JP2011209015A - 半導体構成体及び半導体構成体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】電子回路の周囲に空間を要する半導体構成体の生産性を向上させる。
【解決手段】半導体ウエハ11と、半導体ウエハ11上の所定領域を囲むように形成された壁23と、半導体ウエハ11上の所定領域の外部に設けられた配線19と、配線19のランド上に設けられた外部接続用電極21A、21Bと、壁23の外部に充填され、配線19を封止するとともに外部接続用電極21A、21B及び壁23と面一に設けられた封止樹脂22と、壁23の上部に配置され、所定領域の上部空間を封止する蓋25Cと、を備える半導体構成体1Cである。
【選択図】図2
【解決手段】半導体ウエハ11と、半導体ウエハ11上の所定領域を囲むように形成された壁23と、半導体ウエハ11上の所定領域の外部に設けられた配線19と、配線19のランド上に設けられた外部接続用電極21A、21Bと、壁23の外部に充填され、配線19を封止するとともに外部接続用電極21A、21B及び壁23と面一に設けられた封止樹脂22と、壁23の上部に配置され、所定領域の上部空間を封止する蓋25Cと、を備える半導体構成体1Cである。
【選択図】図2
Description
本発明は、半導体構成体及び半導体構成体の製造方法に関する。
半導体ウエハ上に、電子回路に加えて、加速度センサ(例えば、特許文献1参照)、カンチレバー(例えば、特許文献2参照)等の機械素子や、光学素子等のMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)を有する電子回路が形成されている半導体構成体が提案されている(例えば、特許文献3参照)。
ところで、機械素子を有する半導体構成体には、機械素子が動作するために空間が必要である。また、光学素子を有する半導体構成体には、光が入射或いは出射する場所が必要である。
本発明の課題は、このような電子回路の周囲に空間を要する半導体構成体の生産性を向上させることである。
本発明の半導体構成体は、
半導体ウエハと、
前記半導体ウエハ上の所定領域を囲むように形成された壁と、
前記半導体ウエハ上の前記所定領域の外部に設けられた配線と、
前記配線上に設けられた外部接続用電極と、
前記壁の外部に充填され、前記配線を封止する封止樹脂と、
前記壁の上部に配置され、前記所定領域の上部空間を封止する蓋と、
を備えることを特徴とする。
前記蓋は透明であることが好ましい。
前記所定領域には、電子回路が設けられていることが好ましい。
前記壁及び前記外部接続用電極は、同一材料で形成されていることが好ましい。
前記壁及び前記外部接続用電極は、同じ高さに設定されていることが好ましい。
前記壁と前記半導体ウエハとの間には、保護絶縁膜が介在されていることが好ましい。
本発明の半導体構成体の製造方法は、
半導体ウエハ上の所定領域の外部に配置された配線層上に外部接続用電極を形成すると同時に、前記所定領域を囲む壁を形成し、
前記所定領域の上部空間を塞ぐ蓋を前記壁の上部に載置し、
前記配線を封止する封止樹脂を前記壁の外部に充填し、
前記封止樹脂、前記外部接続用電極及び前記壁の上面を切削することを特徴とする。
前記封止樹脂を充填後、前記蓋を除去することが好ましい。
前記蓋は透明であることが好ましい。
半導体ウエハと、
前記半導体ウエハ上の所定領域を囲むように形成された壁と、
前記半導体ウエハ上の前記所定領域の外部に設けられた配線と、
前記配線上に設けられた外部接続用電極と、
前記壁の外部に充填され、前記配線を封止する封止樹脂と、
前記壁の上部に配置され、前記所定領域の上部空間を封止する蓋と、
を備えることを特徴とする。
前記蓋は透明であることが好ましい。
前記所定領域には、電子回路が設けられていることが好ましい。
前記壁及び前記外部接続用電極は、同一材料で形成されていることが好ましい。
前記壁及び前記外部接続用電極は、同じ高さに設定されていることが好ましい。
前記壁と前記半導体ウエハとの間には、保護絶縁膜が介在されていることが好ましい。
本発明の半導体構成体の製造方法は、
半導体ウエハ上の所定領域の外部に配置された配線層上に外部接続用電極を形成すると同時に、前記所定領域を囲む壁を形成し、
