JP2011228624A - ガスレーザ装置 - Google Patents
ガスレーザ装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011228624A JP2011228624A JP2010250930A JP2010250930A JP2011228624A JP 2011228624 A JP2011228624 A JP 2011228624A JP 2010250930 A JP2010250930 A JP 2010250930A JP 2010250930 A JP2010250930 A JP 2010250930A JP 2011228624 A JP2011228624 A JP 2011228624A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- laser
- blower
- pressure
- command
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/09702—Details of the driver electronics and electric discharge circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/102—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
- H01S3/104—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation in gas lasers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
【解決手段】ガス流路101に沿ってレーザガスを循環させる送風機30と、レーザガスのガス圧Pを検出する圧力検出手段33と、ガス流路101にレーザガスを供排するガス給排手段51,61,62と、レーザ発振の一時停止を指令する指令手段75と、指令手段75からの指令に応じて送風機30およびガス給排手段51,61,62を制御する制御手段70とを備える。制御手段70は、一時停止指令前は、送風機30を所定回転数N1で回転させるとともに、検出ガス圧Pが第1の目標ガス圧P1となるようにガス給排手段51,61,62を制御し、一時停止指令後は、送風機30の回転数を低減または回転を停止させるとともに、検出ガス圧Pが第1の目標ガス圧P1に対応した第2の目標ガス圧P2となるようにガス給排手段51,61,62を制御する。
【選択図】図1
Description
(1)一時停止スイッチ75のオンによりレーザ光の出力を停止させるとともに、送風機30の回転を停止させるので、ガスレーザ装置100の電力消費量を抑えることができる。
(2)送風機回転停止時のレーザガス容器10内のガス圧Pを、送風機回転時の設定ガス圧P1に対応した設定ガス圧P2に制御するようにしたので、レーザ発振の一時停止解除を指令してから、レーザガス容器10内のガス圧Pを短時間で設定ガス圧P1に復帰させることができ、効率よくレーザ加工等の作業を行うことができる。
(3)一時停止指令後に送風機30の回転を停止させる代わりに送風機30の回転数を低減させる場合にも、同様にガスレーザ装置100の電力消費量を抑えることができるとともに、一時停止解除指令後に、より短時間でガス圧Pを設定ガス圧P1に復帰させることができる。
(5)送風機回転停止時に排気装置62の回転数を低減するようにしたので、電力消費量を一層抑えることができる。
(6)排気流路60に排気装置62を設けるとともに、排気流路60の開口面積が変更可能な排気弁61を排気装置62に対して直列に設けるようにしたので、容器10内のガス圧Pを精度よく調整することができる。
20 レーザ発振器
24 レーザ電源
30 送風機
33 圧力計
40 冷却装置
51 給気装置
60 排気流路
61 排気弁
62 排気装置
70 制御部
75 一時停止スイッチ
100 ガスレーザ装置
101 ガス流路
P1,P1 設定ガス圧
Claims (6)
- レーザガスが循環するガス流路を形成する流路形成手段と、
前記ガス流路に沿ってレーザガスを循環させる送風機と、
前記ガス流路を流れるレーザガスを励起媒体としてレーザ光を発振するレーザ発振器と、
前記レーザ発振器にレーザガスの励起用の電力を供給するレーザ電源と、
前記送風機の回転数に応じて変化する、前記ガス流路におけるレーザガスのガス圧を検出する圧力検出手段と、
前記ガス流路にレーザガスを供給および前記ガス流路からレーザガスを排出するガス給排手段と、
前記レーザ発振器によるレーザ発振の一時停止を指令する指令手段と、
前記指令手段からの指令に応じて前記送風機および前記ガス給排手段を制御する制御手段とを備え、
前記制御手段は、
前記指令手段により一時停止が指令される前は、前記送風機を所定回転数で回転させるとともに、前記圧力検出手段により検出されたガス圧が第1の目標ガス圧となるように前記ガス給排手段を制御し、
前記指令手段により一時停止が指令されると、前記送風機の回転数を低減または回転を停止させるとともに、前記圧力検出手段により検出されたガス圧が送風機回転時の前記第1の目標ガス圧に対応した第2の目標ガス圧となるように前記ガス給排手段を制御することを特徴とするガスレーザ装置。 - 請求項1に記載のガスレーザ装置において、
前記制御手段は、前記指令手段により一時停止が指令されると、前記送風機の回転数を低減または回転を停止させ、前記送風機の回転数低減または回転停止後に、前記圧力検出手段により検出されたガス圧が前記第2の目標ガス圧となるように前記ガス給排手段を制御することを特徴とするガスレーザ装置。 - 請求項1または2に記載のガスレーザ装置において、
前記ガス給排手段は、
前記ガス流路からレーザガスを排気する排気装置と、
前記ガス流路にレーザガスを給気する給気装置とを有することを特徴とするガスレーザ装置。 - 請求項3に記載のガスレーザ装置において、
前記排気装置は、前記ガス流路内からレーザガスを吸い込む排気ファンを有し、
