JP2011231027A - ジスルフィド結合を有するベンゾオキサジン化合物およびその製造法 - Google Patents

ジスルフィド結合を有するベンゾオキサジン化合物およびその製造法 Download PDF

Info

Publication number
JP2011231027A
JP2011231027A JP2010100801A JP2010100801A JP2011231027A JP 2011231027 A JP2011231027 A JP 2011231027A JP 2010100801 A JP2010100801 A JP 2010100801A JP 2010100801 A JP2010100801 A JP 2010100801A JP 2011231027 A JP2011231027 A JP 2011231027A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
disulfide bond
benzoxazine compound
disulfide
producing
general formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010100801A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5636726B2 (ja
Inventor
Nao Sato
奈央 佐藤
Kazunori Ishikawa
和憲 石川
Takeshi Endo
剛 遠藤
Asei William Kawaguchi
川口亜星・ウイリアム
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yokohama Rubber Co Ltd
Original Assignee
Yokohama Rubber Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yokohama Rubber Co Ltd filed Critical Yokohama Rubber Co Ltd
Priority to JP2010100801A priority Critical patent/JP5636726B2/ja
Publication of JP2011231027A publication Critical patent/JP2011231027A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5636726B2 publication Critical patent/JP5636726B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Abstract

【課題】熱や光で開裂し、ラジカルを生成することのできるジスルフィド結合を有するベンゾオキサジン化合物およびその製造法を提供する。
【解決手段】一般式
Figure 2011231027

(R1：炭素数1〜18のアルキル基、アリール基またはアルキル基置換アリール基)で表わされるジスルフィド結合を有するベンゾオキサジン化合物が提供される。上記一般式〔I〕において、R1がフェニル基であるジスルフィド結合を有するベンゾオキサジン化合物は、ビス(4-ヒドロキシルフェニル)ジスルフィド〔II〕を、ヘキサヒドロ-1,3,5-トリフェニル-1,3,5-トリアジンおよびホルムアルデヒドと反応させることによって製造される。
【選択図】図１

Description

本発明は、ジスルフィド結合を有するベンゾオキサジン化合物およびその製造法に関する。さらに詳しくは、熱や光で開裂し、ラジカルを生成することのできるジスルフィド結合を有するベンゾオキサジン化合物およびその製造法に関する。
特許文献１には、ベンゾオキサジン環を有する化合物、エポキシ樹脂、芳香族アミン硬化剤およびプロトン酸のエステルを含有するベンゾオキサジン樹脂組成物が記載されており、このベンゾオキサジン樹脂組成物は、それを強化繊維基材に含浸させたプリプレグ、このプリプレグを硬化させた繊維強化複合材料等に用いられると記載されている。
このベンゾオキサジン樹脂組成物中のベンゾオキサジン環を有する化合物の一例として、ビス(3,4-ジヒドロ-3-フェニル-2H-1,3-ベンゾオキサジン)モノスルフィドが挙げられてはいるが、対応するジスルフィド化合物については従来知られていない。
特開２００８−９４９６１号公報
Bull. Chem. Soc. JP. 41巻 2082〜6頁 (1968)
本発明の目的は、熱や光で開裂し、ラジカルを生成することのできるジスルフィド結合を有するベンゾオキサジン化合物およびその製造法を提供することにある。
本発明によって、一般式
Figure 2011231027
(ここで、R1はヘテロ原子を有してもよい、炭素数1〜18のアルキル基、アリール基または炭素数1〜18のアルキル基で置換されたアリール基である)で表わされるジスルフィド結合を有するベンゾオキサジン化合物が提供される。
上記一般式〔I〕において、R1がフェニル基であるジスルフィド結合を有するベンゾオキサジン化合物は、一般式
Figure 2011231027
で表わされるビス(4-ヒドロキシルフェニル)ジスルフィドを、ヘキサヒドロ-1,3,5-トリフェニル-1,3,5-トリアジンおよびホルムアルデヒドと反応させることによって製造される。
本発明によって、新規化合物であるジスルフィド結合を有するベンゾオキサジン化合物が提供される。このジスルフィド結合を有するベンゾオキサジン化合物は、熱や光で-S-S-結合が開裂し、ラジカルを生成させるので、アクリル系樹脂や二重結合を有する各種ゴムの改質剤、粘着付与剤等として有用である。これに対して、既存のモノスルフィド結合を有する化合物は、モノスルフィドに反応性がないので、樹脂やゴムの変性剤としては使用できない。
実施例で得られた反応生成物の1H-NMRスペクトルである 実施例で得られた反応生成物の13C-NMRスペクトルである
前記一般式〔I〕において、、R1がフェニル基であるジスルフィド結合を有するベンゾオキサジン化合物は、一般式〔II〕で表わされるビス(4-ヒドロキシルフェニル)ジスルフィドを、ヘキサヒドロ-1,3,5-トリフェニル-1,3,5-トリアジンおよびホルムアルデヒドと反応させることによって製造される。
この反応の出発原料の一つであるビス(4-ヒドロキシルフェニル)ジスルフィドは公知の化合物であり、例えば非特許文献１に記載されている。出発原料の他の一つであるヘキサヒドロ-1,3,5-トリフェニル-1,3,5-トリアジンは、アニリンにメチレン基を形成させるパラホルムアルデヒドを反応させることにより得られる。これらの各出発原料と共にホルムアルデヒドが用いられ、ホルムアルデヒドとしては、一般にパラホルムアルデヒドが、オキサジン環のメチレン基形成のために用いられる。
これらの各出発原料は、理論的にはビス(4-ヒドロキシルフェニル)ジスルフィド 3モルに対し、ヘキサヒドロ-1,3,5-トリフェニル-1,3,5-トリアジンが2モル、ホルムアルデヒドが6モルの割合で反応に用いられる。反応は、トルエン、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等の溶媒を用い、その還流温度に約1〜6時間程度加熱することによって行われる。反応終了後は、反応に用いられた溶媒を減圧下で留去し、残渣を水酸化ナトリウム水溶液および水で洗浄して、精製が行われる。
前記一般式〔I〕において、R1はアリール基以外に炭素数1〜18のアルキル基または炭素数1〜18のアルキル基を有するアルキル置換アリール基であることができ、R1がアルキル基の場合はヘキサヒドロ-1,3,5-トリフェニル-1,3,5-トリアジンの代わりに相当する１級アミンが用いられ、また、R1がアルキル置換アリール基の場合は、アニリンの代わりにアルキル置換アニリンを用いて合成されたヘキサヒドロ-1,3,5-トリス(アルキルフェニル）-1,3,5-トリアジンが他の一つの出発原料として用いられる。またこれらのR1基は、O、S、N等のヘテロ原子を有していてもよい。
次に、実施例について本発明を説明する。
参考例１
4-メルカプトフェノール4.4g(35ミリモル)のメタノール溶液約100ml中に、ヨウ素5.0g(40ミリモル)を１０分間で滴下した。滴下終了後、室温条件下で30分反応させ、反応終了後溶媒を減圧条件下で留去し、残渣をトルエンに溶解させ、トルエン溶液を飽和食塩水で洗浄し、トルエン層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、トルエンを留去した残渣をトルエン／へキサン(重量比3/4)で再結晶して精製し、ビス(4-ヒドロキシルフェニル)ジスルフィド3.4g(収率89％)を得た。生成物の融点は150〜151℃で、非特許文献１記載の融点149〜150℃と略一致した。
参考例２
アニリン1.86g(20.0ミリモル)、パラホルムアルデヒド(CH2O)n 0.60g(20.0ミリモル)およびトルエン15mlの混合溶液を、110℃で2時間加熱しながら、Dean-Starkを用いて、生成した水を留去した。残渣にトルエン15mlを加えて再結晶し、ヘキサヒドロ-1,3,5-トリフェニル-1,3,5-トリアジン1.68g(収率80％)を得た。
実施例
参考例１で得られたビス(4-ヒドロキシルフェニル)ジスルフィド0.75g(3ミリモル)、参考例２で得られたヘキサヒドロ-1,3,5-トリフェニル-1,3,5-トリアジン0.63g(2ミリモル)およびパラホルムアルデヒド(CH2O)n 0.18g(6ミリモル)を6mlのトルエン中に加え、還流温度で6時間反応させた。反応終了後、5重量％水酸化ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、残渣を酢酸エチルで再結晶することにより精製し、融点134〜135℃のビス(3,4-ジヒドロ-3-フェニル-2H-1,3-ベンゾオキサジン)ジスルフィド1.0g(収率68％)を得た。
その1H-NMRスペクトルおよび13C-NMRスペクトルは、図１〜２に示される。

Claims (3)

  1. 一般式
    Figure 2011231027
    (ここで、R1はヘテロ原子を有してもよい、炭素数1〜18のアルキル基、アリール基または炭素数1〜18のアルキル基で置換されたアリール基である)で表わされるジスルフィド結合を有するベンゾオキサジン化合物。
  2. R1がフェニル基である請求項１記載のジスルフィド結合を有するベンゾオキサジン化合物。
  3. 一般式
    Figure 2011231027
    で表わされるビス(4-ヒドロキシルフェニル)ジスルフィドを、ヘキサヒドロ-1,3,5-トリフェニル-1,3,5-トリアジンおよびホルムアルデヒドと反応させることを特徴とする請求項２記載のジスルフィド結合を有するベンゾオキサジン化合物の製造法。
JP2010100801A 2010-04-26 2010-04-26 ジスルフィド結合を有するベンゾオキサジン化合物 Expired - Fee Related JP5636726B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010100801A JP5636726B2 (ja) 2010-04-26 2010-04-26 ジスルフィド結合を有するベンゾオキサジン化合物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010100801A JP5636726B2 (ja) 2010-04-26 2010-04-26 ジスルフィド結合を有するベンゾオキサジン化合物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011231027A true JP2011231027A (ja) 2011-11-17
JP5636726B2 JP5636726B2 (ja) 2014-12-10

