JP2011228743A - 反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク、ならびにこれを用いたパターン転写方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】タンタルを含有する複数の層4、5の上に、タンタル以外の金属を主成分として含有する層6をさらに積層してなることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
光を光源とするリソグラフィ技術が開発されており、反射多層膜の特性から13.5nm近傍の波長が最も有力な候補となっている。
による検査時において反射領域に対して良好なコントラストが得られ、電子線でのパターン露光によるチャージアップのない反射型フォトマスクブランクおよびそれを用いた反射型フォトマスク並びにそれを用いたパターン転写方法を提供することを課題とする。
。
したがって、タンタル含有率の高い光吸収膜のパターン欠陥検査を遠紫外光でおこなうことが困難になってしまう。
(高反射率部の反射率−低反射率部の反射率)/(高反射率部の反射率+低反射率部の反射率)×100
で計算される値である。
Claims (5)
- 基板と基板上に設けられた多層反射膜と、多層反射膜上に設けられた光吸収層を具備し、光吸収層がタンタルを含有する複数の層からなり、多層反射膜に近いほうの層に含まれるタンタルの含有率が、その後に積層して形成した層のタンタル含有率よりも高い反射型フォトマスクブランクにおいて、タンタルを含有する複数の層の上に、タンタル以外の金属を主成分として含有する層をさらに積層してなることを特徴とする反射型フォトマスクブランク。
- タンタル以外の金属がニオブ、チタン、アルミニウム、クロムの中から選択される1つ以上の金属であることを特徴とする請求項1に記載の反射型フォトマスクブランク。
- タンタル以外の金属を主成分として含有する層が、ニオブ、チタン、アルミニウム、クロムの中から選択される一つ以上の物質とケイ素を主成分として含有することを特徴とする請求項1に記載の反射型フォトマスクブランク。
- 請求項1ないし3いずれか1項に記載の反射型フォトマスクブランクの、タンタル以外の金属を主成分として含有する層を除去し、タンタルを含有する層の一部を除去してパターンを形成したことを特徴とする反射型フォトマスク。
- 請求項4に記載の反射型フォトマスクを露光装置に設置し、前記マスクを用いたリソグラフィ法による露光転写を行ない、パターン形成を行なうことを特徴とするパターン転写方法。
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