前記制御手段は、前記指令手段により一時停止が指令されると、一時停止が指令される前よりも、前記排気ファンの排気能力を低くすることを特徴とするガスレーザ装置。 - 請求項3または4に記載のガスレーザ装置において、
前記排気装置は、前記ガス流路に連通された排気流路に配置され、
前記ガス給排手段は、前記排気流路の開口面積を変更する弁装置をさらに有することを特徴とするガスレーザ装置。 - 請求項1〜5のいずれか1項に記載のガスレーザ装置において、
冷媒を循環させることにより所定の構成部品を冷却する冷却装置をさらに備え、
前記制御装置は、前記指令手段により一時停止が指令されると、一時停止が指令される前よりも、冷媒の循環量が少なくなるようにさらに前記冷却装置を制御することを特徴とするガスレーザ装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010250930A JP4782887B1 (ja) | 2010-04-02 | 2010-11-09 | ガスレーザ装置 |
CN2011100505958A CN102214889B (zh) | 2010-04-02 | 2011-03-01 | 气体激光装置 |
US13/038,568 US20110243177A1 (en) | 2010-04-02 | 2011-03-02 | Gas laser device |
DE102011012821A DE102011012821B4 (de) | 2010-04-02 | 2011-03-02 | Gaslaservorrichtung |
US13/888,890 US20130315274A1 (en) | 2010-04-02 | 2013-05-07 | Gas laser device |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010086076 | 2010-04-02 | ||
JP2010086076 | 2010-04-02 | ||
JP2010250930A JP4782887B1 (ja) | 2010-04-02 | 2010-11-09 | ガスレーザ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP4782887B1 JP4782887B1 (ja) | 2011-09-28 |
JP2011228624A true JP2011228624A (ja) | 2011-11-10 |
Family
ID=44650288
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010250930A Active JP4782887B1 (ja) | 2010-04-02 | 2010-11-09 | ガスレーザ装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20110243177A1 (ja) |
JP (1) | JP4782887B1 (ja) |
CN (1) | CN102214889B (ja) |
DE (1) | DE102011012821B4 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104037596A (zh) * | 2013-03-05 | 2014-09-10 | 发那科株式会社 | 可推定激光气体容器的密闭性的激光装置 |
US8897331B2 (en) | 2012-05-18 | 2014-11-25 | Panasonic Corporation | Lasing device |
US9147994B2 (en) | 2014-01-24 | 2015-09-29 | Fanuc Corporation | Gas laser system capable of maintaining laser gas state during power supply cutoff |
JP2015222791A (ja) * | 2014-05-23 | 2015-12-10 | ファナック株式会社 | 送風機を備えるレーザ発振器 |
JP2016021489A (ja) * | 2014-07-14 | 2016-02-04 | ファナック株式会社 | ガス圧及びガス消費量を制御可能なガスレーザ発振器 |
DE102016001393A1 (de) | 2015-02-16 | 2016-08-18 | Fanuc Corporation | Laseroszillator mit Gebläse |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5637160B2 (ja) * | 2012-03-12 | 2014-12-10 | パナソニック株式会社 | レーザ発振装置およびレーザ加工機 |
DE102012205870B3 (de) * | 2012-04-11 | 2013-02-21 | Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh | Kühlanordnung für einen Gaslaser, Gaslaser damit, sowie Verfahren zum Kühlen von Lasergas |
CN103107477B (zh) * | 2013-01-23 | 2015-01-07 | 深圳市大族激光科技股份有限公司 | 抑制气体激光器的谐振腔内油污染的方法 |
JP5903605B2 (ja) * | 2013-02-21 | 2016-04-13 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | レーザ発振装置及びレーザ加工機 |
JP5800929B2 (ja) * | 2014-01-31 | 2015-10-28 | ファナック株式会社 | 電力供給の復帰時に短時間で損傷なく再起動可能なガスレーザシステム |