Family

ID=45320726

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010100801A Expired - Fee Related JP5636726B2 (ja) 2010-04-26 2010-04-26 ジスルフィド結合を有するベンゾオキサジン化合物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5636726B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017200180A1 (ko) * 2016-05-17 2017-11-23 주식회사 엘지화학 고분자-황 공중합체, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 리튬-황 전지
CN108701830A (zh) * 2016-05-17 2018-10-23 株式会社Lg化学 聚合物-硫共聚物、其制备方法以及包含其的锂硫电池
CN115335366A (zh) * 2020-03-12 2022-11-11 卢森堡科学技术研究院 苯并噁嗪衍生物的类玻璃高分子

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003514074A (ja) * 1999-11-05 2003-04-15 ザ ダウ ケミカル カンパニー 高チャー収率のポリベンゾオキサジン組成物
JP2008094961A (ja) * 2006-10-12 2008-04-24 Toray Ind Inc ベンゾオキサジン樹脂組成物
WO2010018008A1 (en) * 2008-08-12 2010-02-18 Huntsman Advanced Materials (Switzerland) Gmbh Thermosetting composition

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003514074A (ja) * 1999-11-05 2003-04-15 ザ ダウ ケミカル カンパニー 高チャー収率のポリベンゾオキサジン組成物
JP2008094961A (ja) * 2006-10-12 2008-04-24 Toray Ind Inc ベンゾオキサジン樹脂組成物
WO2010018008A1 (en) * 2008-08-12 2010-02-18 Huntsman Advanced Materials (Switzerland) Gmbh Thermosetting composition

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017200180A1 (ko) * 2016-05-17 2017-11-23 주식회사 엘지화학 고분자-황 공중합체, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 리튬-황 전지
CN108701830A (zh) * 2016-05-17 2018-10-23 株式会社Lg化学 聚合物-硫共聚物、其制备方法以及包含其的锂硫电池
US10297830B2 (en) 2016-05-17 2019-05-21 Lg Chem, Ltd. Polymer-sulfur copolymer, method for preparing same, and lithium-sulfur battery comprising same
CN108701830B (zh) * 2016-05-17 2021-05-07 株式会社Lg化学 聚合物-硫共聚物、其制备方法以及包含其的锂硫电池
CN115335366A (zh) * 2020-03-12 2022-11-11 卢森堡科学技术研究院 苯并噁嗪衍生物的类玻璃高分子

Also Published As

Publication number Publication date
JP5636726B2 (ja) 2014-12-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5636726B2 (ja) ジスルフィド結合を有するベンゾオキサジン化合物
US9796675B1 (en) Intermediate for synthesizing paroxetine, method for preparing the same, and uses thereof
AU2013215796B2 (en) Method for preparing compound by novel Michael addition reaction using water or various acids as additive
JP6106054B2 (ja) テトラキス（カルボキシアルキル）グリコールウリル類とその利用
EP2380886A1 (en) Process for the preparation of 2-aminosubstituted 1,3-benzothiazine-4-ones
JP2011207805A (ja) チオエーテル基を有するベンゾオキサジン誘導体およびその製造法
CN109503639B (zh) 反式-2-取代环烷基三氟硼酸钾的合成方法
JP2006001888A (ja) イソシアヌル酸化合物
JP2008001636A (ja) １，４−ジヒドロ−アントラセン誘導体およびその製造方法
JP5033933B2 (ja) Ｎ−置換−２−アミノ−４−（ヒドロキシメチルホスフィニル）−２−ブテン酸の製造法
JP2012148986A (ja) モノスルフィド基含有ベンゾオキサジン化合物の製造法
Shaabani et al. The reaction of alkyl isocyanides and benzylidene Meldrum's acid derivatives in the presence of water: A one-pot synthesis of 4-(alkylamino)-3-aryl-4-oxobutanoic acids
JP2649535B2 (ja) エポキシ化合物、その製造法及びそれを含有する硬化性組成物
US20150065727A1 (en) The new derivatives of (z)-1,2-diphenylethene
JP2009132630A (ja) ベンゾオキサチイン化合物の製造方法
AU2014380554B2 (en) Method for producing purified compound
JP2007112788A (ja) オキセタン化合物
US8324407B2 (en) Alcohol compound having dioxane structure and process for producing same
JP2020121961A (ja) リン化合物の製造方法
KR101496681B1 (ko) N-치환된 3,3-디니트로아제티딘 고에너지 가소제 및 그의 제조방법
JP2015048325A (ja) 新規なヒドロキシメチル置換又はアルコキシメチル置換トリスフェノール化合物
AU2008320850A1 (en) Process for the preparation of substituted 7-allyl-6-hydroxy-indanes
JP2020037572A (ja) 新規なヒドロキシフェニルボロン酸エステルとその製造方法、およびヒドロキシビフェニル化合物の製造法
KR20120067586A (ko) 광학적으로 순수한 바이나프톨 유도체 및 그의 제조 방법
JP2007145835A (ja) オキセタン化合物

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130403

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140624

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140822

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140924

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20141007

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees