JP2011235408A - Silicon ingot chamfering device - Google Patents

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JP2011235408A JP2010109714A JP2010109714A JP2011235408A JP 2011235408 A JP2011235408 A JP 2011235408A JP 2010109714 A JP2010109714 A JP 2010109714A JP 2010109714 A JP2010109714 A JP 2010109714A JP 2011235408 A JP2011235408 A JP 2011235408A
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Harumitsu Yasuda
春光 安田
Takashi Wakayama
隆史 若山
Akira Sonoda
朗 園田
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Noritake Co Ltd
Noritake Coated Abrasive Co Ltd
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Noritake Co Ltd
Noritake Coated Abrasive Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a silicon ingot chamfering device in which a chamfered width of a corner part of a silicon ingot can be more efficiently made constant than an ordinary silicon ingot chamfering device.SOLUTION: When a pair of guide roller devices 18 and 20 are moved in a longitudinal direction of the silicon ingot 22 along a pair of side surfaces 22a and 22b of the pair of guide roller devices 18 and 20 under a state where the pair of guide roller devices 18 and 20 are respectively allowed to abut on the pair of side surfaces 22a and 22b, a position of a lower surface 12a of a grinding sheet 12 and a position of an tip end of the corner part 22c are positioned in a cross section of the corner part 22c of the silicon ingot 22, and the grinding sheet 12 grinds the corner part 22c at a substantially fixed grinding height H by the lower surface 12a of the grinding sheet 12 and is guided in the longitudinal direction of the silicon ingot 22. Accordingly, the corner part 22c of the silicon ingot 22 is ground by the grinding height H and the chamfered width M of the corner part 22c formed by grinding is more efficiently made constant than the ordinary silicon ingot chamfering device.

Description

本発明は、太陽電池パネルの電池セルの基板などに用いられるシリコンウエハーの製造に関し、特に四角柱状のシリコンインゴットからシリコンウエハーを成形する際に行われるそのシリコンインゴットの面取りおいてその面取り精度を向上させるシリコンインゴット面取り装置に関するものである。   The present invention relates to the manufacture of a silicon wafer used for a substrate of a battery cell of a solar battery panel, and in particular, the chamfering accuracy is improved by chamfering the silicon ingot which is performed when a silicon wafer is formed from a square columnar silicon ingot. The present invention relates to a silicon ingot chamfering device.

太陽電池パネルの電池セルの基板などとして使用されるシリコンウエハーは、四角柱状に製造されたシリコンインゴットを例えばワイヤソー等で薄板状に切断されることで製造される。このように、四角柱状に製造されたシリコンインゴットをそのままの状態から薄板状に切断すると、切断中にシリコンインゴットの角部が欠けてしまうため、従来そのシリコンインゴットの角部の欠けを防ぐためにシリコンインゴットを薄板状に切断する前にそのシリコンインゴットの角部に面取りが施されるようにシリコンインゴット面取り装置が使用される。例えば、特許文献1に示すようなシリコンインゴット面取り装置がそれである。   A silicon wafer used as a substrate of a battery cell of a solar battery panel is manufactured by cutting a silicon ingot manufactured in a quadrangular prism shape into a thin plate shape using, for example, a wire saw. In this way, when a silicon ingot manufactured in the shape of a quadrangular prism is cut into a thin plate shape from the state as it is, the corner portion of the silicon ingot is chipped during the cutting, so conventionally silicon has been used to prevent the corner portion of the silicon ingot from being chipped. A silicon ingot chamfering device is used so that the corners of the silicon ingot are chamfered before the ingot is cut into a thin plate shape. For example, it is a silicon ingot chamfering apparatus as shown in Patent Document 1.

このようなシリコンインゴット面取り装置は、四角柱状に製造されたシリコンインゴットの角部に所定回転軸心回りに回転する円板状切削工具と、シリコンインゴットを機械的に保持する保持装置とを備え、その円板状切削工具が長手状のシリコンインゴットの一端におけるそのシリコンインゴットの角部に当接した状態でそのシリコンインゴットの長手方向の他端側へ一直線に沿って自動的に移動させることによりシリコンインゴットの角部に面取りを施す研削を行うものである。   Such a silicon ingot chamfering device includes a disc-shaped cutting tool that rotates around a predetermined rotation axis at a corner of a silicon ingot manufactured in a quadrangular prism shape, and a holding device that mechanically holds the silicon ingot. By automatically moving the disc-shaped cutting tool along a straight line to the other end in the longitudinal direction of the silicon ingot in a state where the disc cutting tool is in contact with the corner of the silicon ingot at one end of the longitudinal silicon ingot, Grinding is performed to chamfer the corners of the ingot.

特開2009−233794号公報JP 2009-233794 A

しかしながら、前記四角柱状のシリコンインゴットはその残留歪みにより反りや曲がりを有して製造されることがあった。そのため、前述のようなシリコンインゴット面取り装置によってその反りや曲がりを有するシリコンインゴットの角部に面取りが施されると、前記研削工具がシリコンインゴットの長手方向に一直線に沿って移動させられる際、そのシリコンインゴットの角部において研削される面取りにばらつきが発生したり、場合によっては過度に面取りされたり、面取りが施されない部分ができてしまう問題があった。   However, the square columnar silicon ingot may be manufactured with warping or bending due to the residual strain. Therefore, when chamfering is performed on the corner of a silicon ingot having warpage or bending by the silicon ingot chamfering device as described above, when the grinding tool is moved along a straight line in the longitudinal direction of the silicon ingot, There has been a problem in that chamfering to be ground at the corners of the silicon ingot is uneven, or excessively chamfered in some cases, or a portion that is not chamfered is formed.

また、シリコンインゴットの角部に研削された研削面の幅にばらつきが発生するとその後そのシリコンインゴットが薄板状に複数枚に切削されて複数枚のシリコンウエハーになるとそれぞれのシリコンウエハーの形状が異なるものになってしまうので、作業者が砥石を使用して手作業によってシリコンインゴットの面取りを修正するという面倒な作業を要していた。   In addition, when variation occurs in the width of the ground surface ground at the corner of the silicon ingot, the silicon ingot is then cut into a plurality of thin sheets to form a plurality of silicon wafers. Therefore, the laborious work of correcting the chamfering of the silicon ingot manually by using a grindstone is required.

本発明は、以上の事情を背景として為されたものであって、その目的とするところは、シリコンインゴットの角部の面取りの幅を従来のシリコンインゴット面取り装置に比較して能率良く一定にできるシリコンインゴット面取り装置を提供することにある。   The present invention has been made against the background of the above circumstances, and the object of the present invention is to make the chamfering width of the corner portion of the silicon ingot more efficient and constant than the conventional silicon ingot chamfering device. The object is to provide a silicon ingot chamfering apparatus.

かかる目的を達成するための請求項1に係る発明の要旨とするところは、(a) 四角柱状に製造されたシリコンインゴットの角部に所定回転軸心回りに回転する円板状研削工具の下面が当接させることによりそのシリコンインゴッドの角部に面取りを施す研削をするシリコンインゴット面取り装置であって、(b) 前記研削工具を前記回転軸心回りに駆動する工具駆動装置が装着された工具支持部とその工具支持部の両端からその工具駆動装置とは反対側へ突き出す一対の脚部とを有するフレームと、(c) 前記回転軸心に対して対称且つ前記シリコンインゴットの所定の角部に隣接する一対の側面に当接するように前記フレームの脚部に設けられた一対のガイドローラ装置とを備え、(d) 前記一対のガイドローラ装置は、前記シリコンインゴットの一対の側面上に沿って前記研削工具をそのシリコンインゴットの長手方向に案内することにある。   To achieve this object, the gist of the invention according to claim 1 is that: (a) a lower surface of a disc-shaped grinding tool that rotates around a predetermined rotation axis at a corner of a silicon ingot manufactured in a quadrangular prism shape; A silicon ingot chamfering device for chamfering the corners of the silicon ingot by bringing the tool into contact with the tool, and (b) a tool equipped with a tool driving device for driving the grinding tool around the rotation axis A frame having a support portion and a pair of legs protruding from opposite ends of the tool support portion to the opposite side of the tool driving device; and (c) a predetermined corner portion of the silicon ingot that is symmetrical with respect to the rotation axis. A pair of guide roller devices provided on the leg portions of the frame so as to contact a pair of side surfaces adjacent to each other, and (d) the pair of guide roller devices includes a pair of the silicon ingots. The grinding tool is guided in the longitudinal direction of the silicon ingot along the side surface.

また、請求項2に係る発明の要旨とするところは、請求項1に係る発明において、前記一対のガイドローラ装置には、前記シリコンインゴットの長手方向において前記研削工具の進行方向前方側に配設される一対の前輪ガイドローラと、その一対の前輪ガイドローラに対して前記研削工具の進行方向後方側に配置される一対の後輪ガイドローラと、その一対の前輪ガイドローラとその一対の後輪ガイドローラとの間に配置された一対の中間ガイドローラとを備えることにある。   The gist of the invention according to claim 2 is that, in the invention according to claim 1, the pair of guide roller devices are arranged on the front side in the traveling direction of the grinding tool in the longitudinal direction of the silicon ingot. A pair of front wheel guide rollers, a pair of rear wheel guide rollers disposed on the rear side in the advancing direction of the grinding tool with respect to the pair of front wheel guide rollers, the pair of front wheel guide rollers and the pair of rear wheels And providing a pair of intermediate guide rollers disposed between the guide rollers.

また、請求項3に係る発明の要旨とするところは、請求項2に係る発明において、前記一対の中間ガイドローラは、前記一対の前輪ガイドローラおよび前記一対の後輪ガイドローラに比較して前記研削工具側に接近して配置されていることにある。   Further, the gist of the invention according to claim 3 is that, in the invention according to claim 2, the pair of intermediate guide rollers is more than the pair of front wheel guide rollers and the pair of rear wheel guide rollers. It is that it is arranged close to the grinding tool side.

また、請求項4に係る発明の要旨とするところは、請求項2または3に係る発明において、(a) 前記一対の中間ガイドローラが、前記シリコンインゴットの角部に隣接する一対の側面に接触された状態において、(b) 前記一対の前輪ガイドローラおよび前記一対の後輪ガイドローラは、前記シリコンインゴットの角部に隣接する一対の側面から所定距離だけ離間するように配設されることにある。   Further, the gist of the invention according to claim 4 is that, in the invention according to claim 2 or 3, (a) the pair of intermediate guide rollers contacts a pair of side surfaces adjacent to corners of the silicon ingot. In this state, (b) the pair of front wheel guide rollers and the pair of rear wheel guide rollers are disposed so as to be separated from each other by a predetermined distance from a pair of side surfaces adjacent to corners of the silicon ingot. is there.

また、請求項5に係る発明の要旨とするところは、請求項1乃至4のいずれか1に係る発明において、前記フレームの脚部には、前記一対のガイドローラ装置と前記研削工具との間隔を調節するための高さ調節装置が備えられていることにある。   Further, the gist of the invention according to claim 5 is that, in the invention according to any one of claims 1 to 4, the leg portion of the frame has an interval between the pair of guide roller devices and the grinding tool. A height adjusting device for adjusting the height.

また、請求項6に係る発明の要旨とするところは、請求項1乃至5のいずれか1に係る発明において、前記フレームは、前記研削工具の下面における前記一対のガイドローラ装置によるその研削工具の進行方向の後方側が前記シリコンインゴットの角部と当接しその研削工具の下面におけるその研削工具の進行方向の前方側がその角部から離間するように傾斜するように、前記工具駆動装置を支持することにある。   Further, the gist of the invention according to claim 6 is that, in the invention according to any one of claims 1 to 5, the frame is formed of the grinding tool by the pair of guide roller devices on the lower surface of the grinding tool. Supporting the tool driving device such that the rear side in the advancing direction is in contact with the corner of the silicon ingot and the front side in the advancing direction of the grinding tool on the lower surface of the grinding tool is inclined so as to be separated from the corner. It is in.

また、請求項7に係る発明の要旨とするところは、請求項1乃至6のいずれか1に係る発明において、(a) 前記工具駆動装置は、前記円板状研削工具を前記回転軸心回りに回転させる回転軸を備え、(b) 前記回転軸の先端面には、布地の表面が起毛状の第1布と布地の表面が鉤状の第2布とのいずれか一方の布が固着され、前記円板状研削工具の上面には、その他方の布が固着されるものであって、(c) 前記円板状研削工具は、前記第1布および第2布によって前記回転軸の先端面に脱着可能に取り付けられることにある。   The gist of the invention according to claim 7 is that, in the invention according to any one of claims 1 to 6, (a) the tool driving device moves the disk-shaped grinding tool around the rotation axis. (B) One of the first cloth having a brushed surface and the second cloth having a hooked surface is fixed to the front end surface of the rotating shaft. And the other cloth is fixed to the upper surface of the disk-shaped grinding tool, and (c) the disk-shaped grinding tool has the rotating shaft supported by the first cloth and the second cloth. It exists in attaching to a front end surface so that attachment or detachment is possible.

請求項1に係る発明のシリコンインゴット面取り装置によれば、(b) 前記研削工具を前記回転軸心回りに駆動する工具駆動装置が装着された工具支持部とその工具支持部の両端からその工具駆動装置とは反対側へ突き出す一対の脚部とを有するフレームと、(c) 前記回転軸心に対して対称且つ前記シリコンインゴットの所定の角部に隣接する一対の側面に当接するように前記フレームの脚部に設けられた一対のガイドローラ装置とを備え、(d) 前記一対のガイドローラ装置は、前記シリコンインゴットの一対の側面上に沿って前記研削工具をそのシリコンインゴットの長手方向に案内するものであり、前記一対のガイドローラ装置をそれぞれ前記シリコンインゴットの一対の側面上に当接させると、前記シリコンインゴットの角部の断面においてその角部の先端が前記円板状研削工具の前記回転軸心上に配置され且つその角部の先端の位置とその円板状研削工具の下面の位置とが位置決めさせられる。そのため、前記一対のガイドローラ装置をそれぞれ前記シリコンインゴットの一対の側面上に当接させた状態でその一対のガイドローラ装置をその一対の側面に沿って前記シリコンインゴットの長手方向に移動させると、前記円板状研削工具は前記シリコンインゴットの角部の断面においてその円板状研削工具の下面の位置と前記角部の先端の位置とが位置決めされながらその円板状研削工具の下面で前記角部を研削して前記シリコンインゴット長手方向に案内されるので、シリコンインゴットの角部を所定量だけ研削しその研削により形成された前記角部の面取りの幅が従来のシリコンインゴット面取り装置に比較して能率良く一定にされる。   According to the silicon ingot chamfering apparatus of the invention according to claim 1, (b) a tool support portion on which a tool driving device for driving the grinding tool around the rotation axis is mounted, and the tool from both ends of the tool support portion. A frame having a pair of legs projecting to the opposite side of the drive device; and (c) symmetric with respect to the rotational axis and in contact with a pair of side surfaces adjacent to predetermined corners of the silicon ingot. A pair of guide roller devices provided on the legs of the frame, and (d) the pair of guide roller devices moves the grinding tool along the pair of side surfaces of the silicon ingot in the longitudinal direction of the silicon ingot. When the pair of guide roller devices are brought into contact with the pair of side surfaces of the silicon ingot, respectively, in the cross section of the corner of the silicon ingot The tip of the corner and the position of the lower surface of the disposed on the rotational axis and the disc-shaped grinding tool and the position of the tip of the corner portion of the disc-shaped grinding tool is brought into position. Therefore, when the pair of guide roller devices are moved in the longitudinal direction of the silicon ingot along the pair of side surfaces in a state where the pair of guide roller devices are in contact with the pair of side surfaces of the silicon ingot, The disk-shaped grinding tool has the corner on the lower surface of the disk-shaped grinding tool while the position of the lower surface of the disk-shaped grinding tool and the position of the tip of the corner are positioned in the cross section of the corner of the silicon ingot. Since the portion is ground and guided in the longitudinal direction of the silicon ingot, the corner portion of the silicon ingot is ground by a predetermined amount, and the chamfering width of the corner portion formed by the grinding is compared with the conventional silicon ingot chamfering device. To make it constant and efficient.

請求項2に係る発明のシリコンインゴット面取り装置によれば、前記一対のガイドローラ装置には、前記シリコンインゴットの長手方向において前記研削工具の進行方向前方側に配設される一対の前輪ガイドローラと、その一対の前輪ガイドローラに対して前記研削工具の進行方向後方側に配置される一対の後輪ガイドローラと、その一対の前輪ガイドローラとその一対の後輪ガイドローラとの間に配置される一対の中間ガイドローラとを備えるものである。そのため、前記シリコンインゴットの一端部の角部およびその他端部の角部を前記研削工具で研削する際、例えば前記一対の前輪ガイドローラおよび前記一対の後輪ガイドローラの一方が前記シリコンインゴットの一対の側面から外れても、前記シリコンインゴットの角部における前記研削工具の位置が前記一対の中間ガイドローラと前記一対の前輪ガイドローラおよび前記一対の後輪ガイドローラの他方とが前記シリコンインゴットの一対の側面上に当接されていることによってずれ難くなるので、前記シリコンインゴットの一端部の角部およびその他端部の角部に一層高精度の面取りが施される。   According to the silicon ingot chamfering device of the invention according to claim 2, the pair of guide roller devices includes a pair of front wheel guide rollers disposed on the front side in the traveling direction of the grinding tool in the longitudinal direction of the silicon ingot. A pair of rear wheel guide rollers disposed on the rear side in the advancing direction of the grinding tool with respect to the pair of front wheel guide rollers, and disposed between the pair of front wheel guide rollers and the pair of rear wheel guide rollers. And a pair of intermediate guide rollers. Therefore, when the corner of one end of the silicon ingot and the corner of the other end are ground with the grinding tool, for example, one of the pair of front wheel guide rollers and the pair of rear wheel guide rollers is a pair of the silicon ingot. The grinding tool is positioned at a corner of the silicon ingot at a corner of the pair of intermediate guide rollers, the pair of front wheel guide rollers and the pair of rear wheel guide rollers. Therefore, the silicon ingot is chamfered with higher accuracy at the corners at one end and the other end of the silicon ingot.

請求項3に係る発明のシリコンインゴット面取り装置によれば、前記一対の中間ガイドローラは、前記一対の前輪ガイドローラおよび前記一対の後輪ガイドローラに比較して前記研削工具側に接近して配置されているため、前記一対のガイドローラ装置の複数のガイドローラがそれぞれ前記シリコンインゴットの一対の側面に当接された際、前記シリコンインゴットの角部の断面におけるその複数のガイドローラがそのシリコンインゴットの一対の側面に当接する当接幅が長くなり、前記フレームが前記シリコンインゴットの軸心回りにずれ難くなって一層高精度の面取りが施される。   According to the silicon ingot chamfering apparatus of the invention according to claim 3, the pair of intermediate guide rollers are arranged closer to the grinding tool side than the pair of front wheel guide rollers and the pair of rear wheel guide rollers. Therefore, when the plurality of guide rollers of the pair of guide roller devices are respectively brought into contact with the pair of side surfaces of the silicon ingot, the plurality of guide rollers in the cross section of the corner portion of the silicon ingot are the silicon ingot. The abutting width that abuts against the pair of side surfaces becomes longer, and the frame is less likely to be displaced around the axis of the silicon ingot, so that chamfering with higher accuracy is performed.

請求項4に係る発明のシリコンインゴット面取り装置によれば、(a) 前記一対の中間ガイドローラが、前記シリコンインゴットの角部に隣接する一対の側面に接触された状態において、(b) 前記一対の前輪ガイドローラおよび前記一対の後輪ガイドローラは、前記シリコンインゴットの角部に隣接する一対の側面から所定距離だけ離間するように配設されるため、例えば前記一対の前輪ガイドローラ、前記一対の中間ガイドローラおよび前記一対の後輪ガイドローラをそれぞれ前記シリコンインゴットの一対の側面に当接させなくても、前記一対の中間ガイドローラを前記シリコンインゴットの一対の側面に当接させるだけで前記円板状研削工具を前記シリコンインゴットの角部に容易に位置決めされる。   According to the silicon ingot chamfering apparatus of the invention according to claim 4, (a) in a state where the pair of intermediate guide rollers are in contact with a pair of side surfaces adjacent to corners of the silicon ingot, The front wheel guide roller and the pair of rear wheel guide rollers are disposed so as to be separated from a pair of side surfaces adjacent to the corners of the silicon ingot by a predetermined distance. For example, the pair of front wheel guide rollers and the pair of rear wheel guide rollers The intermediate guide roller and the pair of rear wheel guide rollers are not brought into contact with the pair of side surfaces of the silicon ingot, respectively, and the pair of intermediate guide rollers are merely brought into contact with the pair of side surfaces of the silicon ingot. A disc-shaped grinding tool is easily positioned at the corner of the silicon ingot.

請求項5に係る発明のシリコンインゴット面取り装置によれば、前記フレームの脚部には、前記一対のガイドローラ装置と前記研削工具との間隔を調節するための高さ調節装置が備えられているため、その高さ調節装置を調節することによって前記円板状研削工具が前記シリコンインゴットの角部を研削して面取りする面取りの幅の大きさを自由に設定することができる。   According to the silicon ingot chamfering apparatus of the invention according to claim 5, the leg portion of the frame is provided with a height adjusting device for adjusting the distance between the pair of guide roller devices and the grinding tool. Therefore, by adjusting the height adjusting device, it is possible to freely set the width of the chamfering width by which the disk-like grinding tool chamfers the corners of the silicon ingot.

請求項6に係る発明のシリコンインゴット面取り装置によれば、前記フレームは、前記研削工具の下面における前記一対のガイドローラ装置によるその研削工具の進行方向の後方側が前記シリコンインゴットの角部と当接しその研削工具の下面におけるその研削工具の進行方向の前方側がその角部から離間するように傾斜するように、前記工具駆動装置を支持するため、前記円板状研削工具の下面が前記シリコンインゴットの角部に当接して研削されるにおいてその研削工具の進行方向の前方から後方にむかうに連れて前記研削工具が前記シリコンインゴットの角部の研削する深さが徐々に深くなるのでそのシリコンインゴットの角部が能率良く高い面精度で研削される。   According to the silicon ingot chamfering apparatus of the invention according to claim 6, the frame is configured such that the rear side in the traveling direction of the grinding tool by the pair of guide roller devices on the lower surface of the grinding tool is in contact with the corner portion of the silicon ingot. In order to support the tool driving device so that the front side in the traveling direction of the grinding tool on the lower surface of the grinding tool is inclined away from the corner portion, the lower surface of the disc-shaped grinding tool is made of the silicon ingot. When grinding is performed in contact with the corner portion, the grinding depth of the corner portion of the silicon ingot gradually increases as the grinding tool moves from the front to the rear in the traveling direction of the grinding tool. Corners are ground efficiently and with high surface accuracy.

請求項7に係る発明のシリコンインゴット面取り装置によれば、(a) 前記工具駆動装置は、前記円板状研削工具を前記回転軸心回りに回転させる回転軸を備え、(b) 前記回転軸の先端面には、布地の表面が起毛状の第1布と布地の表面が鉤状の第2布とのいずれか一方の布が固着され、前記円板状研削工具の上面には、その他方の布が固着されるものであって、(c) 前記円板状研削工具は、前記第1布および第2布によって前記回転軸の先端面に脱着可能に取り付けられるため、前記円板状研削工具を前記シリコンインゴット面取り装置から容易に取り外し且つ取り付けられると共に、前記円板状研削工具の下面が前記シリコンインゴットの角部に当接し研削される際の衝撃が前記第1布および第2布によって緩衝されるので研削中の前記シリコンインゴットの角部の欠けが好適に抑えられる。   According to the silicon ingot chamfering apparatus of the invention according to claim 7, (a) the tool driving device includes a rotating shaft that rotates the disk-shaped grinding tool around the rotation axis, and (b) the rotating shaft. One of the first cloth with the raised surface of the cloth and the second cloth with the hooked surface is fixed to the front end surface of the cloth. (C) the disc-shaped grinding tool is detachably attached to the front end surface of the rotary shaft by the first and second fabrics. The grinding tool can be easily removed from and attached to the silicon ingot chamfering device, and the impact when the lower surface of the disc-shaped grinding tool abuts against the corner of the silicon ingot and is ground is affected by the first and second cloths. The silico during grinding because it is buffered by Chipping of the corners of the ingot is preferably suppressed.

本発明が適用されたシリコンインゴット面取り装置を説明する斜視図である。It is a perspective view explaining a silicon ingot chamfering device to which the present invention is applied. 図1のII-II視断面図である。It is the II-II sectional view taken on the line of FIG. 図2のIII-III視面図である。FIG. 3 is a III-III view of FIG. 2. 図3のIV-IV視面図である。FIG. 4 is a IV-IV view of FIG. 3. 螺子部材を緩めて一対のガイドローラ装置が先端部に取り付けられた可動板部材をシリコンインゴットの一対の側面側へ移動させた状態を示す図である。It is a figure which shows the state which loosened the screw member and moved the movable plate member with which a pair of guide roller apparatus was attached to the front-end | tip part to a pair of side surface side of a silicon ingot. 回転軸の先端に固定された工具取付部材の先端平面部と研削布紙の上面との間に配設された第1布及び第2布を説明する図である。It is a figure explaining the 1st cloth and 2nd cloth arrange | positioned between the front end flat part of the tool attachment member fixed to the front-end | tip of a rotating shaft, and the upper surface of a grinding cloth paper. 研削布紙の下面を部分的に拡大した部分拡大図である。It is the elements on larger scale which expanded the lower surface of grinding cloth paper partially. 図7の研削布紙の一部を切断して拡大した拡大断面図である。It is the expanded sectional view which cut | disconnected and expanded some grinding cloth paper of FIG. 研削布紙がシリコンインゴットの一端部の角部を研削する際の状態を示す図である。It is a figure which shows the state at the time of grinding cloth grinding the corner | angular part of the one end part of a silicon ingot. 研削布紙がシリコンインゴットの他端部の角部を研削した際の状態を示す図である。It is a figure which shows a state when a grinding cloth grinds the corner | angular part of the other end part of a silicon ingot. 本発明の他の実施例のシリコンインゴット装置を説明する図であって、図3に相当する図である。It is a figure explaining the silicon ingot apparatus of the other Example of this invention, Comprising: It is a figure corresponded in FIG.

以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の実施例において図は適宜簡略化或いは変形されており、各部の寸法比および形状等は必ずしも正確に描かれていない。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following embodiments, the drawings are appropriately simplified or modified, and the dimensional ratios, shapes, and the like of the respective parts are not necessarily drawn accurately.

図1は、本発明の一実施例であるシリコンインゴット面取り装置10を説明する全体図である。シリコンインゴット面取り装置10は、円板状の研削布紙(円板状研削工具)12を回転軸心A回りに回転させる空気式の工具駆動装置14と、その工具駆動装置14が装着されるフレーム16と、そのフレーム16に取り付けられる一対のガイドローラ装置18,20と備え、一対のガイドローラ装置18,20が四角柱状のシリコンインゴット22の一対の側面22a,22bに沿ってシリコンインゴット22の長手方向に移動させられ、研削布紙12がそのシリコンインゴット22の角部22cに当接されて研削されることによって面取りが施される。また、図1に示される二点鎖線は、四角柱状のシリコンインゴット22の角部22cの断面を示し、角部22cとはシリコンインゴット22の一対の側面22a,22bが交わる角を示す。   FIG. 1 is an overall view for explaining a silicon ingot chamfering apparatus 10 according to an embodiment of the present invention. The silicon ingot chamfering device 10 includes a pneumatic tool driving device 14 that rotates a disk-shaped grinding cloth (disk-shaped grinding tool) 12 around a rotation axis A, and a frame on which the tool driving device 14 is mounted. 16 and a pair of guide roller devices 18, 20 attached to the frame 16, and the pair of guide roller devices 18, 20 extends along the length of the silicon ingot 22 along the pair of side surfaces 22 a, 22 b of the square pillar-shaped silicon ingot 22. The chamfering is performed by moving in the direction and grinding the ground cloth paper 12 in contact with the corner portion 22c of the silicon ingot 22. Moreover, the dashed-two dotted line shown by FIG. 1 shows the cross section of the corner | angular part 22c of the quadrangular pillar-shaped silicon ingot 22, and the corner | angular part 22c shows the angle | corner where a pair of side surfaces 22a and 22b of the silicon ingot 22 cross.

図1に示すように、工具駆動装置14は、圧縮空気を供給するホース24から供給される圧縮空気によって研削布紙12を回転軸心A回りに回転駆動させるものであり、その工具駆動装置14には、その工具駆動装置14によって回転する研削布紙12の回転速度を図示されていない調節レバーにより調節する回転速度調節部14aが一体的に備えられ、作業者が回転速度調節部14aの前記調節レバーを操作する操作量によって研削布紙12の回転速度が決定する。   As shown in FIG. 1, the tool driving device 14 rotates the grinding cloth 12 around the rotation axis A by compressed air supplied from a hose 24 that supplies compressed air. Is integrally provided with a rotation speed adjustment unit 14a for adjusting the rotation speed of the grinding cloth 12 rotated by the tool driving device 14 by an adjustment lever (not shown), and the operator can adjust the rotation speed adjustment unit 14a. The rotational speed of the grinding cloth 12 is determined by the operation amount for operating the adjusting lever.

図1に示すように、フレーム16には、工具駆動装置14を装着し且つ支持する長手状の平板部(工具支持部)16aと、その平板部16aの両端からそれぞれその工具駆動装置14とは反対側すなわちシリコンインゴット22の一対の側面22a,22b側へ突き出す一対の脚部16b,16cとが一体に回転軸心Aに対して略対称に備えられる。   As shown in FIG. 1, the frame 16 has a longitudinal flat plate portion (tool support portion) 16a on which the tool drive device 14 is mounted and supported, and the tool drive device 14 from both ends of the flat plate portion 16a. A pair of leg portions 16b and 16c projecting toward the opposite side, that is, the pair of side surfaces 22a and 22b of the silicon ingot 22, are provided substantially symmetrically with respect to the rotation axis A.