前記所定領域の上部空間を塞ぐ蓋を前記壁の上部に載置し、
前記配線を封止する封止樹脂を前記壁の外部に充填し、
前記封止樹脂、前記外部接続用電極及び前記壁の上面を切削することを特徴とする。
前記封止樹脂を充填後、前記蓋を除去することが好ましい。
前記蓋は透明であることが好ましい。
本発明によれば、半導体構成体の生産性を向上させることができる。
図1は本発明の実施形態に係る半導体構成体1Cを示す平面図であり、図2は図1のII−II矢視断面図である。図1、図2に示すように、半導体構成体1Cは、半導体デバイスウエハ10の表面に絶縁膜14、配線15、柱状電極21A、21B、封止樹脂22、壁23、蓋25C等を形成してなる。
半導体デバイスウエハ10は、図1に示すように、シリコン等からなる半導体基板(半導体ウエハ)11と、金属等の導電性材料からなる複数の接続パッド12と、酸化シリコンまたは窒化シリコン等の絶縁性材料からなる保護絶縁膜13と、等を備える。
半導体デバイスウエハ10は、図1に示すように、シリコン等からなる半導体基板(半導体ウエハ)11と、金属等の導電性材料からなる複数の接続パッド12と、酸化シリコンまたは窒化シリコン等の絶縁性材料からなる保護絶縁膜13と、等を備える。
半導体基板11の表面には、MEMSを有する電子回路2や接続パッド12、及びこれらを接続する配線等が形成されている。電子回路2は、例えば、加速度センサ、圧力センサ、マイクロジャイロ、流量センサ、ガスセンサ、赤外線イメージャ、マイクロアクチュエータ、インクジェットプリンタヘッド、共振子フィルタ、マイクロリレー、マイクロプローバ、走査型プローブ顕微鏡、光スイッチ、DMD、光スキャナ、等である。
接続パッド12はシリコン基板11上の配線と接続されている。保護絶縁膜13は半導体基板11の表面に形成され、配線等を被覆する。
また、保護絶縁膜13には、接続パッド12を露出させる開口13a、電子回路2を露出させる開口13bが設けられている。図1、図2に示すように、開口13aは接続パッド12よりも小さく、開口13bは電子回路2よりも大きい。
また、保護絶縁膜13には、接続パッド12を露出させる開口13a、電子回路2を露出させる開口13bが設けられている。図1、図2に示すように、開口13aは接続パッド12よりも小さく、開口13bは電子回路2よりも大きい。
保護絶縁膜13の上面には、エポキシ系樹脂やポリイミド系樹脂等からなる絶縁膜14が形成されている。絶縁膜14には、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール(PBO)、等の高機能プラスチック材料、エポキシ系、フェノール系、シリコン系等のプラスチック材料、またはこれらの複合材料等を用いることができる。
絶縁膜14には、接続パッド12を露出させる開口14a、電子回路2を露出させる開口14bが設けられている。開口14a、14bは絶縁膜14が感光性樹脂であれば、半導体デバイスウエハ10上に塗布−露光−現像−硬化することで一括形成することができる。また、開口14a、14bは、例えばレーザーにより形成することができる。図1、図2に示すように、絶縁膜14の開口14aは、保護絶縁膜13の開口13aよりも小さく、開口14aの外周部で接続パッド12と絶縁膜14とが密着している。また、絶縁膜14の開口14bは、電子回路2よりも大きく、絶縁膜14の開口14b内に電子回路2が露出されている。
絶縁膜14の上面の一部、及び、開口14aから露出した接続パッド12の上部には、配線15が形成されている。配線15は、下層であって、上層を電解メッキするための核となる銅等を有する電解めっき用シード層16と、上層である銅等の導電性材料を有する配線層19を含む。電解めっき用シード層16は、200nm〜2000nmの厚さが好ましい。電解めっき用シード層16の一部は、開口13a、14aを介して接続パッド12に接続されている。配線15は、電子回路2や半導体構成体1Aのシリコン基板11に設けられたトランジスタ等の他の電子回路を、柱状電極21に導通するための配線である。
電解めっき用シード層16の上面には銅等の導電性材料からなる配線層19及び壁層24が形成されている。
