JP2011228517A - プリント配線基板の表面処理方法及び表面処理剤 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 樹脂を含有するプリント配線基板に形成されたブライドビア、スルーホール、トレンチ等の穴部に残存するスミアを、内層金属をエッチングすることなく除去するプリント配線基板の表面処理方法であって、プリント配線基板を、少なくとも過酸化水素を含有し、弱酸性から弱アルカリである第1の処理液に浸漬し、その後、そのプリント配線基板を、少なくともアルカリ化合物と有機溶媒とを含有する第2の処理液に浸漬する。
【選択図】なし
Description
1.概要
2.本実施の形態に係る表面処理方法
2−1.配線基板について
2−2.ビア等の形成について
2−3.第1の処理工程について
2−3−1.第1の処理液
2−3−1.第1の処理工程
2−4.第2の処理工程について
2−4−1.第2の処理液
2−4−2.第2の処理工程
3.めっき処理
4.まとめ
5.実施例
本実施の形態に係るプリント配線基板の表面処理方法は、ドリル加工やレーザー加工等を施すことによってブライドビアホ−ル、スルーホール、トレンチ等(以下、「ビア等」という。)の穴部が形成された、基材樹脂を含有するプリント配線基板(以下、単に「配線基板」という。)に対する表面処理方法である。
<2−1.配線基板について>
本実施の形態に係る表面処理方法は、上述のように、ビア等が形成された、基材樹脂を含有する配線基板に対し、ビア等の加工形成に際して発生するスミアを効果的に除去するデスミア処理方法である。この表面処理方法を適用することができる基材樹脂となる絶縁樹脂材としては、特に限定されるものではなく周知のものを用いることができる。
また、上述した基材樹脂を含有する配線基板に対してビア等を形成する方法としては、特に限定されず、レーザー加工やドリル加工等の周知の方法を用いることができる。具体的に、例えばレーザー加工としては、コンフォーマル・マスク法やダイレクトレーザー法等の公知の方法を採用することができる。また、使用するレーザーについても、微小孔を形成するのに一般的に使用されている種々のものを用いることができる。例えば、CO2レーザー、YAGレーザー、エキシマレーザー等を用いることができる。また、気体レーザーであるアルゴンレーザーやヘリウム−ネオンレーザー、固体レーザーであるサファイアレーザー、その他に色素レーザー、半導体レーザー、自由電子レーザー等を用いてもよい。
本実施の形態に係る表面処理方法では、上述のようにしてビア等が形成された基板を、少なくとも過酸化水素を含有し、弱酸性から弱アルカリ性である第1の処理液(以下では適宜「コンディショニング処理液」ともいう。)に浸漬する第1の処理(以下では適宜「コンディショニング処理」ともいう。)を施す。
先ず、この第1の処理工程において用いる第1の処理液(コンディショニング処理液)について説明する。この第1の処理液は、上述のように、過酸化水素を含有し、pHが弱酸性から弱アルカリ性となっている。
本実施の形態に係る表面処理方法は、上述した第1の処理液(コンディショニング処理液)に、基板を浸漬させる。このように、過酸化水素を含有し、弱酸性から弱アルカリ性に保持された第1の処理液に基板を浸漬させることにより、基板に形成されたビア等の底部に露出した内層金属である銅又は銅酸化膜表面へ過酸化水素を接触させることで、過酸化水素の分解反応を生じさせ(接触分解反応)、この接触分解反応によって酸素ガスを発生させることができる。そして、この発生した酸素ガスの気泡によって、ビア等の底部に残存したスミアを内層銅より浮き上がらせることができ、効果的にスミアを除去することができる。
本実施の形態に係る表面処理方法では、上述した第1の処理工程の後、処理された配線基板を、少なくともアルカリ化合物と有機溶媒とを含有する第2の処理液(以下では適宜「アルカリクリーニング処理液」ともいう。)に浸漬する第2の処理(以下では適宜「アルカリクリーニング処理」ともいう。)を施す。
先ず、この第2の処理工程において用いる第2の処理液(アルカリクリーニング処理液)について説明する。この第2の処理液は、上述のように、少なくともアルカリ化合物と有機溶媒とを含有する。
本実施の形態に係る表面処理方法は、第1の処理工程の後、処理した基板を、上述の第2の処理液(アルカリクリーニング処理液)に浸漬させる。このように、第1の処理工程の後に、アルカリ化合物と有機溶媒とを含有した第2の処理液に基板を浸漬させることにより、第1の工程を経てビア等の底部に残存しているスミアやレーザー加工等の熱により変質し機械的強度や耐薬品性の低下した樹脂等を、アルカリ化合物と有機溶媒とによってアタックし除去することができる。
以上のように、本実施の形態に係る表面処理方法は、配線基板を、少なくとも過酸化水素を含有し、pHが4以上8以下の弱酸性から弱アルカリ性である第1の処理によって処理した後、その処理された配線基板を、少なくともアルカリ化合物と有機溶媒とを含有する第2の処理によって処理する。これによって、基材樹脂にビア等を形成することによって生じたスミアを効率的に除去する。そして、このようにして処理した配線基板に対してめっき処理を施し、基材樹脂上にめっき皮膜を形成させる。
以上説明したように、本実施の形態に係る表面処理方法は、樹脂を含有する配線基板に形成されたビア等の底部に残存するスミアを除去する表面処理方法であって、配線基板を、少なくとも過酸化水素を含有し、pHが4以上8以下の弱酸性から弱アルカリ性である第1の処理液に浸漬する第1の処理工程と、第1の処理工程にて処理された配線基板を、少なくともアルカリ化合物と有機溶媒とを含有する第2の処理液に浸漬する第2の処理工程とを有する。