KR20170099902A (ko) | 2014-11-26 | 2017-09-01 | 컨버전트 덴탈 인크 | 치과 레이저 시스템들의 전력 공급 및 냉각을 위한 시스템들 및 방법들 |
JP6650921B2 (ja) * | 2015-03-12 | 2020-02-19 | ギガフォトン株式会社 | 放電励起式ガスレーザ装置 |
JP6235527B2 (ja) * | 2015-05-14 | 2017-11-22 | ファナック株式会社 | 結露の発生を予測する機能を備えたレーザ装置 |
CN105071197B (zh) * | 2015-08-14 | 2018-12-21 | 中国科学院理化技术研究所 | 防止激光器薄膜光学器件损伤的装置 |
CN106644251A (zh) * | 2016-12-29 | 2017-05-10 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种激光器气体压力检测装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60157275A (ja) * | 1984-01-25 | 1985-08-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レ−ザ発振器 |
JPH04225288A (ja) * | 1990-12-26 | 1992-08-14 | Okuma Mach Works Ltd | ガスレーザ発振器用送風機の起動・停止方法 |
JPH07176816A (ja) * | 1993-12-20 | 1995-07-14 | Daihen Corp | 炭酸ガスレーザ発振器の起動方法 |
JPH11112064A (ja) * | 1997-10-03 | 1999-04-23 | Canon Inc | ガスレーザー装置及びそれを用いた露光装置並びに半導体製造方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55113391A (en) * | 1979-02-21 | 1980-09-01 | Hitachi Ltd | Gas flow type laser device |
JP2706485B2 (ja) * | 1988-10-07 | 1998-01-28 | ファナック株式会社 | レーザガス置換量制御方法 |
EP1119082A3 (en) * | 2000-01-18 | 2004-05-26 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Cross-flow fan for discharge excited gas laser |
US6392743B1 (en) * | 2000-02-29 | 2002-05-21 | Cymer, Inc. | Control technique for microlithography lasers |
US6597719B1 (en) * | 2000-08-21 | 2003-07-22 | Komatsu Ltd. | Once through fan for gas laser apparatus and gas laser apparatus therewith |
WO2003030313A1 (fr) * | 2001-09-28 | 2003-04-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Émetteur de laser à gaz |
JP3721337B2 (ja) * | 2002-03-22 | 2005-11-30 | ファナック株式会社 | レーザ発振器 |
JP4137972B2 (ja) * | 2006-12-14 | 2008-08-20 | ファナック株式会社 | ガス組成異常判断方法及び放電励起ガスレーザ発振器 |
-
2010
- 2010-11-09 JP JP2010250930A patent/JP4782887B1/ja active Active
-
2011
- 2011-03-01 CN CN2011100505958A patent/CN102214889B/zh active Active
- 2011-03-02 US US13/038,568 patent/US20110243177A1/en not_active Abandoned
- 2011-03-02 DE DE102011012821A patent/DE102011012821B4/de active Active
-
2013
- 2013-05-07 US US13/888,890 patent/US20130315274A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60157275A (ja) * | 1984-01-25 | 1985-08-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レ−ザ発振器 |
JPH04225288A (ja) * | 1990-12-26 | 1992-08-14 | Okuma Mach Works Ltd | ガスレーザ発振器用送風機の起動・停止方法 |
JPH07176816A (ja) * | 1993-12-20 | 1995-07-14 | Daihen Corp | 炭酸ガスレーザ発振器の起動方法 |
JPH11112064A (ja) * | 1997-10-03 | 1999-04-23 | Canon Inc | ガスレーザー装置及びそれを用いた露光装置並びに半導体製造方法 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8897331B2 (en) | 2012-05-18 | 2014-11-25 | Panasonic Corporation | Lasing device |