配線層19は電解めっき用シード層16より厚く、例えば1μm〜5μmの厚さが好ましい。配線15における接続パッド12とは反対側の端部のランド上面には、銅等の導電性材料からなる柱状電極21が形成されている。柱状電極21の直径は50〜500μmである。柱状電極21の高さは45〜99μm程度であり、配線15の厚さと合わせて50〜100μm程度である。
配線層19は電解めっき用シード層16より厚く、例えば1μm〜5μmの厚さが好ましい。配線15における接続パッド12とは反対側の端部のランド上面には、銅等の導電性材料からなる柱状電極21が形成されている。柱状電極21の直径は50〜500μmである。柱状電極21の高さは45〜99μm程度であり、配線15の厚さと合わせて50〜100μm程度である。
柱状電極21Aの上部には、さらに銅等の導電性材料からなる柱状電極21Bが形成されている。なお、図では柱状電極21Bの径が柱状電極21Aよりも大きい方が接続性の観点から好ましいが、等径であってもよいし、柱状電極21Bの径が柱状電極21Aより小さくてもよい。
電解めっき用シード層16及び配線層19の積層体である配線15は、対応する1つ又は複数の接続パッド12と1つ又は複数の柱状電極21とを接続している。また、配線15は、それぞれ隣接する他の配線15と電気的に絶縁されるように配列されている。
壁23は、開口13b、14bを囲むように設けられ、上側から平面視して四角形の形状をなしている。壁23は、下層であって、上層を電解メッキするための核となる銅等を有する電解めっき用シード層16と、上層である銅等の導電性材料を有する壁層24を含む。壁23の幅は70〜100μmである。壁23の上面は柱状電極21の上面とほぼ面一であり、高さは50〜100μm程度である。壁23と半導体基板11との間には保護絶縁膜13が介在されているため、壁23は、電子回路2や半導体構成体1Aのシリコン基板11に設けられたトランジスタ等の他の電子回路と絶縁されている。
なお、接地されている接続パッド12と接続されている一本の配線15は、壁23の下部まで延在しており、いずれか1つの柱状電極21A、21Bが、この配線15を介して壁23と導通している。この柱状電極21Bは接地用の端子であり、壁23を接地する。
壁23の上部には、壁23の内側部分(電子回路2がある領域)を塞ぐ蓋25Cが設けられている。蓋25Cの厚さは柱状電極21Bの高さと等しい。蓋25Cとしては、例えば、銅やステンレス等からなる印刷マスク版を用いることができる。あるいは、電子回路2に光学素子を用いるために、例えばポリカーボネート等の透明な材料を用いてもよい。
なお、蓋25Cは、半導体基板11のダイシング前に、隣接する他の半導体構成体1Cの蓋25Cと一体であったため、壁23よりも外側の部分に他の蓋25Cとの接続部25aを有している。接続部25aは製造プロセスにおいて除去してもよい。
なお、蓋25Cは、半導体基板11のダイシング前に、隣接する他の半導体構成体1Cの蓋25Cと一体であったため、壁23よりも外側の部分に他の蓋25Cとの接続部25aを有している。接続部25aは製造プロセスにおいて除去してもよい。
配線15及び絶縁膜14の表面であって、柱状電極21の周囲並びに壁23の外側部分には、封止樹脂22が充填されている。封止樹脂22は、例えば、熱硬化性ポリイミド、エポキシ系樹脂やフェノール系樹脂等の熱硬化性樹脂と、シリカ等のフィラーとのコンポジット(複合材料)からなる。ただし、フィラーを含有していない熱硬化性樹脂でもよい。柱状電極21は上面が封止樹脂22から露出されている。
次に、半導体構成体1Cの製造方法について図3〜図18を用いて説明する。ここで、図3〜図10は製造途中におけるダイシング前の半導体基板の断面図である。また、図11、図13、図15、図17は、半導体構成体1Cの製造途中におけるダイシング前の半導体基板を示す平面図であり、図12は図11のXII−XII矢視断面図、図14は図13のXIV−XIV矢視断面図、図16は図15のXVI−XVI矢視断面図、図18は図17のXVIII−XVIII矢視断面図である。
まず、図3に示すように、半導体基板(半導体ウエハ)11上に接続パッド12及び保護絶縁膜13を備える、ダイシング前の半導体デバイスウエハ10の表面に、絶縁膜14を形成する。なお、保護絶縁膜13には、電子回路2を露出させる開口14bがまだ設けられておらず、電子回路2は保護絶縁膜13に被覆されている。
次に、図4に示すように、スパッタ等の気相堆積法により絶縁膜14の全面及び接続パッド12を覆う電解めっき用シード層16を形成する。
次に、図5に示すように、電解めっき用シード層16上の配線層19を形成する領域を除き、配線レジスト17を形成する。
次に、図6に示すように、配線レジスト17が形成されていない部分に、電解めっき用シード層16を陰極とする電解めっきにより配線層19を堆積する。
その後、図7に示すように、配線レジスト17を除去する。
次に、図5に示すように、電解めっき用シード層16上の配線層19を形成する領域を除き、配線レジスト17を形成する。
次に、図6に示すように、配線レジスト17が形成されていない部分に、電解めっき用シード層16を陰極とする電解めっきにより配線層19を堆積する。
その後、図7に示すように、配線レジスト17を除去する。
次に、図8に示すように、電解めっき用シード層16及び配線層19の上面にドライフィルムを貼り付け、パターニングすることで柱状電極21A及び壁層24用のレジスト20Aを形成する。なお、レジスト20Aには、複数の柱状電極21Aを形成する部分にそれぞれ開口20aが、壁層24を形成する部分に開口20bがそれぞれ設けられている。
次に、図9に示すように、電解めっき用シード層16を陰極とする電解めっきにより、レジスト20Aの開口20a内に柱状電極21Aを、開口20b内に壁層24を、それぞれ同時に堆積する。柱状電極21A及び壁層24は必要に応じて上面をグラインダーで研削してレジスト20Aと同じ高さにして上面全体を平滑にすることが好ましい。
次に、図10に示すように、柱状電極21A及びレジスト20Aの上部に、ドライフィルムを貼り付け、パターニングすることで柱状電極21B用のレジスト20Bを形成する。なお、レジスト20Bには、柱状電極21Bを形成する部分に開口20cが設けられている。
次に、図11に示すように、電解めっき用シード層16を陰極とする電解めっきにより、レジスト20Bの開口20c内に柱状電極21Bを形成する。
次に、図12に示すように、レジスト20A、20Bを除去する。
次に、図12に示すように、レジスト20A、20Bを除去する。
次に、図13、図14に示すように、ソフトエッチングにより配線層19、柱状電極21、壁層24が形成されていない領域の電解めっき用シード層16を除去した後に、フォトリソグラフィによって保護絶縁膜13に電子回路2を露出させる開口13bを形成する。
なお、この時、配線層19、柱状電極21、壁23の表面もエッチングされるが、配線層19、柱状電極21、壁23は電解めっき用シード層16と比較して充分に厚いため、影響はない。エッチングにより配線15、柱状電極21、壁23が形成されていない領域の電解めっき用シード層16を除去した後に、フォトリソグラフィによって保護絶縁膜13に電子回路2を露出させる開口13bを形成する。
なお、この時、配線層19、柱状電極21、壁層24の表面もエッチングされるが、配線層19、柱状電極21、壁層24は電解めっき用シード層16と比較して充分に厚いため、影響はない。
なお、この時、配線層19、柱状電極21、壁23の表面もエッチングされるが、配線層19、柱状電極21、壁23は電解めっき用シード層16と比較して充分に厚いため、影響はない。エッチングにより配線15、柱状電極21、壁23が形成されていない領域の電解めっき用シード層16を除去した後に、フォトリソグラフィによって保護絶縁膜13に電子回路2を露出させる開口13bを形成する。
なお、この時、配線層19、柱状電極21、壁層24の表面もエッチングされるが、配線層19、柱状電極21、壁層24は電解めっき用シード層16と比較して充分に厚いため、影響はない。
次に、外観検査により配線15の断線や半導体デバイスウエハ10上の異物の有無を確認する。次に、絶縁膜14の表面を酸素プラズマにより処理することで、表面の炭化物等の異物を除去する。
次に、図15、図16に示すように、壁23の内側部分を塞ぐ蓋25Cを、壁23の上部に載置する。蓋25Cは、接続部25aによって相互に連結されている。
次に、図17、図18に示すように、壁23の外側部分及び蓋25Cの上部に封止樹脂22を充填する。このとき、壁23の内側部分は蓋25Cにより塞がれているため、封止樹脂22は充填されない(壁23の上面と蓋25Cの下面との隙間に僅かに侵入する)。
次に、グラインダーで封止樹脂22を上面から切削することで、柱状電極21B、封止樹脂22及び蓋25Cの上面を面一に形成する。その後、ダイシングすることで、図1、図2に示す半導体構成体1Cが完成する。
図19は半導体構成体1Cを実装した構造を示す断面図である。基板200の上面に配線219が形成されており、配線219は半田端子223が設けられた部分を除き、絶縁膜214により被覆されている。半田端子223を介して半導体構成体1Cの柱状電極21と配線219とが接続される。
このように、本発明によれば、半導体デバイスウェハ10の電子回路2が形成された領域を取り囲む壁23を形成し、蓋25Cで塞いでから封止樹脂22を壁23の外側部分に充填するので、電子回路2が形成された領域を封止樹脂22により封止せずに露出させることができる。また、壁23を柱状電極21と同時に形成するため、工程数を減らすことができ、生産性を向上させることができる。
1C 半導体構成体
2 電子回路
10 半導体デバイスウエハ
11 半導体基板
12 接続パッド
13 保護絶縁膜
13a、13b、14a、14b、20a、20b、20c、201 開口
14、214 絶縁膜
15 配線
16 電解めっき用シード層
17 配線レジスト
19、219 配線層
20A、20B レジスト
21A、21B 柱状電極
22 封止樹脂
23 壁
24 壁層
25C 蓋
200 基板
223 半田端子
2 電子回路
10 半導体デバイスウエハ
11 半導体基板
12 接続パッド
13 保護絶縁膜
13a、13b、14a、14b、20a、20b、20c、201 開口
14、214 絶縁膜
15 配線
16 電解めっき用シード層
17 配線レジスト
19、219 配線層
20A、20B レジスト
21A、21B 柱状電極
22 封止樹脂
23 壁
24 壁層
25C 蓋
200 基板
223 半田端子
Claims (9)
- 半導体ウエハと、
前記半導体ウエハ上の所定領域を囲むように形成された壁と、
前記半導体ウエハ上の前記所定領域の外部に設けられた配線と、
前記配線上に設けられた外部接続用電極と、
前記壁の外部に充填され、前記配線を封止する封止樹脂と、
前記壁の上部に配置され、前記所定領域の上部空間を封止する蓋と、
を備えることを特徴とする半導体構成体。 - 前記蓋は透明であることを特徴とする請求項1に記載の半導体構成体。
- 前記所定領域には、電子回路が設けられていることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体構成体。
- 前記壁及び前記外部接続用電極は、同一材料で形成されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の半導体構成体。
- 前記壁及び前記外部接続用電極は、同じ高さに設定されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記壁と前記半導体ウエハとの間には、保護絶縁膜が介在されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の半導体装置。
- 半導体ウエハ上の所定領域の外部に配置された配線層上に外部接続用電極を形成すると同時に、前記所定領域を囲む壁を形成し、
前記所定領域の上部空間を塞ぐ蓋を前記壁の上部に載置し、
前記配線を封止する封止樹脂を前記壁の外部に充填し、
前記封止樹脂、前記外部接続用電極及び前記壁の上面を切削することを特徴とする半導体構成体の製造方法。 - 前記封止樹脂を充填後、前記蓋を除去することを特徴とする請求項7記載の半導体構成体の製造方法。
- 前記蓋は透明であることを特徴とする請求項7または8に記載の半導体構成体の製造方法。
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