図1、図2に示すように、一対のガイドローラ装置18,20は、一対の脚部16b,16cの先端部に回転軸心Aに対して略対称に配設されており、その一対のガイドローラ装置18,20には、シリコンインゴット22の長手方向において研削布紙12の進行方向I前方側に配設される一対の前輪ガイドローラ26,28と、その一対の前輪ガイドローラ26,28に対して研削布紙12の進行方向I後方側に配置される一対の後輪ガイドローラ30,20と、その一対の前輪ガイドローラ26,28と一対の後輪ガイドローラ30,32との間に配置された一対の中間ガイドローラ34,36とがそれそれ同形状に円筒形状で備えられている。また、それらガイドローラ26,28,30,32,34,36は、弾性変形可能な例えばゴムで構成されており、そのゴム製のガイドローラにより一対のガイドローラ装置18,20をシリコンインゴット22の一対の側面22a,22bに当接させた際の衝撃が緩和される。   As shown in FIGS. 1 and 2, the pair of guide roller devices 18 and 20 are disposed substantially symmetrically with respect to the rotation axis A at the tip ends of the pair of leg portions 16 b and 16 c, and The guide roller devices 18 and 20 include a pair of front wheel guide rollers 26 and 28 disposed on the front side in the traveling direction I of the grinding cloth 12 in the longitudinal direction of the silicon ingot 22, and the pair of front wheel guide rollers 26 and 28. The pair of rear wheel guide rollers 30, 20 disposed on the rear side in the traveling direction I of the grinding cloth 12, and between the pair of front wheel guide rollers 26, 28 and the pair of rear wheel guide rollers 30, 32. And a pair of intermediate guide rollers 34 and 36 arranged in a cylindrical shape. The guide rollers 26, 28, 30, 32, 34, and 36 are made of elastically deformable rubber, for example, and the pair of guide roller devices 18 and 20 are connected to the silicon ingot 22 by the rubber guide rollers. The impact at the time of making it contact | abut to a pair of side surface 22a, 22b is relieved.

また、図1、図2に示すように、一対の前輪ガイドローラ26,28は一対の脚部16b,16cの先端部に一対的に固設された一対の軸部材26a,28aによってそれら軸部材26a,28aの軸心B,C回りに相対回転可能に配設され、一対の中間ガイドローラ34,36は一対の脚部16b,16cの先端部に一対的に固設された一対の軸部材34a,36aによってそれら軸部材34a,36aの軸心D,E回りに相対回転可能に配設され、一対の後輪ガイドローラ30,32は一対の脚部16b,16cの先端部に一対的に固設された一対の軸部材30a,32aによってそれら軸部材30a,32aの軸心F,G回りに相対回転可能に配設されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the pair of front wheel guide rollers 26 and 28 are paired with a pair of shaft members 26a and 28a fixed to the distal ends of the pair of leg portions 16b and 16c. A pair of shaft members, which are disposed so as to be relatively rotatable around the shaft centers B and C of 26a and 28a, and the pair of intermediate guide rollers 34 and 36 are fixedly paired at the distal ends of the pair of leg portions 16b and 16c. The pair of rear wheel guide rollers 30 and 32 are paired with the distal ends of the pair of leg portions 16b and 16c, respectively, by the shaft members 34a and 36a. A pair of fixed shaft members 30a, 32a are disposed so as to be relatively rotatable about the shaft centers F, G of the shaft members 30a, 32a.

図3は、シリコンインゴット面取り装置10をシリコンインゴット22の長手方向から見たすなわち図2のIII-III視面図である。その図3によれば、前輪ガイドローラ26、後輪ガイドローラ30、中間ガイドローラ34の軸部材26a,30a,34aは、それら軸心B,D,Fがそれぞれ略平行になるようにそれらの軸部材26a,30a,34aが脚部16bの先端部に配設され、前輪ガイドローラ28、後輪ガイドローラ32、中間ガイドローラ36の軸部材28a,34a,36aは、それら軸心C,E,Gがそれぞれ略平行になるようにそれらの軸部材28a,32a,36aが脚部16cの先端部に配設される。   3 is a view of the silicon ingot chamfering apparatus 10 as viewed from the longitudinal direction of the silicon ingot 22, that is, a III-III perspective view of FIG. According to FIG. 3, the shaft members 26a, 30a, 34a of the front wheel guide roller 26, the rear wheel guide roller 30, and the intermediate guide roller 34 are arranged so that their axis centers B, D, F are substantially parallel to each other. Shaft members 26a, 30a, and 34a are disposed at the distal end portion of the leg portion 16b, and the shaft members 28a, 34a, and 36a of the front wheel guide roller 28, the rear wheel guide roller 32, and the intermediate guide roller 36 have their axes C and E. , G are arranged at the tip of the leg 16c so that the shaft members 28a, 32a, 36a are substantially parallel to each other.

また、図3に示すように、一対の脚部16b,16cの先端部は、その先端部に固定された前輪ガイドローラ26、後輪ガイドローラ30、中間ガイドローラ34の軸部材26a,30a,34aの軸心B,D,Fと前輪ガイドローラ28、後輪ガイドローラ32、中間ガイドローラ36の軸部材28a,32a,36aの軸心C,E,Gとの交わる角度θ1が、シリコンインゴット22の一対の側面22a,22bが交わる角度θ2と略同じになるように折り曲げられた形状とされている。図3に示すシリコンインゴット22の断面は一対の中間ガイドローラ34,36の軸心D,Eを通る平面で切断させた断面図すなわち図2のシリコンインゴット22のJ−J視断面図である。また、本実施例では、前記交わる角度θ1は90度、シリコンインゴット22の一対の側面22a,22bが交わる角度θ2は90度である。また、本実施例では、一対のガイドローラ装置18,20は回転軸心Aに対して略対称に配置されており、図3に示すように回転軸心Aの延長線はそれら軸部材が交わる角度θ1を二等分にする二等分線である。   Further, as shown in FIG. 3, the front end portions of the pair of leg portions 16b and 16c are shaft members 26a, 30a of the front wheel guide roller 26, the rear wheel guide roller 30 and the intermediate guide roller 34 fixed to the front end portions. The angle θ1 at which the shaft centers B, D, and F of the shaft 34a intersect with the shaft centers C, E, and G of the shaft members 28a, 32a, and 36a of the front wheel guide roller 28, the rear wheel guide roller 32, and the intermediate guide roller 36 is a silicon ingot. The shape is bent so as to be substantially the same as the angle θ2 at which the pair of side surfaces 22a and 22b of 22 intersect. The cross section of the silicon ingot 22 shown in FIG. 3 is a cross sectional view cut along a plane passing through the axes D and E of the pair of intermediate guide rollers 34 and 36, that is, a cross sectional view taken along the line JJ of the silicon ingot 22 in FIG. In the present embodiment, the intersecting angle θ1 is 90 degrees, and the angle θ2 between the pair of side surfaces 22a and 22b of the silicon ingot 22 is 90 degrees. Further, in this embodiment, the pair of guide roller devices 18 and 20 are disposed substantially symmetrically with respect to the rotation axis A, and the extension members of the rotation axis A intersect with each other as shown in FIG. This is a bisector that bisects the angle θ1.

そのため、図3に示すように、一対の前輪ガイドローラ26,28、一対の中間ガイドローラ34,36、一対の後輪ガイドローラ30,32をそれぞれシリコンインゴット22の一対の側面22a,22b上に当接させると、シリコンインゴット22の角部22cの断面においてその角部22cの先端が研削布紙12の回転軸心A上に配置され且つその角部22cの先端の位置とその研削布紙12の下面12aの位置とが位置決めされ、研削布紙12によりシリコンインゴット22の角部22cを研削する研削高さHが決定される。また、研削高さHでシリコンインゴット22の角部22cを研削すると、その角部22cに面取りの幅Mの面取りが施される。   Therefore, as shown in FIG. 3, the pair of front wheel guide rollers 26 and 28, the pair of intermediate guide rollers 34 and 36, and the pair of rear wheel guide rollers 30 and 32 are respectively placed on the pair of side surfaces 22 a and 22 b of the silicon ingot 22. When abutting, the tip of the corner 22c of the cross section of the corner 22c of the silicon ingot 22 is disposed on the rotation axis A of the grinding cloth 12, and the position of the tip of the corner 22c and the grinding cloth 12 And the grinding height H at which the corner 22c of the silicon ingot 22 is ground by the grinding cloth 12 is determined. Further, when the corner portion 22c of the silicon ingot 22 is ground at the grinding height H, the corner portion 22c is chamfered with a chamfering width M.

図3,図4に示すように、フレーム16の一対の脚部16b,16cは、そのフレーム16の平板部16aの両端に固定されシリコンインゴット22の一対の側面22a,22b側に突き出す平板状の一対の固定板部材38と、その一対の固定板部材38に螺合する略円柱状の雄ねじ部40aとその雄ねじ部40aの一端に固設されるその雄ねじ部40aの径より大きい六角形状の頭部40bとを有し一対の固定板部材38のそれぞれに配設される四本の螺子部材(高さ調節装置)40と、それら螺子部材40のうちそれぞれ二本の螺子部材40の雄ねじ部40aを挿通させ且つその幅寸法Kが雄ねじ部40aの径より大きく頭部40bの径より小さい幅寸法に穿設された長手状の一対のガイド穴42aを有する一対の可動板部材42とから構成される。そのため、螺子部材40を締め付けることで可動板部材42が固定板部材38に固定される。また、螺子部材40が締結方向とは反対側に回動させられると、可動板部材42はその先端部に配設された一対のガイドローラ装置18,20をシリコンインゴット22の一対の側面22a,22b側に接近離間する移動が可能となる。すなわち、一対のガイドローラ装置18,20と研削布紙12との間隔が調節させられる。   As shown in FIGS. 3 and 4, the pair of leg portions 16 b and 16 c of the frame 16 are fixed to both ends of the flat plate portion 16 a of the frame 16 and have a flat plate shape protruding toward the pair of side surfaces 22 a and 22 b of the silicon ingot 22. A pair of fixed plate members 38, a substantially cylindrical male screw portion 40a screwed to the pair of fixed plate members 38, and a hexagonal head larger than the diameter of the male screw portion 40a fixed to one end of the male screw portion 40a Four screw members (height adjusting devices) 40 disposed on each of the pair of fixing plate members 38, and male screw portions 40a of two screw members 40 of the screw members 40, respectively. And a pair of movable plate members 42 having a pair of longitudinal guide holes 42a drilled to have a width dimension K larger than the diameter of the male screw portion 40a and smaller than the diameter of the head portion 40b. It is made. Therefore, the movable plate member 42 is fixed to the fixed plate member 38 by tightening the screw member 40. Further, when the screw member 40 is rotated in the direction opposite to the fastening direction, the movable plate member 42 replaces the pair of guide roller devices 18 and 20 disposed at the tip thereof with the pair of side surfaces 22a and 22a of the silicon ingot 22, respectively. Movement toward and away from the side 22b is possible. That is, the distance between the pair of guide roller devices 18 and 20 and the grinding cloth 12 is adjusted.