CN104037596A (zh) * | 2013-03-05 | 2014-09-10 | 发那科株式会社 | 可推定激光气体容器的密闭性的激光装置 |
US9490602B2 (en) | 2013-03-05 | 2016-11-08 | Fanuc Corporation | Laser system able to estimate hermetic seal of laser gas container |
US9147994B2 (en) | 2014-01-24 | 2015-09-29 | Fanuc Corporation | Gas laser system capable of maintaining laser gas state during power supply cutoff |
JP2015222791A (ja) * | 2014-05-23 | 2015-12-10 | ファナック株式会社 | 送風機を備えるレーザ発振器 |
JP2016021489A (ja) * | 2014-07-14 | 2016-02-04 | ファナック株式会社 | ガス圧及びガス消費量を制御可能なガスレーザ発振器 |
US9331449B2 (en) | 2014-07-14 | 2016-05-03 | Fanuc Corporation | Gas laser oscillator capable of controlling gas pressure and gas consumption amount |
DE102016001393A1 (de) | 2015-02-16 | 2016-08-18 | Fanuc Corporation | Laseroszillator mit Gebläse |
US9590380B2 (en) | 2015-02-16 | 2017-03-07 | Fanuc Corporation | Laser oscillator provided with blower |
DE102016001393B4 (de) | 2015-02-16 | 2020-08-06 | Fanuc Corporation | Laseroszillator mit Gebläse |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102011012821B4 (de) | 2012-08-16 |
JP4782887B1 (ja) | 2011-09-28 |
CN102214889B (zh) | 2013-07-17 |
DE102011012821A1 (de) | 2011-10-06 |
CN102214889A (zh) | 2011-10-12 |
US20130315274A1 (en) | 2013-11-28 |
US20110243177A1 (en) | 2011-10-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4782887B1 (ja) | ガスレーザ装置 | |
JP5661834B2 (ja) | レーザガス容器の密閉性を推定可能なレーザ装置 | |
JP2008004773A (ja) | ガスレーザ発振器 | |
JP5218639B2 (ja) | レーザ発振装置およびレーザ加工機 | |
JP5810270B2 (ja) | レーザ発振装置 | |
US10741988B2 (en) | Laser machining device | |
JP2011049376A (ja) | レーザ加工機システム | |
CN105896238B (zh) | 具备鼓风机的激光振荡器 | |
WO2013136644A1 (ja) | ガスレーザ発振装置およびレーザガス置換方法 | |
US20160111846A1 (en) | Gas laser oscillation apparatus, gas laser oscillation method and gas laser processing machine | |
JP2003329355A (ja) | 冷却装置 | |
WO2024047873A1 (ja) | 制御装置、ガスレーザ発振器システムおよび制御方法 | |
JP2010212551A (ja) | レーザ発振装置およびレーザ加工機 | |
JP5855689B2 (ja) | 起動工程を効率化したガスレーザ装置 | |
JP2002286305A (ja) | 輸送用冷凍装置及びその制御方法 | |
JP3792446B2 (ja) | 炭酸ガスレーザ発振装置 | |
JP2010212550A (ja) | レーザ発振装置およびレーザ加工機 | |
JP2003110173A (ja) | ガスレーザ発振装置 | |
JP2010212571A (ja) | レーザ発振装置 | |
JP2013187519A (ja) | レーザ発振装置およびレーザ加工機 | |
JP2011187526A (ja) | レーザ発振装置 | |
JP2010212559A (ja) | ガスレーザ発振装置 | |
JP2013026302A (ja) | ガスレーザ発振装置およびレーザ加工機 | |
JP2010272670A (ja) | ガスレーザ発振装置の制御方法およびガスレーザ発振装置およびレーザ加工機 | |
JP2011119376A (ja) | ガスレーザ発振装置およびガスレーザ加工機 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110614 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110707 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140715 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4782887 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |