状を検出することを特徴とする電子デバイス用基板形状検査方法。 - 前記受光部と前記基板との間の光路中に角度調整可能の光学プリズムを配置するとともに、前記基板の後方位置に傾き調整可能の光反射部材を配置したことを特徴とする請求項4に記載の電子デバイス用基板形状検査方法。
- 請求項4又は5に記載の電子デバイス用基板形状検査方法により基板形状検査を行う工程を含むことを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006255506A JP4968720B2 (ja) | 2006-09-21 | 2006-09-21 | 電子デバイス用基板形状検査装置及び電子デバイス用基板形状検査方法、並びにマスクブランク用ガラス基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006255506A JP4968720B2 (ja) | 2006-09-21 | 2006-09-21 | 電子デバイス用基板形状検査装置及び電子デバイス用基板形状検査方法、並びにマスクブランク用ガラス基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008076217A true JP2008076217A (ja) | 2008-04-03 |
JP4968720B2 JP4968720B2 (ja) | 2012-07-04 |
Family
ID=39348443
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006255506A Expired - Fee Related JP4968720B2 (ja) | 2006-09-21 | 2006-09-21 | 電子デバイス用基板形状検査装置及び電子デバイス用基板形状検査方法、並びにマスクブランク用ガラス基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4968720B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008257131A (ja) * | 2007-04-09 | 2008-10-23 | Hoya Corp | フォトマスクブランク用基板及びその製造方法、フォトマスクブランク、並びにフォトマスク |
JP2013082612A (ja) * | 2011-09-28 | 2013-05-09 | Hoya Corp | マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法、並びにインプリントモールドの製造方法 |
JP2015141411A (ja) * | 2014-01-30 | 2015-08-03 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 検査装置 |
CN104986539A (zh) * | 2015-05-21 | 2015-10-21 | 上海神机软件有限公司 | 组合模板自动输送系统及方法 |
JP2016099306A (ja) * | 2014-11-26 | 2016-05-30 | 株式会社ミツトヨ | 画像測定装置及び測定装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6332304A (ja) * | 1986-07-28 | 1988-02-12 | Hitachi Ltd | 位置決め組付装置 |
JPH09273910A (ja) * | 1996-04-05 | 1997-10-21 | Mitsutoyo Corp | 光学式測定装置 |
-
2006
- 2006-09-21 JP JP2006255506A patent/JP4968720B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6332304A (ja) * | 1986-07-28 | 1988-02-12 | Hitachi Ltd | 位置決め組付装置 |
JPH09273910A (ja) * | 1996-04-05 | 1997-10-21 | Mitsutoyo Corp | 光学式測定装置 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008257131A (ja) * | 2007-04-09 | 2008-10-23 | Hoya Corp | フォトマスクブランク用基板及びその製造方法、フォトマスクブランク、並びにフォトマスク |
JP2013082612A (ja) * | 2011-09-28 | 2013-05-09 | Hoya Corp | マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法、並びにインプリントモールドの製造方法 |
JP2015141411A (ja) * | 2014-01-30 | 2015-08-03 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 検査装置 |
JP2016099306A (ja) * | 2014-11-26 | 2016-05-30 | 株式会社ミツトヨ | 画像測定装置及び測定装置 |
CN105627919A (zh) * | 2014-11-26 | 2016-06-01 | 株式会社三丰 | 图像测量设备和测量设备 |
CN104986539A (zh) * | 2015-05-21 | 2015-10-21 | 上海神机软件有限公司 | 组合模板自动输送系统及方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4968720B2 (ja) | 2012-07-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6499898B2 (ja) | 検査方法、テンプレート基板およびフォーカスオフセット方法 | |
TWI393876B (zh) | 圖案缺陷檢測方法、光罩製造方法以及顯示裝置基板製造方法 | |
TWI587082B (zh) | Mask inspection device, mask evaluation method and mask evaluation system | |
TWI559099B (zh) | 用於設計度量衡目標之方法及裝置 | |
JP4095621B2 (ja) | 光学画像取得装置、光学画像取得方法、及びマスク検査装置 | |
TWI342038B (ja) | ||
JP2000227326A (ja) | 平坦度測定装置 | |
US20060158643A1 (en) | Method and system of inspecting mura-defect and method of fabricating photomask | |
CN102171618A (zh) | 使用二维目标的光刻聚焦和剂量测量 | |
US20120224176A1 (en) | Parallel Acquisition Of Spectra For Diffraction Based Overlay | |
JP2000088702A (ja) | 結像性能評価方法 | |
JP6633918B2 (ja) | パターン検査装置 | |
JP4968720B2 (ja) | 電子デバイス用基板形状検査装置及び電子デバイス用基板形状検査方法、並びにマスクブランク用ガラス基板の製造方法 | |
JP5085953B2 (ja) | 表面検査装置 | |
JP2016194482A (ja) | 検査方法および検査装置 | |
US10969697B1 (en) | Overlay metrology tool and methods of performing overlay measurements | |
JP2000121323A (ja) | 表面高さ検査方法及びその検査装置並びにカラーフィルタ基板、その検査方法及びその製造方法 | |
JP2011169743A (ja) | 検査装置および検査方法 | |
JP2014235365A (ja) | フォーカス制御方法、及び光学装置 | |
JP2009222625A (ja) | パターン検査装置及びパターン検査方法 | |
JP2009294123A (ja) | パターン識別装置、パターン識別方法及び試料検査装置 | |
JP4771871B2 (ja) | パターン欠陥検査方法、パターン欠陥検査用テストパターン基板、及びパターン欠陥検査装置、並びにフォトマスクの製造方法、及び表示デバイス用基板の製造方法 | |
JPH0682381A (ja) | 異物検査装置 | |
JP2007333590A5 (ja) | ||
JP2001124660A (ja) | 平面表示装置の欠陥・異物検査方法およびその検査装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090821 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110824 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110830 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111031 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120313 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120328 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150413 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4968720 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |