JP2011208811A - 密閉容器及び乾燥処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】処理材料の乾燥処理工程に要する熱エネルギーを従来よりも低減する。また、複数の密閉容器が１つの恒温室に配置される場合において、複数の密閉容器内の気体状態を互いに異なる状態にする。
【解決手段】密閉容器５は、処理材料６が収納される筒状部３４と、一対の蓋部３５、３６と、筒状部３４の内部に設けられたシャフト部３７と、一対の締結部材３８、３９と、一対のサポート板４０、４１と、各サポート板４０、４１を支持するための台座４２と、各処理材料６を互いに隔離するように配置された各セパレータ４３と、密閉容器の頂部に設置された耐熱カプラー４４とを有している。
【選択図】図３

Description

本発明は、処理材料の各種処理や試験等に用いる密閉容器と、この密閉容器を適用した乾燥処理装置に関する。

従来の乾燥処理装置では、まず、温度及び圧力を一定に保つことのできる恒温槽内に処理材料を配置し、恒温室内の温度を昇温させるとともに、恒温室内を真空にすることで、乾燥処理が施されるものがある。この乾燥処理装置では、乾燥処理が終了すると、処理材料を取り出すために恒温室内が冷却される。また、別の乾燥処理装置では、まず、温度と湿度を一定に保つことのできる恒温室（乾燥機）内に処理材料を配置し、恒温室内の温度を昇温させるとともに、恒温室内に水蒸気を供給することで処理材料が高温多湿条件下に置かれる。次いで、恒温室内への水蒸気の供給を停止するとともに、恒温室内を真空にすることで恒温室内が冷却されて乾燥処理が施されるものがある（例えば、特許文献１参照）。

特開２００５−３０２５３８号公報

しかしながら、従来の乾燥処理装置では、複数回の乾燥処理工程が連続して行われる場合に、１回の乾燥処理工程が終了した時点で、恒温室内は室温付近の低温になっている。このため、次の乾燥処理工程を開始するためには、一旦低温になった真空乾燥機内の温度を再度昇温させる必要がある。従って、従来の乾燥処理装置では、恒温室内の全体を昇温、冷却しなければならないことから、恒温室自体の熱容量分を加熱・冷却することになり、莫大な熱エネルギーを要していた。

また、従来の乾燥処理装置では、恒温室内の全体を真空にすることから、真空引き処理に要するエネルギーが莫大なものとなっていた。また、真空の圧力に耐えるだけの内槽強度が恒温室に要求されるため、恒温室を薄い板厚の材料を用いて製作できないことから、恒温室自体の熱容量分を加熱・冷却する場合に、莫大なエネルギーを要していた。

本発明の目的は、処理材料の乾燥処理工程に要する熱エネルギーを従来よりも低減できる密閉容器及び乾燥処理装置を提供することである。

また、本発明の別の目的は、複数の密閉容器が１つの恒温室に配置される場合において、複数の密閉容器内の気体状態を互いに異なる状態にできる密閉容器を提供することである。

第１の発明に係る密閉容器は、処理材料が収容され且つ外部の気体と熱交換可能に構成されるとともに、その内部の気体状態を変更するための気体状態変更手段に接続可能な接続部を備える。

この密閉容器では、密閉容器単位で気体状態を変更するものであるため、密閉容器を小さくできる。よって、処理材料が収容される密閉容器を比較的薄い板厚の材料を用いて製作できる。従って、恒温室内の全体の気体状態を変更する従来の乾燥処理装置と比べて、気体の消費量や、気体状態の変更に要するエネルギーを低減できる。

また、この密閉容器では、複数の密閉容器が１つの恒温室に配置される場合において、複数の密閉容器内の気体状態を互いに異なる状態にできることから、密閉容器のそれぞれにおいて、処理材料の異なる処理や試験等に用いることができる。

なお、本発明中の「気体状態を変更する」とは、気体の温度、圧力、種類及び湿度を変更することが含まれる。

第２の発明に係る密閉容器は、第１の発明に係る密閉容器において、密閉容器の外壁部及び内壁部の少なくとも一方に設けられた放熱フィンまたは凹凸形状部を備える。

この密閉容器では、密閉容器の外壁部及び内壁部の少なくとも一方の表面積を増加させることができるので、密閉容器の外部から外壁部に吸収される熱量を増加させることができる。また、密閉容器の内壁部の表面積を増加させることができるので、内壁部からの輻射が促進され、内壁部から密閉容器内の気体に吸収される熱量を増加させることができる。

第３の発明に係る密閉容器は、第１または第２の発明に係る密閉容器において、密閉容器内の気体を攪拌する攪拌機構を備える。

この密閉容器では、攪拌機構を設けることで、密閉容器内に気体の対流を発生させることができる。従って、気体と各処理材料との間の熱交換を促進させることができる。

第４の発明に係る密閉容器は、第３の発明に係る密閉容器において、攪拌機構は、気体状態変更手段によって供給される気体によって駆動される。

この密閉容器では、気体状態変更手段によって供給される気体を利用して、密閉容器内に気体の対流を発生させることができる。

第５の発明に係る密閉容器は、第３または第４の発明に係る密閉容器において、攪拌機構は、気体状態変更手段によって供給される気体によって回転するプロペラである。

この密閉容器では、プロペラの回転によって密閉容器内に気体の対流を発生させることができる。従って、処理材料と気体との間の熱交換を促進させることができる。

第６の発明に係る密閉容器は、第３または第４の発明に係る密閉容器において、攪拌機構は、密閉容器の内周面に設けられ、接続部を介して密閉容器内に供給される気体を密閉容器の内周面に沿って吹き出す吹き出し部材である。

この密閉容器では、密閉容器の内周面に沿う方向に気体を吹き出して、密閉容器内に気体の対流を発生させることで、気体と処理材料との間の熱交換を促進させることができる。

第７の発明に係る密閉容器は、第３または第４の発明に係る密閉容器において、攪拌機構は、密閉容器内に収容される処理材料を保持するとともに、気体状態変更手段によって供給される気体によって回転する回転体である。

この密閉容器では、処理材料が保持された回転体の回転によって密閉容器内に気体の対流を発生させることができるとともに、処理材料と気体を積極的に接触させることができる。従って、処理材料と気体との間の熱交換を促進させることができる。

第８の発明に係る密閉容器は、第１〜第７の発明のいずれかに係る密閉容器において、密閉容器内に収容される処理材料を保持する保持部材を備え、保持部材は、気体が通過可能な気体通路を有している。

この密閉容器では、気体通路内を流れる恒温室内の気体の温度を利用することで、保持部材から処理材料への熱伝達を効率良く行うことができる。

第９の発明に係る密閉容器は、第１〜第８の発明のいずれかに係る密閉容器において、密閉容器内に配置された複数の処理材料を仕切るとともに密閉容器の熱交換可能な部位に接続されたセパレータを備える。

この密閉容器では、セパレータを設けることで、各処理材料が互いに接触することを防止できるとともに、セパレータの熱を伝熱及び輻射によって処理材料に伝達することができる。

第１０の発明に係る密閉容器は、第９の発明に係る密閉容器において、セパレータは、保持部材に接続されている。

この密閉容器では、セパレータを保持部材に接続することで、保持部材の熱を熱伝導によってセパレータに直接伝達することができる。

第１１の発明に係る密閉容器は、第９または第１０の発明に係る密閉容器において、セパレータは、接続部を介して供給された気体が導入される内部空間と、内部空間に導入された気体を密閉容器内へ吹き出し可能な吹き出し孔とを備える。

この密閉容器では、セパレータの内部空間に導入された気体が吹き出し孔から密閉容器内に吹き出すことで、セパレータと各処理材料との間に気体の衝突と対流を発生させることができる。従って、気体と各処理材料との間の熱交換を促進させることができる。

第１２の発明に係る密閉容器は、第１〜第１１の発明のいずれかに係る密閉容器において、密閉容器の内周面から内側に向かって延在する伝熱板と、密閉容器内に収容される処理材料を支持する支持部材とを備え、伝熱板は、支持部材が移動することによって処理材料と接触する。

この密閉容器では、支持部材の移動によって伝熱板を処理材料と直接接触させることができる。従って、伝熱板の熱を熱伝導によって処理材料へダイレクトに伝達することができる。

第１３の発明に係る密閉容器は、第１〜第１２の発明のいずれかに係る密閉容器において、密閉容器の内部に外部から液体を供給する液体供給部を備える。

この密閉容器では、密閉容器の内部に外部から液体を供給する液体供給部を設けることで、密閉容器内の圧力を減圧したり密閉容器内を加熱したりすることによって密閉容器内を飽和状態で保つことができる。従って、試験対象となる処理材料を飽和蒸気に曝した状態で、吸湿性能試験や湿度試験等を行うことができる。