以下、本発明の具体的な実施例について説明する。なお、下記のいずれかの実施例に本発明の範囲が限定されるものではない。
先ず、一般的な絶縁樹脂(味の素ファインテクノ株式会社製 ABF−GX13)を積層した基板に対し、レーザー加工機(日立ビアメカニクス株式会社製)を使用してその絶縁樹脂下層の銅箔に到達するブラインドビアを形成した。
<コンディショニング処理液(第1の処理液)>
過酸化水素:30g/L
ポリエチレングリコール:0.5g/L
エチレングリコールモノフェニルエーテル:0.5g/L
エチレンジアミン四酢酸・2ナトリウム塩:0.5g/L
硫酸アンモニウム:15g/L
硫酸、水酸化ナトリウムにてpH6に調整
<アルカリクリーニング処理液(第2の処理液)>
水酸化ナトリウム:40g/L
モノエタノ−ルアミン:75g/L
n−メチル−2−ピロリドン:300g/L
下記の第1の処理液(コンディショニング処理液)並びに第2の処理液(アルカリクリーニング処理液)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして行った。
<コンディショニング処理液(第1の処理液)>
過酸化水素:30g/L
ポリエチレングリコール:1g/L
1,2−ジアミノプロパン−N,N,N’,N’−四酢酸:1g/L
N,N,N’,N’−エチレンジアミンテトラキス(メチレンホスホン酸)水和物
:0.5g/L
硫酸、水酸化ナトリウムにてpH6に調整
<アルカリクリーニング処理液(第2の処理液)>
水酸化ナトリウム:40g/L
2−(2−アミノエトキシ)エタノール:75g/L
ジエチレングリコールジブチルエーテル:300g/L
実施例2で使用した第1の処理液において、硫酸、水酸化ナトリウムにてpHを2以下に調整したこと以外は、実施例2と同様にして行った。
ブラインドビアを形成した基板に対してコンディショニング処理を行わなかったこと以外は、実施例1と同様にして行った。
ブラインドビアを形成した基板に対してコンディショニング処理を行った後、アルカリクリーニング処理を行わなかったこと以外は、実施例1と同様にして行った。
ブラインドビアを形成した基板に対して、膨潤液(上村工業株式会社製 DEC−501)により膨潤処理を施し、過マンガン酸ナトリウム55g/L、水酸化ナトリウム40g/Lを成分とする樹脂エッチング液により80℃にて15分間粗化した後、還元液(上村工業株式会社製 DEN−503H)にて還元処理を行った。
Claims (10)
- 樹脂を含有するプリント配線基板に形成されたブライドビア、スルーホール、トレンチ等の穴部に残存するスミアを、内層金属をエッチングすることなく除去するプリント配線基板の表面処理方法において、
上記プリント配線基板を、少なくとも過酸化水素を含有し、弱酸性から弱アルカリ性である第1の処理液に浸漬する第1の処理工程と、
上記第1の処理工程にて処理されたプリント配線基板を、少なくともアルカリ化合物と有機溶媒とを含有する第2の処理液に浸漬する第2の処理工程と
を有することを特徴とするプリント配線基板の表面処理方法。 - 上記第1の処理液のpHは4以上8以下であることを特徴とする請求項1記載のプリント配線基板の表面処理方法。
- 上記有機溶媒は、グリコール類、グリコールエーテル類、アルコール類、環状エーテル類、環状ケトン類、ラクタム類、アミド類からなる群より選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項1又は2記載のプリント配線基板の表面処理方法。
- 上記第1の処理液は、さらに過酸化水素に対する安定剤を含有することを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項記載のプリント配線基板の表面処理方法。
- 上記過酸化水素の安定剤は、アミン類、グリコール類、グリコールエーテル類からなる群より選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項4記載のプリント配線基板の表面処理方法。
- 上記第1の処理工程及び第2の処理工程の少なくとも一方で、超音波処理が行われることを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項記載のプリント配線基板の表面処理方法。
- 上記プリント配線基板は、銅配線を有することを特徴とする請求項1乃至6の何れか1項記載のプリント配線基板の表面処理方法。
- 上記第1の処理液は、さらに銅の錯化剤を含有することを特徴とする請求項7記載のプリント配線基板の表面処理方法。
- 上記銅の錯化剤は、アミン類、ポリアミン類、アルカノールアミン類、カルボン酸類、アミノ酸類、アミノポリカルボン酸類、ホスホン酸類、スルホン酸類及びそれらの塩からなる群より選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項8記載のプリント配線基板の表面処理方法。
- 樹脂を含有するプリント配線基板に形成されたブライドビア、スルーホール、トレンチ等の穴部に残存するスミアを、内層金属をエッチングすることなく除去するプリント配線基板の表面処理剤であって、
少なくとも過酸化水素を含有し、弱酸性から弱アルカリ性の第1の処理液と、
少なくともアルカリ化合物と有機溶媒とを含有する第2の処理液とからなり、
上記プリント配線基板を上記第1の処理液にて処理した後、処理されたプリント配線基板を上記第2の処理液にて処理することを特徴とするプリント配線基板の表面処理剤。
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