これにより、一対の可動板部材42の先端部をシリコンインゴット22の一対の側面22a,22b側に移動させると、図5に示すように研削布紙12によりシリコンインゴット22の角部22cを研削する研削高さHが変更させられシリコンインゴット22の角部22cに面取りされる面取り幅Mも変更させられる。   As a result, when the front ends of the pair of movable plate members 42 are moved to the pair of side surfaces 22a and 22b of the silicon ingot 22, the corner portions 22c of the silicon ingot 22 are ground by the grinding cloth 12, as shown in FIG. The grinding height H is changed, and the chamfering width M chamfered at the corner 22c of the silicon ingot 22 is also changed.

図3、図5に示すように一対のガイドローラ装置18,20において、一対の中間ガイドローラ34,36は、一対の前輪ガイドローラ26,28および一対の後輪ガイドローラ30,32に比較して研削布紙12側に接近して配設されており、一対のガイドローラ装置18,20のそれぞれのガイドローラ26,28,30,32,34,36がシリコンインゴット22の一対の側面22a,22bに当接された際それらガイドローラ26,28,30,32,34,36がシリコンインゴット22の一対の側面22a,22bに当接する当接幅Lが一対の中間ガイドローラ34,36が研削布紙12側に接近した分だけ長くなる。   As shown in FIGS. 3 and 5, in the pair of guide roller devices 18 and 20, the pair of intermediate guide rollers 34 and 36 are compared to the pair of front wheel guide rollers 26 and 28 and the pair of rear wheel guide rollers 30 and 32. The guide rollers 26, 28, 30, 32, 34, 36 of the pair of guide roller devices 18, 20 are arranged close to the grinding cloth 12 side. When the guide rollers 26, 28, 30, 32, 34, 36 abut against the pair of side surfaces 22 a, 22 b of the silicon ingot 22 when abutted against the 22 b, the pair of intermediate guide rollers 34, 36 are ground. It becomes longer by the amount closer to the cloth 12 side.

図2、図3に示すように、工具駆動装置14には小径円筒状の固定部14bが備えられ、フレーム16の平板部16aには、その固定部14bを嵌め入れた状態でそれを締め付けて固定する工具固定装置16bが設けられている。   As shown in FIGS. 2 and 3, the tool driving device 14 is provided with a small-diameter cylindrical fixing portion 14b, and the flat plate portion 16a of the frame 16 is tightened with the fixing portion 14b being fitted. A tool fixing device 16b for fixing is provided.

図2に示すように、フレーム16の平板部16aは、円板状の研削布紙12の下面12aにおける一対のガイドローラ装置18,20によるその研削布紙12の進行方向Iの後方側がシリコンインゴット22の角部22cと当接しその研削布紙12の下面12aにおけるその研削布紙12の進行方向Iの前方側がその角部22cから離間するように中間ガイドローラ36の軸心Eの延長線に対して所定角度θ3例えば5度程度傾斜するように、工具駆動装置14を支持する。   As shown in FIG. 2, the flat plate portion 16 a of the frame 16 has a silicon ingot on the lower side 12 a of the disc-shaped grinding cloth 12, the rear side of the traveling direction I of the grinding cloth 12 by the pair of guide roller devices 18, 20. 22 is in contact with the corner portion 22c of the intermediate guide roller 36 so that the front side of the lower surface 12a of the grinding cloth paper 12 in the traveling direction I of the grinding cloth paper 12 is separated from the corner portion 22c. The tool driving device 14 is supported so as to be inclined at a predetermined angle θ3, for example, about 5 degrees.

図3、図6に示すように、工具駆動装置14には研削布紙12を回転軸心A回りに回転させる略円柱形状の回転軸14cが備えられ、その回転軸14cの先端部にはその研削布紙12を取り付ける工具取付部材44が備えられる。また、工具取付部材44には、その先端が平面状の先端平面部44aと、その先端平面部44aに固着された表面が起毛状の第1布46とが備えられ、研削布紙12にはその研削布紙12の上面12bに固着された表面が鉤状の第2布48が貼り付けられる。第1布46、第2布48は、相互で着脱可能なファスナを構成し、研削布紙12がその第1布46と第2布48とを介して着脱可能に工具取付部材44に取り付けられる。また、図1に示すように、工具駆動装置14には、研削布紙12がシリコンインゴット22の角部22cを研削する際、シリコンインゴット22の角部22cおよび研削布紙12に水を供給する配水管50が備えられる。   As shown in FIGS. 3 and 6, the tool driving device 14 is provided with a substantially cylindrical rotating shaft 14c for rotating the grinding cloth 12 around the rotation axis A, and the tip of the rotating shaft 14c is provided with the rotating shaft 14c. A tool attachment member 44 for attaching the grinding cloth 12 is provided. The tool mounting member 44 includes a tip flat portion 44a having a flat tip, and a first cloth 46 having a raised surface fixed to the tip flat portion 44a. A second cloth 48 having a bowl-like surface fixed to the upper surface 12b of the ground cloth paper 12 is attached. The first cloth 46 and the second cloth 48 constitute a detachable fastener, and the ground cloth paper 12 is detachably attached to the tool attachment member 44 via the first cloth 46 and the second cloth 48. . Further, as shown in FIG. 1, when the grinding cloth 12 grinds the corner 22 c of the silicon ingot 22, water is supplied to the tool driving device 14 to the corner 22 c of the silicon ingot 22 and the grinding cloth 12. A water distribution pipe 50 is provided.

図7は、研削布紙12の下面12aを部分的に拡大した部分拡大図である。図7に示すように、研削布紙12には、基材層52の上にシリコンインゴット22の角部22cと接触する側の表面すなわち下面12aに硬化後のダイヤモンドペースト54から成るダイヤモンド層56が形成される。ダイヤモンドペースト54は、例えばスクリーン印刷などによって後述する研磨層58上に規則的に塗布される。なお、ダイヤモンドペースト54は、図7において菱形状あるいはストライプ形状で所定の間隔を隔てて規則的に塗布されているが、ダイヤモンドペースト54の塗布形状は、必要な研磨特性に合わせて適宜変更される。   FIG. 7 is a partially enlarged view in which the lower surface 12a of the grinding cloth 12 is partially enlarged. As shown in FIG. 7, the ground cloth 12 has a diamond layer 56 made of a hardened diamond paste 54 on the base layer 52 on the surface in contact with the corner 22c of the silicon ingot 22, that is, the lower surface 12a. It is formed. The diamond paste 54 is regularly applied on a polishing layer 58 described later by, for example, screen printing. The diamond paste 54 is regularly applied in a diamond shape or a stripe shape with a predetermined interval in FIG. 7, but the application shape of the diamond paste 54 is appropriately changed according to the required polishing characteristics. .

図8は、図7の研削布紙12切断して拡大した拡大断面図である。その図8によれば、研削布紙12は、基材層52と、研磨層58と、ダイヤモンド層56との三層構造で構成されており、基材層52は例えば可撓性を有するポリエステル布や綿の混合物等の耐水布、耐水紙で構成され、その基材層52の上面52aに研磨層58が形成される。また、研磨層58は例えばポリイミドやエポキシなどの液状樹脂から成る接着剤60を塗布した上に砥粒、ガラス粒、鉱物などからなる研磨材62を塗布して熱硬化させることで形成される。研磨層58が形成されることで研削布紙12の強度が増し、その上面58aに塗布されるダイヤモンドペースト54が強く保持される。また、ダイヤモンドペースト54は、ダイヤモンド砥粒64が混合されているポリイミドやエポキシなどの液状樹脂66からなり、研磨層58への塗布後に熱硬化させることでダイヤモンド層56が形成される。   FIG. 8 is an enlarged cross-sectional view of the grinding cloth 12 of FIG. 7 cut and enlarged. According to FIG. 8, the grinding cloth 12 is constituted by a three-layer structure of a base material layer 52, a polishing layer 58, and a diamond layer 56. The base material layer 52 is, for example, a flexible polyester. The polishing layer 58 is formed on the upper surface 52a of the base material layer 52. The polishing layer 58 is formed of a water-resistant cloth such as a cloth or a mixture of cotton and water-resistant paper. In addition, the polishing layer 58 is formed by applying an adhesive 60 made of a liquid resin such as polyimide or epoxy, and applying an abrasive 62 made of abrasive grains, glass grains, minerals, etc. and thermally curing. By forming the polishing layer 58, the strength of the grinding cloth 12 is increased, and the diamond paste 54 applied to the upper surface 58a is strongly held. The diamond paste 54 is made of a liquid resin 66 such as polyimide or epoxy mixed with diamond abrasive grains 64, and is thermally cured after being applied to the polishing layer 58 to form the diamond layer 56.

以上のように構成されたシリコンインゴット面取り装置10おいて、作業者が一対のガイドローラ装置18,20の一対の前輪ガイドローラ26,28をシリコンインゴット22の一端部のおける一対の側面22a,22b上にそれぞれ当接させた状態で、前記調節レバーを操作して研削布紙12を回転させると共に配水管50から水を供給させて、一対のガイドローラ装置18,20を進行方向Iに移動させる。それによって、研削布紙12の下面12aがシリコンインゴット22の中間部の角部22cを研削高さHで研削してシリコンインゴット22の中間部の角部22cに面取りが施される。   In the silicon ingot chamfering device 10 configured as described above, a pair of side surfaces 22a and 22b in which an operator places the pair of front wheel guide rollers 26 and 28 of the pair of guide roller devices 18 and 20 at one end of the silicon ingot 22 are arranged. In the state where they are in contact with each other, the adjustment lever is operated to rotate the grinding cloth 12 and supply water from the water distribution pipe 50 to move the pair of guide roller devices 18 and 20 in the traveling direction I. . As a result, the lower surface 12 a of the grinding cloth 12 grinds the corner portion 22 c of the intermediate portion of the silicon ingot 22 at the grinding height H, and the corner portion 22 c of the intermediate portion of the silicon ingot 22 is chamfered.

図9に示すように研削布紙12の下面12aがシリコンインゴット22の一端部上に配置され一対の後輪ガイドローラ30,32が一対の側面22a,22bから外れる状態では、一対の前輪ガイドローラ26,28と一対の中間ローラ34,36とをシリコンインゴット22の一対の側面22a,22bに当接させた状態でその一対の側面22a,22b上に沿って一対のガイドローラ装置18,20を進行方向Iへ移動させることができるので、研削布紙12の下面12aがシリコンインゴット22の一端部の角部22cを研削高さHで研削してシリコンインゴット22の一端部の角部22cに面取りが施される。   As shown in FIG. 9, when the lower surface 12a of the grinding cloth 12 is disposed on one end of the silicon ingot 22 and the pair of rear wheel guide rollers 30 and 32 are disengaged from the pair of side surfaces 22a and 22b, a pair of front wheel guide rollers 26 and 28 and a pair of intermediate rollers 34 and 36 in contact with the pair of side surfaces 22a and 22b of the silicon ingot 22, the pair of guide roller devices 18 and 20 are moved along the pair of side surfaces 22a and 22b. Since the lower surface 12a of the grinding cloth 12 can be moved in the traveling direction I, the corner 22c at one end of the silicon ingot 22 is ground at the grinding height H to chamfer the corner 22c at one end of the silicon ingot 22. Is given.

また、図10に示すように研削布紙12の下面12aがシリコンインゴット22の他端部上に配置され一対の前輪ガイドローラ26,28が一対の側面22a,22bから外れる状態では、一対の中間ローラ34,36と一対の後輪ガイドローラ30,32とを一対の側面22a,22bに当接させた状態でその一対の側面22a,22b上に沿って進行方向Iへ移動させることができるので、研削布紙12の下面12aはシリコンインゴット22の他端部の角部22cを研削高さHで角部22cを研削してシリコンインゴット22の他端部の角部22cに面取りが施される。   Further, as shown in FIG. 10, when the lower surface 12a of the grinding cloth 12 is disposed on the other end portion of the silicon ingot 22 and the pair of front wheel guide rollers 26, 28 are separated from the pair of side surfaces 22a, 22b, Since the rollers 34 and 36 and the pair of rear wheel guide rollers 30 and 32 are in contact with the pair of side surfaces 22a and 22b, they can be moved in the traveling direction I along the pair of side surfaces 22a and 22b. The lower surface 12 a of the grinding cloth 12 is chamfered at the corner 22 c at the other end of the silicon ingot 22 by grinding the corner 22 c at the grinding height H at the corner 22 c at the other end of the silicon ingot 22. .

本実施例のシリコンインゴット面取り装置10によれば、一対のガイドローラ装置18,20をそれぞれシリコンインゴット18,20の一対の側面22a,22b上に当接させた状態でその一対のガイドローラ装置18,20をその一対の側面22a,22bに沿ってシリコンインゴット22の長手方向に移動させると、円板状の研削布紙(円板状研削工具)12はシリコンインゴット22の角部の断面においてその円板状の研削布紙12の下面12aの位置と角部22cの先端の位置とが位置決めされながらその円板状の研削布紙12の下面12aによって略一定の研削高さHで角部22cを研削してシリコンインゴット22の長手方向に案内されるので、シリコンインゴット22の角部22cを研削高さHだけ研削しその研削により形成された角部22cの面取りの幅Mが従来のシリコンインゴット面取り装置に比較して能率良く一定にされる。   According to the silicon ingot chamfering device 10 of the present embodiment, the pair of guide roller devices 18 and 20 are in contact with the pair of side surfaces 22a and 22b of the silicon ingots 18 and 20, respectively. , 20 is moved in the longitudinal direction of the silicon ingot 22 along the pair of side surfaces 22a, 22b, the disk-shaped grinding cloth (disk-shaped grinding tool) 12 is shown in its cross section at the corner of the silicon ingot 22. While the position of the lower surface 12a of the disc-shaped grinding cloth paper 12 and the position of the tip of the corner portion 22c are positioned, the corner portion 22c has a substantially constant grinding height H by the lower surface 12a of the disc-shaped grinding cloth paper 12. And is guided in the longitudinal direction of the silicon ingot 22, so that the corner 22 c of the silicon ingot 22 is ground by the grinding height H and shaped by grinding. Width M of the chamfer of the angular part 22c is in comparison to efficiently constant conventional silicon ingot chamfering device.

また、本実施例のシリコンインゴット面取り装置10によれば、一対のガイドローラ装置18,20には、シリコンインゴット22の長手方向において研削布紙12の進行方向I前方側に配設される一対の前輪ガイドローラ26,28と、その一対の前輪ガイドローラ26,28に対して研削布紙12の進行方向I後方側に配置される一対の後輪ガイドローラ30,32と、その一対の前輪ガイドローラ26,28とその一対の後輪ガイドローラ30,32との間に配置される一対の中間ガイドローラ34,36とを備えるものである。そのため、シリコンインゴット22の一端部の角部22cおよびその他端部の角部22cを研削布紙12で研削する際、例えば一対の前輪ガイドローラ26,28および一対の後輪ガイドローラ30,32の一方がシリコンインゴット22の一対の側面22a,22bから外れても、シリコンインゴット22の角部22cにおける研削布紙12の位置が一対の中間ガイドローラ34,36と一対の前輪ガイドローラ26,28および一対の後輪ガイドローラ30,32の他方とがシリコンインゴット22の一対の側面22a,22b上に当接されていることによってずれ難くなるので、シリコンインゴット22の一端部の角部22cおよびその他端部の角部22cに一層高精度の面取りが施される。   Further, according to the silicon ingot chamfering device 10 of the present embodiment, the pair of guide roller devices 18 and 20 are provided on the pair of guide roller devices 18 and 20 on the front side in the traveling direction I of the grinding cloth 12 in the longitudinal direction of the silicon ingot 22. Front wheel guide rollers 26, 28, a pair of rear wheel guide rollers 30, 32 disposed on the rear side in the traveling direction I of the grinding cloth 12 with respect to the pair of front wheel guide rollers 26, 28, and the pair of front wheel guides A pair of intermediate guide rollers 34 and 36 disposed between the rollers 26 and 28 and the pair of rear wheel guide rollers 30 and 32 are provided. Therefore, when the corner 22c at one end of the silicon ingot 22 and the corner 22c at the other end are ground with the grinding cloth 12, for example, a pair of front wheel guide rollers 26, 28 and a pair of rear wheel guide rollers 30, 32 are provided. Even if one side is removed from the pair of side surfaces 22a, 22b of the silicon ingot 22, the position of the grinding cloth 12 at the corner 22c of the silicon ingot 22 is the pair of intermediate guide rollers 34, 36 and the pair of front wheel guide rollers 26, 28. Since the other of the pair of rear wheel guide rollers 30 and 32 is in contact with the pair of side surfaces 22 a and 22 b of the silicon ingot 22, the corners 22 c at one end of the silicon ingot 22 and the other ends are difficult to shift. The corner 22c of the part is chamfered with higher accuracy.

また、本実施例のシリコンインゴット面取り装置10によれば、一対の中間ガイドローラ34,36は、一対の前輪ガイドローラ26,28および一対の後輪ガイドローラ30,32に比較して研削布紙12側に接近して配置されているため、一対のガイドローラ装置18,20の複数のガイドローラ26,28,30,32,34,36がそれぞれシリコンインゴット22の一対の側面22a,22bに当接された際、シリコンインゴット22の角部22cの断面におけるその複数のガイドローラ26,28,30,32,34,36がそのシリコンインゴット22の一対の側面22a,22bに当接する当接幅Lが長くなり、フレーム16がシリコンインゴット22の軸心回りにずれ難くなって一層高精度の面取りが施される。   Further, according to the silicon ingot chamfering apparatus 10 of the present embodiment, the pair of intermediate guide rollers 34 and 36 are ground cloth paper as compared with the pair of front wheel guide rollers 26 and 28 and the pair of rear wheel guide rollers 30 and 32. Since the two guide rollers 26, 28, 30, 32, 34, 36 of the pair of guide roller devices 18, 20 contact the pair of side surfaces 22 a, 22 b of the silicon ingot 22, respectively. The contact width L with which the plurality of guide rollers 26, 28, 30, 32, 34, 36 in the cross section of the corner 22 c of the silicon ingot 22 contacts the pair of side surfaces 22 a, 22 b of the silicon ingot 22 when contacted. And the frame 16 is less likely to be displaced around the axis of the silicon ingot 22, and chamfering with higher accuracy is performed.

また、本実施例のシリコンインゴット面取り装置10によれば、フレーム16の脚部16b,16cには、一対のガイドローラ装置18,20と研削布紙12との間隔を調節するための四本の螺子部材(高さ調節装置)40が備えられているため、その四本の螺子部材40を調節することによって先端部に一対のガイドローラ装置18,20が配設された可動板部材42をシリコンインゴット22の一対の側面22a,22b側に接近離間移動可能となり研削高さHを自由に設定でき、円板状の研削布紙12がシリコンインゴット22の角部22cを研削する面取りの幅Mの大きさを自由に設定できる。   Further, according to the silicon ingot chamfering device 10 of the present embodiment, the leg portions 16b and 16c of the frame 16 are provided with four pieces for adjusting the distance between the pair of guide roller devices 18 and 20 and the grinding cloth paper 12. Since the screw member (height adjusting device) 40 is provided, by adjusting the four screw members 40, the movable plate member 42 having the pair of guide roller devices 18 and 20 disposed at the distal end portion is made of silicon. The pair of side surfaces 22a and 22b of the ingot 22 can be moved toward and away from each other, the grinding height H can be set freely, and the chamfering width M of the disc-shaped grinding cloth 12 grinding the corner portion 22c of the silicon ingot 22 can be set. The size can be set freely.

また、本実施例のシリコンインゴット面取り装置10によれば、フレーム16は、研削布紙12の下面12aにおける一対のガイドローラ装置18,20によるその研削布紙12の進行方向Iの後方側がシリコンインゴット22の角部22cと当接しその研削布紙12の下面12aにおけるその研削布紙12の進行方向Iの前方側がその角部22cから離間するように傾斜するように、工具駆動装置14を支持するため、研削布紙12の下面12aがシリコンインゴット22の角部22cに当接して研削されるにおいてその研削布紙12の進行方向の前方から後方にむかうに連れて研削布紙12がシリコンインゴット22の角部22cの研削する研削高さHが徐々に高くなるのでそのシリコンインゴット22の角部22cが能率良く高い面精度で研削される。また、本実施例のシリコンインゴット面取り装置10によれば、研削布紙12の下面12aには、ダイヤモンド砥粒64を有するダイヤモンド層56が備えられているので、その研削布紙12の下面12aによってシリコンインゴット22の角部22cが能率良く高い面精度で研削される。   Further, according to the silicon ingot chamfering apparatus 10 of the present embodiment, the frame 16 is configured such that the rear side in the traveling direction I of the grinding cloth paper 12 by the pair of guide roller devices 18 and 20 on the lower surface 12a of the grinding cloth paper 12 is a silicon ingot. The tool driving device 14 is supported so that the front side in the traveling direction I of the grinding cloth 12 on the lower surface 12a of the grinding cloth 12 is inclined so as to be separated from the corner 22c. Therefore, when the lower surface 12a of the abrasive cloth 12 is in contact with the corner portion 22c of the silicon ingot 22 and is ground, the abrasive cloth 12 is moved from the front to the rear in the traveling direction of the abrasive cloth 12. Since the grinding height H at which the corner portion 22c is ground is gradually increased, the corner portion 22c of the silicon ingot 22 is efficiently and highly polished. In the ground. Further, according to the silicon ingot chamfering apparatus 10 of the present embodiment, the lower surface 12a of the ground cloth paper 12 is provided with the diamond layer 56 having the diamond abrasive grains 64. The corner 22c of the silicon ingot 22 is ground efficiently and with high surface accuracy.

また、本実施例のシリコンインゴット面取り装置10によれば、工具駆動装置14は、円板状の研削布紙12を回転軸心A回りに回転させる回転軸14cと、その回転軸14cの先端部に研削布紙12を取り付ける工具取付部材44とを備え、その工具取付部材44の先端平面部44aには、表面が起毛状の第1布46が固着され、円板状の研削布紙12の上面12bには、表面が鉤状の第2布48が固着されるものであって、円板状の研削布紙12は、第1布46および第2布48によって工具取付部材44の先端平面44aに脱着可能に取り付けられるため、円板状の研削布紙12をシリコンインゴット面取り装置10から容易に取り外し且つ取り付けられると共に、円板状の研削布紙12の下面12aがシリコンインゴット22の角部22cに当接し研削される際の衝撃が第1布46および第2布48によって緩衝されるので研削中のシリコンインゴット22の角部22cの欠けが好適に抑えられる。   Further, according to the silicon ingot chamfering device 10 of the present embodiment, the tool driving device 14 includes the rotating shaft 14c that rotates the disc-shaped grinding cloth 12 around the rotation axis A, and the tip end portion of the rotating shaft 14c. And a tool attachment member 44 for attaching the grinding cloth 12 to the tip flat portion 44a of the tool attachment member 44. A second cloth 48 having a bowl-like surface is fixed to the upper surface 12 b, and the disk-shaped ground cloth paper 12 is flattened by the first cloth 46 and the second cloth 48 on the tip end surface of the tool attachment member 44. 44a, the disc-shaped grinding cloth 12 can be easily detached and attached from the silicon ingot chamfering device 10, and the lower surface 12a of the disc-shaped grinding cloth 12 is a corner of the silicon ingot 22. Impact when being in contact with ground to 2c chipping of the corner portion 22c of the silicon ingot 22 during grinding because it is buffered by the first fabric 46 and second fabric 48 is suitably suppressed.

次に、本発明の他の実施例を説明する。なお、以下の他の実施例において実施例相互間で共通する部分には同一の符号を付して説明を省略する。   Next, another embodiment of the present invention will be described. In the following other embodiments, portions common to the embodiments are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

本実施例のシリコンインゴット面取り装置は、前述の一対のガイドローラ装置18,20おいて一対の中間ガイドローラ34,36の配置位置が異なる一対の中間ガイドローラ68,70を備える以外は実施例1のシリコンインゴット面取り装置10と略同様であって、図11はその一対の中間ガイドローラ68,70を説明する図であり、前述の実施例1の図3に略対応するものである。   The silicon ingot chamfering apparatus according to the present embodiment is a first embodiment except that the pair of intermediate guide rollers 68 and 70 are different from each other in the pair of guide roller apparatuses 18 and 20 described above. FIG. 11 is a view for explaining the pair of intermediate guide rollers 68 and 70, and corresponds to FIG. 3 of the first embodiment.

図11に示すように、一対の中間ガイドローラ68,70は、一対の前輪ガイドローラ26,28と一対の後輪ガイドローラ30,32との間にそれらガイドローラ26,28,30,32と同形状に一対の脚部16b,16cの先端部に回転軸心Aに略対称に配設される。また、図11に示すように、一対の中間ガイドローラ68,70は、その一対の脚部16b,16cの先端部に一対的に固設された一対の軸部材68a,70aによってそれら軸部材68a,70aの軸心N,O回りに相対回転可能に配設される。   As shown in FIG. 11, the pair of intermediate guide rollers 68, 70 includes a guide roller 26, 28, 30, 32 between the pair of front wheel guide rollers 26, 28 and the pair of rear wheel guide rollers 30, 32. The same shape is disposed substantially symmetrically with respect to the rotational axis A at the distal ends of the pair of leg portions 16b and 16c. Further, as shown in FIG. 11, the pair of intermediate guide rollers 68 and 70 are paired with a pair of shaft members 68a and 70a fixed to the tip ends of the pair of leg portions 16b and 16c. , 70a are arranged so as to be relatively rotatable around the axis N, O.

また、図11に示すように、中間ガイドローラ68の軸部材68aの軸心Nは、前輪ガイドローラ26、後輪ガイドローラ30の軸部材26a,30aの軸心B,Fとそれぞれ略平行になるように脚部16bの先端部に固設され、中間ガイドローラ70の軸部材70aの軸心Oは、前輪ガイドローラ28、後輪ガイドローラ32の軸部材28a,32aの軸心C,Gとそれぞれ略平行になるように脚部16cの先端部に固設される。また、図11に示すように、一対の中間ガイドローラ68,70は、一対の前輪ガイドローラ26,28および一対の後輪ガイドローラ30,32に比較してそれら軸部材26a,28a,30a,32aの軸心B,C,F,G,Eに対してそれぞれ平行にシリコンインゴット22の一対の側面22a,22b側に接近して配設される。すなわち、一対の中間ガイドローラ68,70が、シリコンインゴット22の一対の側面22a,22bに接触された状態において、一対の前輪ガイドローラ26,28および一対の後輪ガイドローラ30,32は、シリコンインゴット22の角部22cに隣接する一対の側面22a,22bから所定距離Pだけ離間するように配設される。   11, the shaft center N of the shaft member 68a of the intermediate guide roller 68 is substantially parallel to the shaft centers B and F of the shaft members 26a and 30a of the front wheel guide roller 26 and the rear wheel guide roller 30, respectively. The shaft center O of the shaft member 70a of the intermediate guide roller 70 is fixed to the tip end portion of the leg portion 16b so that the shaft centers C and G of the shaft members 28a and 32a of the front wheel guide roller 28 and the rear wheel guide roller 32 are formed. Are fixed to the tip of the leg 16c so as to be substantially parallel to each other. Further, as shown in FIG. 11, the pair of intermediate guide rollers 68 and 70 are provided with shaft members 26a, 28a, 30a, A pair of side surfaces 22a and 22b of the silicon ingot 22 are arranged close to each other in parallel to the shaft centers B, C, F, G and E of 32a. That is, in a state where the pair of intermediate guide rollers 68 and 70 are in contact with the pair of side surfaces 22a and 22b of the silicon ingot 22, the pair of front wheel guide rollers 26 and 28 and the pair of rear wheel guide rollers 30 and 32 The ingot 22 is disposed so as to be separated from the pair of side surfaces 22a and 22b adjacent to the corner portion 22c by a predetermined distance P.

また、図11に示すように、中間ガイドローラ68の軸部材68aの軸心Nと中間ガイドローラ70の軸部材70aの軸心Oとの交わる角度θ4はシリコンインゴット22の一対の側面22a,22bが交わる角度θ2と略同じになっている。そのため、一対の中間ガイドローラ68,70をそれぞれシリコンインゴット22の一対の側面22a,22b上に当接させると、シリコンインゴット22の角部22cの断面においてその角部22cの先端が研削布紙12の回転軸心A上に配置され且つその角部22cの先端の位置とその研削布紙12の下面12aの位置とが位置決めさせられ研削布紙12によりシリコンインゴット22の角部22cを研削する研削高さHが決定する。   As shown in FIG. 11, the angle θ4 between the axis N of the shaft member 68a of the intermediate guide roller 68 and the axis O of the shaft member 70a of the intermediate guide roller 70 is a pair of side surfaces 22a, 22b of the silicon ingot 22. Is substantially the same as the angle θ2 at which. Therefore, when the pair of intermediate guide rollers 68 and 70 are brought into contact with the pair of side surfaces 22a and 22b of the silicon ingot 22, respectively, the tip of the corner 22c in the cross section of the corner 22c of the silicon ingot 22 is the abrasive cloth 12. And the position of the tip of the corner 22c and the position of the lower surface 12a of the grinding cloth 12 are positioned and the corner 22c of the silicon ingot 22 is ground by the grinding cloth 12. Height H is determined.

本実施例のシリコンインゴット面取り装置によれば、一対の中間ガイドローラ68,70が、シリコンインゴット22の角部22cに隣接する一対の側面22a,22bに接触された状態において、一対の前輪ガイドローラ26,28および一対の後輪ガイドローラ30,32は、シリコンインゴット22の角部22cに隣接する一対の側面22a,22bから所定距離Pだけ離間するように配設されるため、例えば一対の前輪ガイドローラ26,28、一対の中間ガイドローラ68,70および一対の後輪ガイドローラ30,32をそれぞれシリコンインゴット22の一対の側面22a,22bに当接させなくても、一対の中間ガイドローラ68,70をシリコンインゴット22の一対の側面22a,22bに当接させるだけで円板状の研削布紙12をシリコンインゴット22の角部22cに容易に位置決めされる。   According to the silicon ingot chamfering apparatus of the present embodiment, a pair of front wheel guide rollers in a state where the pair of intermediate guide rollers 68 and 70 are in contact with the pair of side surfaces 22a and 22b adjacent to the corner portion 22c of the silicon ingot 22. 26 and 28 and the pair of rear wheel guide rollers 30 and 32 are disposed so as to be separated from the pair of side surfaces 22a and 22b adjacent to the corner 22c of the silicon ingot 22 by a predetermined distance P, for example, a pair of front wheels Even if the guide rollers 26 and 28, the pair of intermediate guide rollers 68 and 70, and the pair of rear wheel guide rollers 30 and 32 are not brought into contact with the pair of side surfaces 22a and 22b of the silicon ingot 22, respectively, the pair of intermediate guide rollers 68 , 70 is brought into contact with the pair of side surfaces 22a, 22b of the silicon ingot 22 so as to make a disk-shaped abrasive. The fabric sheet 12 is easily positioned in the corner 22c of the silicon ingot 22.

以上、本発明の実施例を図面に基づいて説明したが、本発明はその他の態様においても適応される。   As mentioned above, although the Example of this invention was described based on drawing, this invention is applied also in another aspect.

例えば、本実施例のシリコンインゴット面取り装置10において、一対のガイドローラ装置18,20には、一対の前輪ガイドローラ26,28、一対の後輪ガイドローラ30,32、一対の中間ガイドローラ34,36の計6輪のガイドローラが使用されたが、一対のガイドローラ装置18,20には必ずしも6輪のガイドローラが使用される必要はなく2輪以上であれば一対のガイドローラ装置18,20の機能を有する。さらに、ガイドローラが6輪以上であっても良い。   For example, in the silicon ingot chamfering device 10 of the present embodiment, the pair of guide roller devices 18 and 20 include a pair of front wheel guide rollers 26 and 28, a pair of rear wheel guide rollers 30 and 32, a pair of intermediate guide rollers 34, Although a total of 36 guide rollers were used, the pair of guide roller devices 18 and 20 do not necessarily need to use 6 guide rollers. It has 20 functions. Furthermore, six or more guide rollers may be used.

また、本実施例のシリコンインゴット面取り装置10において、工具取付部材44の先端平面部44aには、表面が起毛状の第1布46が固着され、円板状の研削布紙12の上面12bには、表面が鉤状の第2布48が固着されていたが、研削布紙12の上面12bに第1布46が固着され工具取付部材44の先端平面部44aに第2布48が固着されても良い。   Further, in the silicon ingot chamfering device 10 of the present embodiment, a first cloth 46 having a raised surface is fixed to the tip flat surface portion 44 a of the tool mounting member 44, and is attached to the upper surface 12 b of the disc-shaped grinding cloth paper 12. The second cloth 48 having a bowl-like surface is fixed, but the first cloth 46 is fixed to the upper surface 12b of the ground cloth paper 12, and the second cloth 48 is fixed to the tip flat surface portion 44a of the tool mounting member 44. May be.

その他一々例示はしないが、本発明は当業者の知識に基づいて種々の変更、改良を加えた態様で実施することができる。   Although not illustrated one by one, the present invention can be implemented in variously modified and improved modes based on the knowledge of those skilled in the art.

10:シリコンインゴット面取り装置
12:研削布紙(円板状研削工具)
12a:下面
14:工具駆動装置
14c:回転軸
16:フレーム
16a:平板部(工具支持部)
16b,16c:一対の脚部
18,20:一対のガイドローラ装置
22:シリコンインゴット
22a,22b:一対の側面
22c:角部
26,28:一対の前輪ガイドローラ
30,32:一対の後輪ガイドローラ
34,36、68,70:一対の中間ガイドローラ
40:螺子部材(高さ調節装置)
46:第1布
48:第2布
A:回転軸心
I:進行方向
10: Silicon ingot chamfering device 12: Grinding cloth (disk-shaped grinding tool)
12a: Lower surface 14: Tool drive device 14c: Rotating shaft 16: Frame 16a: Flat plate portion (tool support portion)
16b, 16c: a pair of legs 18, 20: a pair of guide roller devices 22: silicon ingots 22a, 22b: a pair of side surfaces 22c: corners 26, 28: a pair of front wheel guide rollers 30, 32: a pair of rear wheel guides Rollers 34, 36, 68, 70: A pair of intermediate guide rollers 40: Screw members (height adjusting device)
46: First cloth 48: Second cloth A: Axis of rotation I: Direction of travel

Claims (7)

四角柱状に製造されたシリコンインゴットの角部に所定回転軸心回りに回転する円板状研削工具の下面が当接させることにより該シリコンインゴッドの角部に面取りを施す研削をするシリコンインゴット面取り装置であって、
前記研削工具を前記回転軸心回りに駆動する工具駆動装置が装着された工具支持部と該工具支持部の両端から該工具駆動装置とは反対側へ突き出す一対の脚部とを有するフレームと、
前記回転軸心に対して対称且つ前記シリコンインゴットの所定の角部に隣接する一対の側面に当接するように前記フレームの脚部に設けられた一対のガイドローラ装置とを備え、
前記一対のガイドローラ装置は、前記シリコンインゴットの一対の側面上に沿って前記研削工具を該シリコンインゴットの長手方向に案内することを特徴とするシリコンインゴット面取り装置。
A silicon ingot chamfering apparatus that performs chamfering on a corner of the silicon ingot by bringing a lower surface of a disk-like grinding tool rotating around a predetermined rotation axis into contact with a corner of the silicon ingot manufactured in a quadrangular prism shape. Because
A frame having a tool support portion to which a tool driving device for driving the grinding tool around the rotation axis is mounted, and a pair of legs protruding from opposite ends of the tool support portion to the opposite side of the tool driving device;
A pair of guide roller devices provided on leg portions of the frame so as to be in contact with a pair of side surfaces adjacent to a predetermined corner of the silicon ingot symmetrical to the rotation axis;
The pair of guide roller devices guide the grinding tool along the longitudinal direction of the silicon ingot along a pair of side surfaces of the silicon ingot.
前記一対のガイドローラ装置には、前記シリコンインゴットの長手方向において前記研削工具の進行方向前方側に配設される一対の前輪ガイドローラと、該一対の前輪ガイドローラに対して前記研削工具の進行方向後方側に配置される一対の後輪ガイドローラと、該一対の前輪ガイドローラと該一対の後輪ガイドローラとの間に配置された一対の中間ガイドローラとを備えることを特徴とする請求項1のシリコンインゴット面取り装置。   The pair of guide roller devices includes a pair of front wheel guide rollers disposed on the front side in the traveling direction of the grinding tool in the longitudinal direction of the silicon ingot, and the progress of the grinding tool with respect to the pair of front wheel guide rollers. A pair of rear wheel guide rollers disposed on the rear side in the direction, and a pair of intermediate guide rollers disposed between the pair of front wheel guide rollers and the pair of rear wheel guide rollers. Item 2. A silicon ingot chamfering device according to item 1. 前記一対の中間ガイドローラは、前記一対の前輪ガイドローラおよび前記一対の後輪ガイドローラに比較して前記研削工具側に接近して配置されていることを特徴とする請求項2のシリコンインゴット面取り装置。   3. The silicon ingot chamfer according to claim 2, wherein the pair of intermediate guide rollers are disposed closer to the grinding tool side than the pair of front wheel guide rollers and the pair of rear wheel guide rollers. apparatus. 前記一対の中間ガイドローラが、前記シリコンインゴットの角部に隣接する一対の側面に接触された状態において、
前記一対の前輪ガイドローラおよび前記一対の後輪ガイドローラは、前記シリコンインゴットの角部に隣接する一対の側面から所定距離だけ離間するように配設されることを特徴とする請求項2または3のシリコンインゴット面取り装置。
In a state where the pair of intermediate guide rollers are in contact with a pair of side surfaces adjacent to a corner of the silicon ingot,
4. The pair of front wheel guide rollers and the pair of rear wheel guide rollers are disposed so as to be separated from each other by a predetermined distance from a pair of side surfaces adjacent to corner portions of the silicon ingot. Silicon ingot chamfering device.
前記フレームの脚部には、前記一対のガイドローラ装置と前記研削工具との間隔を調節するための高さ調節装置が備えられていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1のシリコンインゴット面取り装置。   The height adjustment device for adjusting the space | interval of the said pair of guide roller apparatus and the said grinding tool is provided in the leg part of the said frame, The any one of Claim 1 thru | or 4 characterized by the above-mentioned. Silicon ingot chamfering device. 前記フレームは、前記研削工具の下面における前記一対のガイドローラ装置による該研削工具の進行方向の後方側が前記シリコンインゴットの角部と当接しその研削工具の下面における該研削工具の進行方向の前方側が該角部から離間するように傾斜するように、前記工具駆動装置を支持することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1のシリコンインゴット面取り装置。   In the frame, the rear side in the traveling direction of the grinding tool by the pair of guide roller devices on the lower surface of the grinding tool is in contact with the corner of the silicon ingot, and the front side in the traveling direction of the grinding tool is on the lower surface of the grinding tool. The silicon ingot chamfering device according to any one of claims 1 to 5, wherein the tool driving device is supported so as to be inclined away from the corner portion. 前記工具駆動装置は、前記円板状研削工具を前記回転軸心回りに回転させる回転軸を備え、
前記回転軸の先端面には、布地の表面が起毛状の第1布と布地の表面が鉤状の第2布とのいずれか一方の布が固着され、前記円板状研削工具の上面には、その他方の布が固着されるものであって、
前記円板状研削工具は、前記第1布および第2布によって前記回転軸の先端面に脱着可能に取り付けられることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1のシリコンインゴット面取り装置。
The tool driving device includes a rotation shaft that rotates the disk-shaped grinding tool around the rotation axis,
One of the first cloth having a brushed surface and the second cloth having a hooked surface is fixed to the tip surface of the rotating shaft, and is attached to the upper surface of the disk-shaped grinding tool. Is the one to which the other fabric is fixed,
The silicon ingot chamfering device according to any one of claims 1 to 6, wherein the disk-shaped grinding tool is detachably attached to a tip surface of the rotating shaft by the first cloth and the second cloth.
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