第１４の発明に係る乾燥処理装置は、第１〜第１３の発明のいずれかに係る密閉容器を内部に配置可能な恒温室と、恒温室内の密閉容器を恒温室の外部へ搬送する搬送機構とを備え、恒温室は、密閉容器内の気体状態を変更するための気体状態変更手段と、密閉容器内の温度を調節するための温度調節手段とを有する。

この乾燥処理装置では、恒温室内において乾燥処理が終了すると、密閉容器は恒温室の外部へと搬送される。従って、従来の乾燥処理装置のように、処理材料を恒温室の外部へ取り出すために、恒温室内を常圧に戻し、恒温室内の温度を降温させて恒温室の内部を冷却する必要がなく、恒温室の内部を高温に維持することができる。そのため、複数回の乾燥処理工程が連続して行われる場合でも、恒温室内の温度を高温に維持できることから、処理材料の乾燥処理工程に要する熱エネルギーを低減できる。

第１実施形態に係る乾燥処理装置を示す側面図である。 第１実施形態に係る乾燥処理装置を示す上面図である。 搬送パレットに載置された密閉容器の側断面視図である。 図３のＡ−Ａ線の矢視断面図である。 図３のＢ−Ｂ線の矢視断面図である。 搬送される密閉容器内の温度と圧力の変化を示している。 （ａ）は、搬送パレットに載置された密閉容器の側断面視図である。（ｂ）は、（ａ）のＥ−Ｅ線の矢視断面図である。 （ａ）は、搬送パレットに載置された密閉容器の側断面視図である。（ｂ）は、（ａ）のＦ−Ｆ線の矢視断面図である。 （ａ）は、搬送パレットに載置された密閉容器の側断面視図である。（ｂ）は、（ａ）のＧ−Ｇ線の矢視断面図である。 （ａ）は、搬送パレットに載置された密閉容器の側断面視図である。（ｂ）は、（ａ）のＩ−Ｉ線の矢視断面図である。 （ａ）は、搬送パレットに載置された密閉容器の外観斜視図である。（ｂ）は、（ａ）において二点鎖線で囲まれた抵抗弁の内部構造を示した図である。 （ａ）は、図１１（ａ）に示した搬送パレットに載置された密閉容器の側断面視図である。（ｂ）は、（ａ）のＣ−Ｃ線の矢視断面図である。 （ａ）は、搬送パレットに載置された密閉容器の側断面視図である。（ｂ）は、（ａ）のＤ−Ｄ線の矢視断面図である。 搬送パレットに載置された密閉容器の側断面視図である。 （ａ）は、図１４のＨ−Ｈ線の矢視断面図である。（ｂ）は、攪拌機構の動作説明図である。 搬送パレットに載置された密閉容器の側断面視図である。 図１６のＡ−Ａ線の矢視断面図である。 図１６のＢ−Ｂ線の矢視断面図である。 （ａ）は、搬送パレットに載置された密閉容器の側断面視図である。（ｂ）は、（ａ）のＧ−Ｇ線の矢視断面図である。 （ａ）は、密閉容器の側断面視図である。（ｂ）は、（ａ）のＩ−Ｉ線の矢視断面図である。 （ａ）は、第８実施形態の変形例に係る密閉容器の側断面視図である。（ｂ）は、攪拌機構の動作説明図である。 （ａ）は、第５実施形態の変形例に係る密閉容器の側断面視図である。（ｂ）は、（ａ）のＩ−Ｉ線の矢視断面図である。 第１実施形態の変形例に係る密閉容器の側断面視図である。 図２３のＡ−Ａ線の矢視断面図である。 図２３のＢ−Ｂ線の矢視断面図である。

（第１実施形態）
以下、図面に基づいて、本発明の第１実施形態に係る密閉容器及び乾燥処理装置について説明する。図１は、第１実施形態に係る乾燥処理装置を示す側面図である。図２は、第１実施形態に係る乾燥処理装置を示す上面図である。図１及び図２では、恒温室の内部が分かるように恒温室の部分を断面図で示している。図３は、搬送パレットに載置された密閉容器の側断面視図である。図４は、図３のＡ−Ａ線の矢視断面図である。図５は、図３のＢ−Ｂ線の矢視断面図である。図６は、恒温室内に搬送された密閉容器内の温度と圧力の関係を示している。なお、図２では、図１に示した位置決めストッパ８ａ、１７ａ〜１７ｃの図示を省略している。

＜乾燥処理装置＞
図１及び図２に示されるように、乾燥処理装置１００は、搬入機構１、恒温室２及び冷却機構３を有している。搬入機構１、恒温室２及び冷却機構３は、処理材料６を内部に収容した密閉容器５の搬送方向（Ｘ方向）に沿って上流側から下流側に向けて順次配置されており、密閉容器５は、搬送パレット７に載置された状態で、搬入機構１、恒温室２及び冷却機構３の順番に搬送される。本発明で用いられる処理材料６は、例えばリチウムイオンバッテリー（ＬｉＢ）の電極材であり、ロール形状を有している。

＜搬入機構＞
図１に示されるように、搬入機構１は、密閉容器５が載置された搬送パレット７を常温に維持した状態で恒温室２に搬送するものである。搬入機構１は、密閉容器５が載置された搬送パレット７をフリーフロー搬送可能なチェーン８と、チェーン８と噛み合う４つのスプロケット１０を有している。そして、各スプロケット１０を回転駆動させることにより、各スプロケット１０に噛み合うチェーン８を任意の速度で移動させることができる。これにより、搬入機構１は、密閉容器５が載置された搬送パレット７をＸ方向に移動させることにより、密閉容器５が載置された搬送パレット７を恒温室２に搬送することができる。なお、搬入機構には、密閉容器５が載置された搬送パレット７の位置決めストッパ８ａが設けられている。

＜恒温室＞
恒温室２は、その内部が所定温度に維持されることで、密閉容器５内の処理材料６の乾燥処理を行うことができる。また、この恒温室２内に配置された密閉容器５内の真空引きや窒素置換を行うことができる。

図１に示されるように、恒温室２の左側及び右側には、それぞれ、密閉容器５が載置された搬送パレット７の搬入出用の開口部２２、２３が形成されている。各開口部２２、２３には、各開口部２２、２３を開閉するための断熱シャッタ２６、２７が設けられており、これらのシャッタ２６、２７は、Ｙ方向に延びるように形成されたシャッタ収納部２８、２９の内部にそれぞれ収納可能とされる。このシャッタ収納部２８、２９には、断熱シャッタ２６、２７を昇降させるための昇降機構（図示せず）が収納されている。そして、密閉容器５が載置された搬送パレット７の搬出入時以外は、開口部２２、２３は断熱シャッタ２６、２７によって閉鎖されることで、恒温室２の内部が高温雰囲気下に保たれている。

図１に示されるように、恒温室２内には、恒温室２内の空気を加熱するためのヒータ４５と、恒温室２内に気流を起こすための送風手段４６と、恒温室２内に外気を導入する冷却手段４７とが配置されている。従って、恒温室２内は、ヒータ４５、送風手段４６及び冷却手段４７を用いて所定の温度に維持可能である。本実施形態では、ヒータ４５、送風手段４６及び冷却手段４７で、温度調節手段が構成される。

図１に示されるように、恒温室２の上側には、第１接続装置１２、第２接続装置１３及び第３接続装置１４がＸ方向に沿って上流側から下流側に向けて順次配置されている。また、恒温室２は、密閉容器５の内部が窒素ガス（Ｎ_２）で加圧されるように変更可能な窒素ガス置換ユニット１５と、密閉容器５の内部が真空状態になるように変更可能な真空引きユニット１６を有している。また、第１接続装置１２〜第３接続装置１４は、窒素ガス置換ユニット１５にも真空引きユニット１６にも接続されている。

図１に示されるように、上流側から下流側の第１真空ポジションＰ１〜第３真空ポジションＰ３に配置された第１接続装置１２〜第３接続装置１４の恒温室２内に連通する各先端部には、Ｙ方向に移動可能な第１耐熱カプラー１２ａ〜第３耐熱カプラー１４ａが設けられている。各耐熱カプラー１２ａ〜１４ａは、各真空ポジションＰ１〜Ｐ３に配置された密閉容器５の耐熱カプラー４４と着脱可能である。本実施形態では、第１接続装置１２、第２接続装置１３及び第３接続装置１４のいずれかと、窒素ガス置換ユニット１５または真空引きユニット１６とで、気体状態変更手段が構成される。

（搬送機構）
図１に示されるように、恒温室２は、密閉容器５が載置された搬送パレット７を搬送可能なチェーン１７と、チェーン１７と噛み合う６つのスプロケット１９を有している。そして、各スプロケット１９を回転駆動させることにより、各スプロケット１９に接するチェーン１７を任意の速度で移動させることができる。これにより、恒温室２は、密閉容器５が載置された搬送パレット７をＸ方向に移動させることにより、密閉容器５が載置された搬送パレット７を冷却機構３に搬送することができる。なお、チェーン１７及び各スプロケット１９は、高温加熱に適するものであれば、任意の材料を用いることができる。本実施形態では、チェーン１７及びスプロケット１９で、搬送機構が構成される。

なお、チェーン１７には、空回り機構であるフリーフローコンベア用のローラーチェーンが使用されており、各真空ポジションＰ１〜Ｐ３に相当する搬送ラインには、位置決めストッパ１７ａ〜１７ｃが設けられている。これにより、フリーフローコンベア上で、密閉容器５が載置された搬送パレット７の位置決めを行うことができる。また、各耐熱カプラー１２ａ、１３ａ、１４ａ側にも、位置決め精度（寸法公差）を吸収できるフローティング機構が設けられており、密閉容器５の耐熱カプラー４４と無理なくドッキングできるように構成されている。なお、寸法公差は、例えば、±１〜２ｍｍ程度に設定することができる。

＜冷却機構＞
冷却機構３は、恒温室２から外部に搬送された密閉容器５に冷却ファンから冷風を吹き付けて冷却するためのものである。図１に示されるように、冷却機構３は、密閉容器５が載置された搬送パレット７を搬送可能なチェーン３０と、チェーン３０と噛み合う４つのスプロケット３２と、密閉容器５に向けて冷風を吹き出す冷却ファン（図示省略）と、その駆動機構等で構成されている。そして、各スプロケット３２を回転駆動させることにより、各スプロケット３２に噛み合うチェーン３０を任意の速度で移動させることができる。これにより、冷却機構３は、密閉容器５が載置された搬送パレット７をＸ方向に移動させるとともに、密閉容器５がチェーン３０上で冷却ファンからの冷風を浴びることにより、密閉容器５内に収容された処理材料６が冷却される。

＜密閉容器＞
図３〜図５に示されるように、密閉容器５は、処理材料６の乾燥に適した雰囲気環境を形成するためのものである。より具体的には、密閉容器５内が、窒素ガスで充たされたり、真空状態で維持されたり、密閉容器５内の温度が常温または高温で維持されたりする。

図３に示されるように、密閉容器５は、処理材料６がＺ方向に沿って収納される筒状部３４と、この筒状部３４の前面側及び背面側にそれぞれ設けられた一対の蓋部３５、３６とを有している。そして、筒状部３４と、蓋部３５、３６の内側と、後述するシャフト部３７の外周部３７ｂの外側に、密閉空間が形成されている。

また、密閉容器５は、筒状部３４の内部に設けられたシャフト部（保持部材）３７と、このシャフト部３７の前面側及び背面側において蓋部３５、３６をそれぞれ締結するための一対の締結部材３８、３９とを有している。また、密閉容器５は、シャフト部３７の前面側端部及び背面側端部にそれぞれ設けられた一対のサポート板４０、４１と、各サポート板４０、４１を支持するための台座４２と、各処理材料６を互いに隔離するように配置された各セパレータ４３と、密閉容器５の頂部に設置された耐熱カプラー（接続部）４４とを有している。なお、シャフト部３７、サポート板４０、４１、台座４２及び各セパレータ４３は、高温加熱に適するものであれば、任意の材料を用いることができる。

図３〜図５に示されるように、シャフト部３７は、略円筒状に形成されており、内部空間（気体通路）３７ａと、各処理材料６と各セパレータ４３とが所定の間隔をおいて交互に介挿された外周部３７ｂとを有している。シャフト部３７の内部空間３７ａは、密閉容器５が恒温室２内に搬送されたときに、図３中の矢印で示す方向に恒温室２内の高温空気が通過可能となっている。このとき、高温空気からの熱伝達（熱輻射）によってシャフト部３７の外周部３７ｂが加熱され、加熱された外周部３７ｂからの熱伝導によって各セパレータ４３が加熱される。そして、加熱された各セパレータ４３からの熱輻射によって各処理材料６が加熱される。つまり、本実施形態では、内部空間３７ａ内を流れる高温の空気を利用して、外周部３７ｂから各処理材料６に至るまでの熱の伝導経路が形成されている。

また、処理材料６の乾燥処理工程において、各セパレータ４３に輻射を促進するための材料を貼付又は塗布しておくことが好ましい。この促進材料の具体例には、熱伝導及び熱輻射がともに優れた窒化アルミニウム及び炭化珪素等や、熱放射には優れるが、熱伝導率は低いジルコニア、アルミナ及びシリカ等を挙げることができる。

耐熱カプラー４４は、窒素ガス置換ユニット１５及び真空引きユニット１６のいずれかと接続可能であって、窒素ガス置換ユニット１５と接続されることによって密閉容器５の内部が窒素ガス（Ｎ_２）で加圧されるように変更可能であるとともに、真空引きユニット１６と接続されることによって密閉容器５の内部が真空状態になるように変更可能となっている。図３に示されるように、耐熱カプラー４４の上端には、自在継手を使用した接続部４４ａが設けられている。この接続部４４ａは、第１接続装置１２〜第３接続装置１４の恒温室２内に連通する各先端部に設けられた第１耐熱カプラー１２ａ〜第３耐熱カプラー１４ａのいずれかと着脱可能であって、各耐熱カプラー１２ａ〜１４ａのいずれかと接続されたときに開くとともに、この接続状態が解除されたときに閉じる構造となっている。

＜乾燥処理工程＞
以下では、本実施形態の乾燥処理装置における処理材料６の乾燥処理工程について、図６を参照しつつ説明する。図６は、搬送される密閉容器内の温度と圧力の変化を示している。この処理工程は、以下に示す搬入工程、乾燥工程及び冷却工程からなる。また、この処理工程では、恒温室２の内部が１５０℃で保たれており、冷却機構３は、密閉容器５に冷風を吹き付け可能な状態にセットされている。

また、各処理材料６は、シャフト部３７の外周部３７ｂに介挿された状態で密閉容器５内に配置されており、シャフト部３７に各蓋部３５、３６を締結することによって、密閉容器５の内部に密閉空間が形成されている。

また、この乾燥処理工程では、所定時間Ｔｆが経過するたびに、密閉容器５の搬送が開始される。従って、この所定時間Ｔｆには、搬送が開始された後で次のポジションに移動する移動時間と、移動先のポジションで停止している時間が含まれる。なお、この所定時間Ｔｆは、処理材料６の乾燥に必要な時間を考慮して変更してもよい。

（搬入工程）
まず、この搬入工程では、時刻ｔ０において、搬入機構１によって、密閉容器５が載置された搬送パレット７の搬送が開始され、密閉容器５が載置された搬送パレット７が１５０℃に保たれた恒温室２の内部に搬入される。

（乾燥工程）
次に、この乾燥工程では、時刻ｔ１において、恒温室２の内部に搬入された密閉容器５が載置された搬送パレット７は、位置決めストッパ１７ａによって第１真空ポジションＰ１で停止するとともに、密閉容器５の接続部４４ａが第１耐熱カプラー１２ａに接続される。そして、第１耐熱カプラー１２ａを介して、密閉容器５の耐熱カプラー４４と、真空引きユニット１６とが接続され、密閉容器５内の圧力が０気圧になるまで真空引きユニット１６による真空引きが行われる。

そして、真空引きが行われた後で、第１耐熱カプラー１２ａを介して、密閉容器５の耐熱カプラー４４と、窒素ガス置換ユニット１５とが接続され、窒素ガス置換ユニット１５から密閉容器５内部に１気圧の窒素ガスが供給される。この窒素ガスの供給は、密閉容器５内の温度が常温から１５０℃に昇温する前に行われる。そして、時刻ｔ０から所定時間Ｔｆが経過した時刻ｔ２において、密閉容器５の接続部４４ａと第１耐熱カプラー１２ａとの接続状態が解除され、密閉容器５が載置された搬送パレット７の搬送が開始される。

そして、時刻ｔ３において、密閉容器５が載置された搬送パレット７は、位置決めストッパ１７ｂによって第２真空ポジションＰ２で停止するとともに、密閉容器５の接続部４４ａが第２耐熱カプラー１３ａに接続される。この時刻ｔ３において、密閉容器５内の温度は１５０℃に到達している。そして、第２耐熱カプラー１３ａを介して、密閉容器５の耐熱カプラー４４と、真空引きユニット１６とが接続され、密閉容器５内の圧力が０気圧になるまで真空引きユニット１６による真空引きが行われる。そして、真空引きが行われた後で、第２耐熱カプラー１３ａを介して、密閉容器５の耐熱カプラー４４と、窒素ガス置換ユニット１５とが接続され、第２耐熱カプラー１３ａを介して、窒素ガス置換ユニット１５から密閉容器５内部に２気圧の窒素ガスが供給される。そして、時刻ｔ２から所定時間Ｔｆが経過した時刻ｔ４において、密閉容器５の接続部４４ａと第２耐熱カプラー１３ａとの接続状態が解除されて、密閉容器５が載置された搬送パレット７の搬送が開始される。

そして、時刻ｔ５において、密閉容器５が載置された搬送パレット７は、位置決めストッパ１７ｃによって第３真空ポジションＰ３で停止するとともに、密閉容器５の接続部４４ａが第３耐熱カプラー１４ａに接続される。そして、第３耐熱カプラー１４ａを介して、密閉容器５の耐熱カプラー４４と、真空引きユニット１６とが接続され、密閉容器５内の圧力が０気圧になるまで真空引きユニット１６による真空引きが行われる。そして、真空引きが行われた後で、第３耐熱カプラー１４ａを介して、密閉容器５の耐熱カプラー４４と、窒素ガス置換ユニット１５とが接続され、第３耐熱カプラー１４ａを介して、窒素ガス置換ユニット１５から密閉容器５内部に１気圧の窒素ガスが供給される。そして、時刻ｔ４から所定時間Ｔｆが経過した時刻ｔ６において、密閉容器５の接続部４４ａと第３耐熱カプラー１４ａとの接続状態が解除されて、密閉容器５が載置された搬送パレット７の搬送が開始される。

なお、本実施形態では、時刻ｔ１〜ｔ２において密閉容器５が第１真空ポジションＰ１で停止している停止時間Δｔ１、時刻ｔ３〜ｔ４において密閉容器５が第２真空ポジションＰ２で停止している停止時間Δｔ２、時刻ｔ５〜ｔ６において密閉容器５が第３真空ポジションＰ３で停止している停止時間Δｔ３は、いずれも、処理材料６の乾燥に必要な時間よりも短い。この乾燥工程では、密閉容器５が各真空ポジションＰ１〜Ｐ３で停止している停止時間Δｔ１〜Δｔ３の合計で、処理材料６の乾燥に必要な時間が確保されており、処理材料６を十分に乾燥させることができる。

（冷却工程）
最後に、この冷却工程では、時刻ｔ７において冷却機構３に搬送された密閉容器５に対して、冷却ファンから冷風が吹き付けられ、密閉容器５内の処理材料６が常温に達するまで冷却される。

[第１実施形態の密閉容器及び乾燥処理装置の特徴]
以上、本実施形態の密閉容器５では、密閉容器５単位で気体状態を変更するものであるため、密閉容器５を小さくできる。よって、処理材料６が収容される密閉容器５を比較的薄い板厚の材料を用いて製作できる。従って、恒温室内の全体の気体状態を変更する従来の乾燥処理装置と比べて、気体の消費量や、気体状態の変更に要するエネルギーを低減できる。

また、本実施形態の密閉容器５では、３つの密閉容器５が１つの恒温室２に配置されるので、３つの密閉容器５内の気体状態を互いに異なる状態にできることから、密閉容器５のそれぞれにおいて、処理材料の異なる処理や試験等に用いることができる。

また、本実施形態の密閉容器５では、シャフト部３７の内部空間３７ａ内を流れる高温の空気を利用して、外周部３７ｂから各処理材料６に至るまでの熱の伝導経路を形成することができる。従って、各処理材料６を効率良く乾燥させることができる。

また、本実施形態の密閉容器５では、セパレータ４３をシャフト部３７の外周部に介挿させることで、シャフト部３７の熱を熱伝導によってセパレータ４３に直接伝達することができる。そして、このセパレータ４３の熱を輻射によって処理材料６に伝達できる。従って、各処理材料６を効率良く乾燥させることができる。

また、本実施形態の乾燥処理装置１００では、恒温室２内において乾燥処理が終了すると、密閉容器５は恒温室２の外部へと搬送される。従って、従来の乾燥処理装置のように、処理材料６を恒温室２の外部へ取り出すために恒温室２の内部を冷却する必要がなく、恒温室２の内部を高温に維持することができる。そのため、複数回の乾燥処理工程が連続して行われる場合でも、恒温室２内の温度を高温に維持できることから、処理材料６の乾燥処理工程に要する熱エネルギーを低減できる。

また、本実施形態の乾燥処理装置１００では、処理材料６の乾燥処理工程において、密閉容器５が各真空ポジションＰ１〜Ｐ３で停止している停止時間Δｔ１〜Δｔ３のそれぞれは、処理材料６の乾燥に必要な時間よりも短いが、停止時間Δｔ１〜Δｔ３の合計で処理材料６の乾燥に必要な時間が確保されるので、処理材料６を十分に乾燥させることができる。

また、本実施形態の乾燥処理装置１００では、処理材料６の乾燥処理工程において、処理材料６が乾燥中に密閉容器５内に揮発分を生じさせるような材料であっても、第１真空ポジションＰ１において真空引きによって密閉容器５内から揮発分を抜き出すことができるとともに、引き続いて、第２真空ポジションＰ２や第３真空ポジションＰ３においても真空引きによって密閉容器５内から揮発分を抜き出すことができるので、密閉容器５内に揮発分が発生することによる密閉容器５内の圧力上昇を確実に防止し、所定の圧力状態（例えば、真空状態）に維持できる。

また、本実施形態の乾燥処理装置１００では、処理材料６の乾燥処理工程において、密閉容器５を第１真空ポジションＰ１から第３真空ポジションＰ３に向けて搬送しながら、密閉容器５内の圧力を変化させることができる。従って、処理材料６の圧力変化による耐久性の試験を行うことができる。また、処理材料６に含まれる蒸気分圧の異なる材料成分を、蒸発の順番を制御しながら蒸発させることができる。さらに、第１真空ポジションＰ１で水分が多量に蒸発することで、蒸発潜熱が奪われるために処理材料６の温度が低下する場合がある。この場合、温度の低下を早期に回復させるために密閉容器５内を加圧することで、密閉容器５内における気体密度を増加させることができるので、処理材料６に吸収される熱量を増加できる。

また、本実施形態の乾燥処理装置１００では、処理材料６の乾燥処理工程では、密閉容器５が１つずつ恒温室２内に搬送されるので、２つ以上の密閉容器５を同時に恒温室２内に配置した場合と比べて、恒温室２内で維持されている温度が熱損失によって大きく変化することを防止できる。

また、本実施形態の乾燥処理装置１００では、処理材料６の乾燥処理工程において、密閉容器５内に高温の窒素ガスを供給することで、この窒素ガスとの熱交換によって処理材料６を直接加熱することができるので、処理材料６をより早期に乾燥させることができる。

（第２実施形態）
以下、図７に基づいて、本発明の第２実施形態に係る密閉容器及び乾燥処理装置について説明する。図７（ａ）は、搬送パレットに載置された密閉容器の側断面視図である。図７（ｂ）は、図７（ａ）のＥ−Ｅ線の矢視断面図である。この実施形態では、第１実施形態で説明した要素と同一の要素について同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。

＜密閉容器＞
図７に示されるように、この実施形態の密閉容器１０５は、密閉容器内に配置された攪拌機構６３を有している点で、第１実施形態の密閉容器５と主に相違する。この攪拌装置６３は、シャフト部３７の外周部３７ｂに挿入され且つ各処理材料６と各セパレータ１４３とが所定の間隔をおいて交互に介挿されることによって保持された筒状部材（保持部材）６４と、この筒状部材６４の一端に設けられた給気口６５と、この給気口６５と耐熱カプラー（接続部）４４の下端とを接続する給気ホース６６とを有している。また、筒状部材６４は、給気口６５に連通する内部空間６４ａを有している。また、筒状部材６４の外周部には、各セパレータ１４３に相当する位置に吸気孔６４ｂが形成されている。

また、本実施形態では、各セパレータ１４３の内部が中空になっている。図７（ａ）の破線で囲った部分の拡大図中に示されるように、各セパレータ１４３は、内部空間１４３ａが形成されており、この内部空間１４３ａは、筒状部材６４の各吸気孔６４ｂと連通している。また、拡大図中に示されるように、各セパレータ１４３には、各処理材料６と対向する対向面に複数の吹き出し孔１４３ｂが形成されている。なお、セパレータ１４３の外表面には、熱輻射を促進するための材料が貼付又は塗布されており、密閉容器３０５内の減圧時には外表面からの熱輻射によって各処理材料６を加熱することができる。

処理材料６の乾燥工程において、加圧された高温の窒素ガスが耐熱カプラー４４及び給気ホース６６を介して給気口６５に供給される。そして、給気口６５を介して筒状部材６４の内部空間６４ａ内に導入された窒素ガスは、各吸気孔６４ｂを介して各セパレータ１４３の内部空間１４３ａ内に導入される。そして、内部空間１４３ａ内に導入された窒素ガスは、各吹き出し孔１４３ｂから各処理材料６に向けて吹き付けられる。これにより、各セパレータ１４３と各処理材料６との間に窒素ガスの衝突と対流が生じる。そして、窒素ガスの熱が各処理材料６に伝達され、各処理材料６が加熱される。

[第２実施形態の密閉容器及び乾燥処理装置の特徴]
以上、本実施形態の密閉容器１０５では、処理材料６の乾燥処理において恒温室２内で相殺すべき熱容量を従来よりも低減できるので、第１実施形態の密閉容器５と同様の効果を得ることができる。

また、本実施形態の密閉容器１０５では、処理材料６の乾燥工程において、各セパレータ１４３と各処理材料６との間に窒素ガスの衝突と対流を発生させることができる。従って、窒素ガスと各処理材料６との間の熱交換が促進され、各処理材料６を効率良く乾燥させることができる。

（第３実施形態）
以下、図８に基づいて、本発明の第３実施形態に係る密閉容器及び乾燥処理装置について説明する。図８（ａ）は、搬送パレットに載置された密閉容器の側断面視図である。図８（ｂ）は、図８（ａ）のＦ−Ｆ線の矢視断面図である。この実施形態では、第１実施形態で説明した要素と同一の要素について同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。

＜密閉容器＞
図８に示されるように、この実施形態の密閉容器２０５は、密閉容器内に配置された攪拌機構６７を有している点で、第１実施形態の密閉容器５と主に相違する。この攪拌機構６７は、密閉容器２０５の内周面且つ耐熱カプラー（接続部）４４の下端近傍に設けられ、この耐熱カプラー４４を介して密閉容器２０５内に供給される気体を密閉容器２０５の内周面に沿って吹き出すノズル（吹き出し部材）６７ａを有している。このノズル６７ａは、耐熱カプラー４４の下端が収容される収容空間６７ｂと、耐熱カプラー４４から収容空間６７ｂに導入された気体の吹き出し口となる開口部６７ｃとを有している。

処理材料６の乾燥工程において、加圧された高温の窒素ガスが耐熱カプラー４４から収容空間６７ｂ内に導入される。そして、収容空間６７ｂ内に導入された窒素ガスは、吹出口６７ｃから収容空間６７ｂの外側へ排出される。これにより、図８（ｂ）中の矢印で示されるように、密閉容器２０５の内周面に沿って窒素ガスの対流が生じる。そして、窒素ガスの熱が各処理材料６に伝達され、各処理材料６が加熱される。

[第３実施形態の密閉容器及び乾燥処理装置の特徴]
以上、本実施形態の密閉容器２０５では、処理材料６の乾燥処理において恒温室２内で相殺すべき熱容量を従来よりも低減できるので、第１実施形態の密閉容器５と同様の効果を得ることができる。

また、本実施形態の密閉容器２０５では、処理材料６の乾燥工程において、密閉容器２０５の内周面に沿う方向に窒素ガスの対流を発生させることで、窒素ガスと処理材料６との間の熱交換を促進することができる。従って、各処理材料６を効率良く乾燥させることができる。

（第４実施形態）
以下、図９に基づいて、本発明の第４実施形態に係る密閉容器及び乾燥処理装置について説明する。図９（ａ）は、搬送パレットに載置された密閉容器の側断面視図である。図９（ｂ）は、図９（ａ）のＧ−Ｇ線の矢視断面図である。この実施形態では、第１実施形態で説明した要素と同一の要素について同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。

＜密閉容器＞
図９に示されるように、この実施形態の密閉容器３０５は、筒状部３３４の外壁部及び内壁部に所定の間隔をおいて複数の放熱フィン６８、６９が配置されている点で、第１実施形態の密閉容器５と相違する。各放熱フィン６８、６９は、密閉容器３０５の軸方向に延びるように形成されている。

この実施形態では、密閉容器３０５の外壁部に各放熱フィン６８を配置することによって外壁部の表面積を増加させることができるので、処理材料６の乾燥工程において、恒温室２内の高温空気からの熱伝達（熱輻射）によって外壁部に吸収される熱量を増加させることができる。従って、外壁部から内壁部への熱伝導を促進でき、外壁部から内壁部に熱伝導される熱量を増加させることができる。

また、密閉容器３０５の内壁部に各放熱フィン６９を配置することによって、内壁部の表面積を増加させることができるため、内壁部からの熱伝達や輻射を促進できる。従って、内壁部からの熱伝達や輻射によって密閉容器３０５内の窒素ガスに吸収される熱量を増加させることができる。その結果、窒素ガスからの熱伝達や輻射によって各処理材料６に吸収される熱量を増加させることができる。

[第４実施形態の密閉容器及び乾燥処理装置の特徴]
以上、本実施形態の密閉容器３０５では、処理材料６の乾燥処理において恒温室２内で相殺すべき熱容量を従来よりも低減できるので、第１実施形態の密閉容器５と同様の効果を得ることができる。

また、本実施形態の密閉容器３０５では、処理材料６の乾燥工程において、密閉容器５０５の外壁部から内壁部に熱伝導される熱量を増加させることができるとともに、内壁部からの熱伝達や輻射によって窒素ガスに吸収される熱量を増加させることができるので、窒素ガスからの熱伝達や輻射によって各処理材料６に吸収される熱量を増加させることができる。その結果、各処理材料６を効率良く乾燥させることができる。

（第５実施形態）
以下、図１０に基づいて、本発明の第５実施形態に係る密閉容器及び乾燥処理装置ついて説明する。図１０（ａ）は、密閉容器の側断面視図である。図１０（ｂ）は、図１０（ａ）のＩ−Ｉ線の矢視断面図である。この実施形態では、第１実施形態で説明した要素と同一の要素について同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。

＜密閉容器＞
図１０に示されるように、密閉容器４０５は、上記の密閉容器５と同様の耐熱カプラー（接続部）４４が設けられており、密閉容器４０５内が、窒素ガスで充たされたり、真空状態で維持されたり、密閉容器４０５内の温度が常温または高温で維持されたりする。この密閉容器４０５は箱体として形成されており、その内部に略角材状の処理材料７４が収容されている。また、密閉容器４０５の内部には、図１０（ａ）に示されるように、幅方向に架設された梁状の棚（保持部材）７５が、高さ方向に沿って３つ設けられている。そして、各棚７５には、図１０（ｂ）に示されるように、密閉容器４０５の幅方向に沿って３つの処理材料７４が所定の間隔をおいて載置されている。

また、各棚７５には、密閉容器４０５の幅方向に貫通する気体通路７５ａが形成されている。この気体通路７５ａは、図１０（ａ）に示されるように、その断面が矩形状に形成されている。そして、この気体通路７５ａは、密閉容器４０５が恒温室２内に配置されたときに、図１０（ｂ）中の矢印で示されるように、恒温室２内の高温空気が通過可能となっている。このとき、高温空気からの熱伝達（熱輻射）によって気体通路７５ａが加熱され、加熱された気体通路７５ａからの熱伝導によって各処理材料７４が直接加熱される。従って、各棚７５は、熱が伝導しやすいアルミや銅などの金属を材料として用いることが好ましい。

[第５実施形態の密閉容器及び乾燥処理装置の特徴]
以上、本実施形態の密閉容器４０５では、処理材料７４の乾燥処理において恒温室２内で相殺すべき熱容量を従来よりも低減できるので、第１実施形態の密閉容器５と同様の効果を得ることができる。

また、本実施形態の密閉容器４０５では、各棚７５の気体通路７５ａ内を流れる高温の空気を利用して、気体通路７５ａから各処理材料７４に至るまでの熱の伝導経路を形成することができる。従って、各処理材料７４を効率良く乾燥させることができる。

（第６実施形態）
以下、図１１及び図１２に基づいて、本発明の第６実施形態に係る密閉容器及び乾燥処理装置について説明する。図１１（ａ）は、搬送パレットに載置された密閉容器の外観斜視図である。図１１（ｂ）は、図１１（ａ）において二点鎖線で囲まれた抵抗弁の内部構造を示した図である。図１２（ａ）は、図１１（ａ）に示した搬送パレットに載置された密閉容器の側断面視図である。図１２（ｂ）は、図１２（ａ）のＣ−Ｃ線の矢視断面図である。この実施形態では、第１実施形態で説明した要素と同一の要素について同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。なお、図１２では、抵抗弁４８０の図示を省略する。

＜密閉容器＞
図１１に示されるように、この実施形態の密閉容器５０５は、抵抗弁４８０を有している。また、図１２に示されるように、この実施形態の密閉容器５０５は、密閉容器５０５内の上部に設けられた攪拌機構４８を有している。これらの点で、第１実施形態の密閉容器５と相違する。攪拌機構４８は、シャフト部３７の軸方向に沿って配置された２つのプロペラ４９と、各プロペラ４９の動力源となる各エアモータ５０と、各エアモータ５０の給気口と耐熱カプラー（接続部）４４の下端とを接続する各給気ホース５１と、各エアモータ５０の排気口に接続された各排気ホース５２と、耐熱カプラー４４の下端や各給気ホース５１や各排気ホース５２が収容されるカバー部５３とを有している。また、各プロペラ４９は、その回転方向に沿って等間隔に配置された４枚の攪拌用の羽根を有している。

エアモータ５０は、耐熱カプラー４４及び給気ホース５１から導入された圧縮気体の圧力によってプロペラ４９を回転させる回転体を有している。また、カバー部５３には図示しない開口が形成されており、エアモータ５０の本体内に導入された圧縮気体は、プロペラ４９を回転させた後に排気ホース５２を介して、カバー部５３の開口から密閉容器５０５内へと排出される。従って、この排出された圧縮気体が密閉容器５０５の内部に充填されることで、密閉容器５０５の内部を加圧可能となっている。

図１１（ａ）に示されるように、抵抗弁４８０は、密閉容器５０５の胴板部分である筒状部５３４において耐熱カプラー４４と隣接する位置に設けられている。また、図１１（ｂ）に示されるように、抵抗弁４８０は、略筒状の本体部４８１と、ローレットノブ４８２と、弁体部４８３とを有している。本体部４８１の上端には、その内周部に雌ねじ部４８１ａが形成されている。また、本体部４８１の側部には、本体部４８１の内部空間４８１ｂと連通する排気口４８１ｃが形成されている。また、本体部４８１の下端には、密閉容器５０５の筒状部５３４に形成された通気穴５３４ａと連通する通気穴４８１ｄが形成されている。

また、ローレットノブ４８２は、ハンドル操作部４８２ａと、雄ねじ部４８２ｂと、収容空間４８２ｃとを有している。この収容空間４８２ｃは、雄ねじ部４８２ｂの下端部分に本体部４８１の軸方向に沿って形成されている。また、弁体部４８３は、本体部４８１の内部空間４８１ｂに収容されている。この弁体部４８３は、本体部４８１の軸方向に延びる棒状部４８３ａと、この棒状部４８３ａの外周部に装着されたコイルスプリング４８３ｂと、弁体４８３ｃとを有している。この弁体４８３ｃは、棒状部４３２ａの下端において本体部４８１の通気穴４８１ｄを閉塞する位置に設けられている。また、この弁体４８３ｃは、後述する設定圧力Ｐ１以上の圧力によって開弁するように設定されている。

図１１（ｂ）に示されるように、本体部４８１の雌ねじ部４８１ａには、ローレットノブ４８２の雄ねじ部４８２ｂが取り付けられている。また、弁体部４８３のコイルスプリング４８３ｂの設定圧力Ｐ１によって、弁体部４８３の弁体４８３ｃは本体部４８１の通気穴４８１ｄを閉塞した状態で下方向に押圧されている。また、ローレットノブ４８２の収容空間４８２ｃには、弁体部４８３の棒状部４８３ａの上端部分が収容されている。この状態で、ローレットノブ４８２のハンドル操作部４８２ａの操作に伴って雄ねじ部４８２ｂを回動させることにより、雄ねじ部４８２ｂを上または下方向に移動させることによる本体部４８１の位置調整が可能となる。従って、雄ねじ部４８２ｂを上方向に移動させた場合、設定圧力Ｐ１を小さくすることができる。一方、雄ねじ部４８２ｂを下方向に移動させた場合、設定圧力Ｐ１を大きくすることができる。つまり、密閉容器５０５内の圧力を容易に調整できる。

従って、エアモータ５０の本体内に給気ホース５１から導入された気体の一次圧力Ｐ２を設定圧力Ｐ１よりも大きくすれば、一次圧力Ｐ２と設定圧力Ｐ１との差圧分（＝Ｐ２−Ｐ１）の圧力を有する気体の流体エネルギーがエアモータ５０を駆動させるための運動エネルギーに変換されて、プロペラ４９を回転させることができる。そして、差圧分（＝Ｐ２−Ｐ１）の圧力を有する気体は、通気穴５３４ａ、通気穴４８１ｄ、内部空間４８１ｂ及び排気口４８１ｃを経由して密閉容器５０５の外部へと排出される。

処理材料６の乾燥工程において、加圧された高温の窒素ガスが給気ホース５１を介してエアモータ５０の本体内に供給される。そして、窒素ガスのもつ流体エネルギーを用いてプロペラ４９を回転させることにより、密閉容器５０５内に窒素ガスの対流が発生する。そして、窒素ガスの熱が各処理材料６に伝達され、各処理材料６が加熱される。

[第６実施形態の密閉容器及び乾燥処理装置の特徴]
以上、本実施形態の密閉容器５０５では、処理材料６の乾燥処理において恒温室２内で相殺すべき熱容量を従来よりも低減できるので、第１実施形態の密閉容器５と同様の効果を得ることができる。

また、本実施形態の密閉容器５０５では、密閉容器５０５内に攪拌機構４８を設けることで、密閉容器５０５内に窒素ガスの対流を発生させることができる。従って、窒素ガスと各処理材料６との間の熱交換を促進させることができ、各処理材料６を効率良く乾燥させることができる。

また、本実施形態の密閉容器５０５では、ローレットノブ４８２のハンドル操作部４８２ａの操作に伴って本体部４８１の位置を調整することで、密閉容器５０５内の圧力を容易に調整できる。

（第７実施形態）
以下、図１３に基づいて、本発明の第７実施形態に係る密閉容器及び乾燥処理装置について説明する。図１３（ａ）は、搬送パレットに載置された密閉容器の側断面視図である。図１３（ｂ）は、図１３（ａ）のＤ−Ｄ線の矢視断面図である。この実施形態では、第６実施形態で説明した要素と同一の要素について同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。

＜密閉容器＞
図１３に示されるように、この実施形態の密閉容器６０５は、攪拌機構４８に代えて、容器内に配置された攪拌機構５４を有している点で、第６実施形態の密閉容器５０５と相違する。その他の構成は、第６実施形態の密閉容器５０５と同じである。この攪拌機構５４は、シャフト部３７の外周部３７ｂに挿入され且つ各処理材料６と各セパレータ４３とが所定の間隔をおいて交互に介挿されることによって保持された回転筒（回転体）５５と、外周部３７ｂと回転筒５５との間に嵌入された一対のベアリング５６と、回転筒５５の外周部に介挿された回転ギア５７を有している。

また、攪拌機構５４は、回転ギア５７と噛み合う回転ギア５８と、この回転ギア５８の動力源となるエアモータ５９と、耐熱カプラー（接続部）４４の下端とエアモータ５９の給気口とを接続する給気ホース６０と、エアモータ５９の排気口に接続された排気ホース６１と、給気ホース６０の一部や排気ホース６１が収納されるカバー部６２とを有している。

エアモータ５９は、耐熱カプラー４４及び給気ホース６０から導入された圧縮気体の圧力によって回転ギア５８を回転させる回転体を有している。また、エアモータ５９の本体内に導入された圧縮気体は、回転ギア５８を回転させた後に排気ホース６１を介して、カバー部６２の開口から密閉容器６０５内へと排出される。従って、この排出された圧縮気体が密閉容器６０５の内部に充填されることで、密閉容器６０５の内部を加圧可能となっている。

処理材料６の乾燥工程において、加圧された高温の窒素ガスが耐熱カプラー４４及び給気ホース６０を介してエアモータ５９の本体内に供給される。そして、供給された窒素ガスのもつ流体エネルギーを用いて回転ギア５８を回転させることにより、この回転ギア５８と噛み合う回転ギア５７に動力が伝達されて、回転ギア５７が図１３（ｂ）中の矢印で示されるようにシャフト部３７の周方向に沿って回転し、この回転に伴って、回転筒５５に介挿された各処理材料６及び各セパレータ４３が回転する。この回転により、密閉容器６０５内に窒素ガスの対流が生じる。そして、窒素ガスの熱が各処理材料６に伝達され、各処理材料６が加熱される。

[第７実施形態の密閉容器及び乾燥処理装置の特徴]
以上、本実施形態の密閉容器６０５では、処理材料６の乾燥処理において恒温室２内で相殺すべき熱容量を従来よりも低減できるので、第６実施形態の密閉容器５０５と同様の効果を得ることができる。

また、本実施形態の密閉容器６０５では、処理材料６の乾燥工程において、密閉容器６０５内に窒素ガスの対流を発生させることにより、窒素ガスの熱を各処理材料６に積極的に伝達することができる。従って、窒素ガスと各処理材料６との間の熱交換を促進させることができ、各処理材料６を効率良く乾燥させることができる。

（第８実施形態）
以下、図１４及び図１５に基づいて、本発明の第８実施形態に係る密閉容器及び乾燥処理装置について説明する。図１４は、搬送パレットに載置された密閉容器の側断面視図である。図１５（ａ）は、図１４のＨ−Ｈ線の矢視断面図である。図１５（ｂ）は、攪拌機構の動作説明図である。この実施形態では、第６実施形態で説明した要素と同一の要素について同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。

＜密閉容器＞
図１４及び図１５に示されるように、この実施形態の密閉容器７０５は、攪拌機構４８に代えて、容器内に配置された第７実施形態と同じ攪拌機構５４を有している点と、回転筒（回転体）５５の外周面において径方向外側に延びる４つの支持部材７０が周方向に沿って所定の間隔をおいて設けられた点と、密閉容器７０５の内周面から径方向内側に向かって延在する４つの支持部材７１が周方向に沿って所定の間隔をおいて設けられた点で、第６実施形態の密閉容器５０５と相違する。その他の構成は、第６実施形態の密閉容器５０５と同じである。

支持部材７０には、略角材状の３つの処理材料７２（図中のハッチング部分）が回転筒５５の径方向に沿って配置されている。また、支持部材７１には、略角材状の３つの伝熱板７３が配置されている。各伝熱板７３は、恒温室２内の高温空気からの輻射によって密閉容器７０５の外壁部に吸収された熱を各処理材料７２に直接伝達することを目的とした部品である。従って、支持部材７１や各伝熱板７３は、熱が伝導しやすいアルミや銅などの金属を材料として用いることが好ましい。

処理材料７２の乾燥工程において、加圧された高温の窒素ガスが給気ホース６０を介してエアモータ５９の本体内に供給される。そして、回転ギア５８と噛み合う回転ギア５７に動力が伝達されて、回転ギア５７が回転し、回転筒５５とともに支持部材７０が図１５（ａ）の矢印で示す方向に回転する。この回転により、図１５（ｂ）に示されるように、支持部材７０に配置された各処理材料７２が、支持部材７１に配置された各伝熱板７３と接触する。この接触により、各伝熱板７３の熱が熱伝導によって各処理材料７２へ直接伝達され、各処理材料７２が加熱される。

[第８実施形態の密閉容器及び乾燥処理装置の特徴]
以上、本実施形態の密閉容器７０５では、処理材料７２の乾燥処理において恒温室２内で相殺すべき熱容量を従来よりも低減できるので、第６実施形態の密閉容器５０５と同様の効果を得ることができる。

また、本実施形態の密閉容器７０５では、処理材料７２の乾燥工程において、各処理材料７２と各伝熱板７３とを直接接触させることによって、各伝熱板７３の熱を各処理材料７２にダイレクトに伝達することができるので、処理材料７２を効率良く乾燥させることができる。

（別形態）
なお、本発明には含まれないが、本発明に係る密閉容器及び乾燥処理装置に関連した別形態として、下記の第１〜第３別形態がある。上記の第１〜第８実施形態に係る密閉容器及び乾燥処理装置では、図１に示されるように、恒温室２に設けられた各耐熱カプラー１２ａ〜１４ａに密閉容器の耐熱カプラー４４が接続されることで、密閉容器の内部が窒素ガス（Ｎ_２）で置換されたり、真空状態で維持されたりすることによって処理材料の乾燥処理が行われていたが、下記の第１〜第３別形態に係る密閉容器及び乾燥処理装置では、恒温室２に設けられた各耐熱カプラー１２ａ〜１４ａが用いられることなく、密閉容器が搬送される。

（第１別形態）
以下、図１６〜図１８に基づいて、本発明の第１別形態に係る密閉容器及び乾燥処理装置について説明する。図１６は、搬送パレットに載置された密閉容器の側断面視図である。図１７は、図１６のＡ−Ａ線の矢視断面図である。図１８は、図１６のＢ−Ｂ線の矢視断面図である。この別形態では、第１〜第８実施形態で説明した要素と同一の要素について同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。

＜密閉容器＞
図１６〜図１８に示されるように、この別形態の密閉容器８０５は、耐熱カプラー４４を有しておらず、恒温室２に設けられた各耐熱カプラー１２ａ〜１４ａが用いられることなく、密閉容器８０５が搬送される点で、第１実施形態の密閉容器５と相違する。

[第１別形態の密閉容器及び乾燥処理装置の特徴]
本別形態の密閉容器８０５では、密閉容器８０５が恒温室２内に搬送された際に、シャフト部３７の内部空間３７ａ内を流れる高温の空気を利用して各処理材料６を効率良く乾燥させることができ、第１実施形態の密閉容器５と同様の効果を得ることができる。

（第２別形態）
以下、図１９に基づいて、本発明の第２別形態に係る密閉容器及び乾燥処理装置について説明する。図１９（ａ）は、搬送パレットに載置された密閉容器の側断面視図である。図１９（ｂ）は、図１９（ａ）のＧ−Ｇ線の矢視断面図である。この別形態では、第１〜第８実施形態で説明した要素と同一の要素について同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。

＜密閉容器＞
図１９に示されるように、この別形態の密閉容器９０５は、耐熱カプラー４４を有しておらず、恒温室２に設けられた各耐熱カプラー１２ａ〜１４ａが用いられることなく、密閉容器９０５が搬送される点で、第４実施形態の密閉容器３０５と相違する。

[第２別形態の密閉容器及び乾燥処理装置の特徴]
本別形態の密閉容器９０５では、密閉容器９０５が恒温室２内に搬送された際に、シャフト部３７の内部空間３７ａ内を流れる高温の空気を利用して各処理材料６を効率良く乾燥させることができ、第１実施形態の密閉容器５と同様の効果を得ることができる。

また、本別形態の密閉容器９０５では、処理材料６の乾燥工程において、密閉容器９０５の外壁部から内壁部に熱伝導される熱量を増加させることができるとともに、内壁部からの熱伝達や輻射によって窒素ガスに吸収される熱量を増加させることができるので、窒素ガスからの熱伝達や輻射によって各処理材料６に吸収される熱量を増加させることができる。その結果、第４実施形態の密閉容器３０５と同様の効果を得ることができる。

（第３別形態）
以下、図２０に基づいて、本発明の第３別形態に係る密閉容器及び乾燥処理装置について説明する。図２０（ａ）は、密閉容器の側断面視図である。図２０（ｂ）は、図２０（ａ）のＩ−Ｉ線の矢視断面図である。この別形態では、第１〜第８実施形態で説明した要素と同一の要素について同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。

＜密閉容器＞
図２０に示されるように、この別形態の密閉容器１００５は、耐熱カプラー４４を有しておらず、恒温室２に設けられた各耐熱カプラー１２ａ〜１４ａが用いられることなく、密閉容器１００５が搬送される点で、第５実施形態の密閉容器４０５と相違する。

[第３別形態の密閉容器及び乾燥処理装置の特徴]
本別形態の密閉容器１００５では、図２０（ｂ）の矢印で示されるように、各棚７５の気体通路７５ａ内を流れる高温の空気を利用して、気体通路７５ａから各処理材料７４に至るまでの熱の伝導経路を形成することができる。従って、第５実施形態の密閉容器４０５と同様の効果を得ることができる。

以上、本発明の実施形態について図面に基づいて説明したが、具体的な構成は、これらの実施形態に限定されるものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。

上述した第１〜第４、第６及び第７実施形態、第１及び第２別形態では、各セパレータを各処理材料から所定間隔だけ離れた位置に配置して、各セパレータからの輻射によって各処理材料を加熱する例について述べたが、本発明はかかる実施形態に限定されず、処理材料の種類によっては、各セパレータを各処理材料と直接接触させて、各セパレータからの熱伝導によって各処理材料を加熱してもよい。

上述した第６〜第８実施形態では、耐熱カプラー４４の下端とエアモータの給気口とを接続する給気ホースは無くてもよい。この場合には、密閉容器内の窒素ガスが密閉容器の内部空間を媒介してエアモータに供給され、プロペラまたは回転ギアを回転させることができる。

上述した第６〜第８実施形態では、密閉容器にエアモータを内蔵する構成としたが、密閉容器の外部にエアモータを配置してもよい。この場合には、外部から密閉容器内に供給される気体のエネルギーを用いてエアモータを駆動させるのではなく、別の手段を用いてエアモータを駆動させることができる。

上述した第２実施形態では、耐熱カプラー４４の下端と給気口とを接続する給気ホースが無くてもよい。この場合には、密閉容器内の窒素ガスが密閉容器の内部空間を媒介して給気口に供給される。

上述した第４実施形態及び第２別形態では、密閉容器の内壁部及び外壁部に各放熱フィンを配置して、内壁部及び外壁部の表面積を増加させる例について述べたが、本発明はかかる実施形態に限定されず、密閉容器の内壁部及び外壁部を凹凸状に形成することによって、内壁部及び外壁部の表面積を増加させてもよい。また、内壁部及び外壁部のいずれか一方のみに各放熱フィンを配置してもよく、内壁部及び外壁部のいずれか一方のみを凹凸状に形成してもよい。

上述した第１〜第８実施形態及び第１〜第３別形態では、シャフトや回転筒あるいは棚に処理材料を配置する例について述べたが、本発明はかかる実施形態に限定されず、処理材料を密閉容器内の底面に直接置いてもよい。

上述した第８実施形態では、各処理材料７２を回転させることによって、各処理材料７２と各伝熱板７３とを接触させる例について述べたが、本発明はかかる実施形態に限定されず、図２１（ａ）に示されるように、密閉容器１１０５の内周面から内側に向かって延在する伝熱板８０と、エアシリンダ８１と、処理材料８３が配置された棚（支持部材）８２とを備え、図２１（ｂ）の矢印に示されるように、エアシリンダ８１に気体を供給して棚８２を上方向に移動させることによって伝熱板８０を処理材料８３と接触させてもよい。なお、図２１（ａ）に示されるように、棚８２の柱部分は、伝熱板８０の開口部に渡されている。また、エアシリンダ８１は、耐熱カプラー４４及び給気ホース（図示省略）から導入された圧縮気体の圧力によって棚８２を移動させる。また、エアシリンダ８１の本体内に導入された圧縮気体は、棚８２を移動させた後に排気ホース（図示省略）を介して、密閉容器１１０５内へと排出される。

上述した第５実施形態では、各処理材料をセパレータで仕切らない例について述べたが、本発明はかかる実施形態に限定されず、図２２の第５実施形態の変形例に係る密閉容器１２０５に示されるように、各処理材料７４をセパレータ７７で仕切ってもよい。

上述した第１実施形態では、恒温室２の内部に３つの密閉容器５が収容され、恒温室２が３つの接続装置１２〜１４を有する例について述べたが、本発明はかかる実施形態に限定されず、恒温室２の内部に収容可能な密閉容器の数や、恒温室２に設ける接続装置の数は変更できる。

上述した第１実施形態では、処理材料６として、リチウムイオンバッテリーの電極材を使用する例について述べたが、本発明はかかる実施形態に限定されず、リチウムイオンバッテリー以外の電極材、あるいは、全く種類の異なる様々な試料を搭載できる。

上述した第１実施形態では、恒温室２の内部が１５０℃で保たれる例について述べたが、本発明はかかる実施形態に限定されず、この温度は変更できる。

上述した各実施形態では、密閉容器を処理材料の真空乾燥処理に適用する例について述べたが、本発明はかかる実施形態に限定されず、密閉容器は処理材料の加圧熱処理や低温真空処理（フリーズドライ）や低温高圧処理等にも適用できる。

上述した各実施形態では、処理材料の乾燥処理工程において、密閉容器内を窒素で充填する例について述べたが、本発明はかかる実施形態に限定されるものではない。密閉容器の用途に応じて、種々の気体を充填できる。例えば密閉容器内を酸素で充填した場合には、密閉容器内に収容された処理材料の熱酸化を促進させることができる。また例えば、密閉容器内を硫化ガスで充填した場合には、密閉容器内に収容された処理材料の腐食試験を行うことができる。

また、図２３〜図２５の第１実施形態の変形例に係る密閉容器１３０５に示されるように、密閉容器内の底部に貯水部７８（各図のハッチング部分）を形成してもよい。この貯水部７８には、図２４に示されるように、密閉容器１３０５の外周部に設けられた給水口（液体供給部）７９から水（液体）が供給される。この給水口７９は、外部の給水源（図示せず）と着脱可能であって、給水源と接続されたときに開くとともに、この接続状態が解除されたときに閉じる構造となっている。この密閉容器１３０５では、密閉容器内の圧力を減圧したり密閉容器内を加熱したりすることによって密閉容器内を水蒸気雰囲気で保つことができる。従って、各処理材料６を水蒸気に曝した状態で、各処理材料６の吸湿性能試験や湿度試験等を行うことができる。

なお、上述した第６〜第８実施形態では、密閉容器の胴板部分に抵抗弁を設ける例について述べたが、本発明はかかる実施形態に限定されず、その他の実施形態においても、密閉容器の胴板部分に抵抗弁を設けてもよい。

本発明を利用すれば、処理材料の乾燥処理工程に要する熱エネルギーを従来よりも低減できる密閉容器及び乾燥処理装置を得ることができる。また、複数の密閉容器が１つの恒温室に配置される場合において、複数の密閉容器内の気体状態を互いに異なる状態にできる密閉容器を得ることができる。

５、１０５、２０５、３０５、４０５、５０５、６０５、７０５、８０５、９０５、１００５、１１０５、１２０５、１３０５ 密閉容器
６、７２、７４ 処理材料
１２ 第１接続装置
１３ 第２接続装置
１４ 第３接続装置
１５ 窒素ガス置換ユニット
１６ 真空引きユニット
１７ チェーン
１９ スプロケット
３７ シャフト部（保持部材）
３７ａ 内部空間（気体通路）
４３、７７、１４３ セパレータ
４４ 耐熱カプラー（接続部）
４５ ヒータ
４６ 送風手段
４７ 冷却手段
４８、５４、６３、６７ 攪拌機構
４９ プロペラ
５５ 回転筒（回転体）
６４ 筒状部材（保持部材）
６７ａ ノズル（吹き出し部材）
６８、６９ 放熱フィン
７０ 支持部材
７３ 伝熱板
７５ 棚（保持部材）
７５ａ 気体通路
７９ 給水口（液体供給部）
１００ 乾燥処理装置
１４３ａ 内部空間
１４３ｂ 吹き出し孔

Claims (14)

1. 処理材料が収容され且つ外部の気体と熱交換可能に構成されるとともに、その内部の気体状態を変更するための気体状態変更手段に接続可能な接続部を備えることを特徴とする密閉容器。
2. 密閉容器の外壁部及び内壁部の少なくとも一方に設けられた放熱フィンまたは凹凸形状部を備えることを特徴とする請求項１に記載の密閉容器。
3. 密閉容器内の気体を攪拌する攪拌機構を備えることを特徴とする請求項１または２に記載の密閉容器。
4. 前記攪拌機構は、前記気体状態変更手段によって供給される気体によって駆動されることを特徴とする請求項３に記載の密閉容器。
5. 前記攪拌機構は、前記気体状態変更手段によって供給される気体によって回転するプロペラであることを特徴とする請求項３または４に記載の密閉容器。
6. 前記攪拌機構は、密閉容器の内周面に設けられ、前記接続部を介して密閉容器内に供給される気体を密閉容器の内周面に沿って吹き出す吹き出し部材であることを特徴とする請求項３または４に記載の密閉容器。
7. 前記攪拌機構は、密閉容器内に収容される処理材料を保持するとともに、前記気体状態変更手段によって供給される気体によって回転する回転体であることを特徴とする請求項３または４に記載の密閉容器。
8. 密閉容器内に収容される処理材料を保持する保持部材を備え、
   前記保持部材は、気体が通過可能な気体通路を有していることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の密閉容器。
9. 密閉容器内に配置された複数の処理材料を仕切るとともに密閉容器の熱交換可能な部位に接続されたセパレータを備えることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の密閉容器。
10. 前記セパレータは、前記保持部材に接続されていることを特徴とする請求項９に記載の密閉容器。
11. 前記セパレータは、
    前記接続部を介して供給された気体が導入される内部空間と、
    前記内部空間に導入された気体を密閉容器内へ吹き出し可能な吹き出し孔とを備えることを特徴とする請求項９または１０に記載の密閉容器。
12. 密閉容器の内周面から内側に向かって延在する伝熱板と、
    密閉容器内に収容される処理材料を支持する支持部材とを備え、
    前記伝熱板は、前記支持部材が移動することによって前記処理材料と接触することを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の密閉容器。
13. 密閉容器の内部に外部から液体を供給する液体供給部を備えることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の密閉容器。
14. 請求項１〜１３のいずれか１項に記載の密閉容器を内部に配置可能な恒温室と、
    前記恒温室内の前記密閉容器を前記恒温室の外部へ搬送する搬送機構とを備え、
    前記恒温室は、
    前記密閉容器内の気体状態を変更するための気体状態変更手段と、
    前記密閉容器内の温度を調節するための温度調節手段とを有することを特徴とする乾燥処理装置。

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