JPH06229669A - 減圧乾燥方法及び装置 - Google Patents

減圧乾燥方法及び装置

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JPH06229669A
JPH06229669A JP1751893A JP1751893A JPH06229669A JP H06229669 A JPH06229669 A JP H06229669A JP 1751893 A JP1751893 A JP 1751893A JP 1751893 A JP1751893 A JP 1751893A JP H06229669 A JPH06229669 A JP H06229669A
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JP
Japan
Prior art keywords
reduced pressure
pressure drying
heating
drying chamber
work
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP1751893A
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English (en)
Inventor
Hitoshi Kamiya
均 神谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
N G K THERMOTEC KK
NGK Insulators Ltd
Original Assignee
N G K THERMOTEC KK
NGK Insulators Ltd
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Publication date
Application filed by N G K THERMOTEC KK, NGK Insulators Ltd filed Critical N G K THERMOTEC KK
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 加熱能力が大きく乾燥時間を短縮することの
できる減圧乾燥方法及び装置を提供すること。 【構成】 輻射ヒーター3を備えた減圧乾燥室1の減圧
状態を維持させて加熱気体を該減圧乾燥室1に供給し
て、減圧乾燥室1内に対流加熱効果を付与するとともに
減圧乾燥の性能を発揮しつつワークを乾燥させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は減圧状態の下にワークを
乾燥させる減圧乾燥方法及び装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の減圧乾燥装置によるワークの乾燥
方法は真空ポンプなどの減圧装置により乾燥室内を減圧
し、その結果装置内の気体がなくなり対流加熱ができな
いので、ワークの加熱は加熱プレートなどによる伝導加
熱や輻射ヒーターによる輻射加熱により行われていた。
しかし、この従来の方法にあっては、乾燥室内の含有水
分量が多くなると、乾燥に必要なエネルギーも大きくす
る必要があるが、この伝導または輻射加熱のみでは加熱
能力が不足しそのため乾燥時間が長くなるという問題
や、加熱能力を大きくするため為、装置が大型になると
いう問題がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記した従来
の問題点を解消して、加熱能力が大きく乾燥時間を短縮
することのできる減圧乾燥方法及び装置を提供するため
になされたものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記の問題を解決するた
めになされた本発明の減圧乾燥方法は、減圧乾燥室の減
圧状態を維持させて加熱気体を供給してワークを乾燥さ
せることを特徴とするものである。また、上記の問題を
解決するためになされた本発明の減圧乾燥装置は、輻射
ヒーターを備えた減圧乾燥室に加熱気体を供給するため
の供給ノズルを臨ませたことを特徴とするものである。
【0005】
【作用】本発明によれば、減圧乾燥室内に収納したワー
クを輻射ヒーターで輻射加熱するとともに、減圧乾燥室
の減圧状態を維持させて加熱気体を供給して乾燥するも
のである。すなわち、乾燥室内に加熱気体を供給しつつ
減圧装置にて排気することにより、対流加熱効果が付与
され、しかも減圧状態は維持されているので、従来の減
圧乾燥の性能を発揮しつつ加熱能力を向上させることが
できるものである。
【0006】
【実施例】次に、本発明を図示の実施例により詳細に説
明する。図1は本発明の装置の一例を示すもので、1は
減圧乾燥室、2は該減圧乾燥室1を減圧するための真空
ポンプやエジェクター等の減圧装置である。3は該減圧
乾燥室1の壁面に適当数配設した遠赤外線ヒーターなど
の輻射ヒーターである。4は加熱気体供給管5から送ら
れてきた加熱気体を一定量供給するための供給ノズルで
あり、該供給ノズル4はワークに向け噴出するためワー
クの置台11に設けられている。
【0007】すなわち、該供給ノズル4は図1および図
2に示すものにあっては、置台11の中空の水平箱体4
aの上面に加熱気体噴出用のスリット6を多数設けたも
ので、該水平箱体4aの上面に網籠10に収納したワー
クである洗浄済のプリント基板等の電子機器用小物部品
を載置して、スリット6から電子機器用小物部品に加熱
気体を噴出させるものである。
【0008】また、該供給ノズル4を設けた置台11は
乾燥するワークの形状、性状に合わせて変更できるもの
で、図3に示すように下方及び側方から加熱気体を噴出
させるように中空の水平箱体4aの両側に垂直箱体4
b、4bを連設して該水平箱体4aの上面及び垂直箱体
4b、4bの内面にスリット6を配設したもの、図4に
示すように側方からのみ加熱気体を噴出させるように中
空の水平箱体4aの両側及び中間部に垂直箱体4b、4
b、4bを連設して該両側の垂直箱体4b、4bの内面
及び中間部に垂直箱体4bの両側にスリット6を配設し
たもの、及び、図5に示すように下方及び上方から加熱
気体を噴出させるように中空の水平箱体4aの上方に垂
直箱体4bを介して上部水平箱体4cを連設し、該水平
箱体4aの上面及び上部水平箱体4cの下面にスリット
6を配設したものなど種々のものがある。
【0009】7は前記加熱気体供給管5に設けた気体加
熱用のヒーター、8は加熱気体の供給量を制御する流量
調節バブルである。9は前記減圧乾燥室1に設けた真空
計であり、該減圧乾燥室1の減圧度を感知して前記減圧
装置2の排気量と流量調節バブル8による加熱気体の供
給量がバランスがとれているかを判定し、減圧装置2の
減圧状態と流量調節バブル8による加熱気体の供給量を
適正に維持するものである。減圧条件は絶対圧力1〜1
00mmHgの範囲でワークの乾燥条件に応じて設定され、
加熱気体の流量は装置内容量1リットル当たり1〜10
リットル/分の範囲である。
【0010】このように構成されたものは、減圧乾燥室
1内に加熱気体が供給されているので該減圧乾燥室1内
に該加熱気体による対流が発生しワークは対流加熱と輻
射ヒーターによる輻射加熱との双方により加熱ととも
に、減圧装置2により減圧状態が維持されているので、
減圧条件下において速やかに乾燥されるものである。ま
た、供給ノズル4をワークに直接加熱気体が噴射するこ
とのできものとすることにより、対流加熱で網籠内に積
載された部品の内部まで迅速加熱され速やかに乾燥され
てより速く乾燥処理が行えるものである。
【0011】なお、減圧乾燥室内の供給する加熱気体は
大気を加熱したものであってもよいが、窒素ガスのよう
な不活性ガスを使用することにより、ワークの酸化など
を防止することのできる利点もある。また、加熱気体の
温度はワーク材質の許容温度に応じて、60〜200℃
の範囲で設定される。
【0012】
【発明の効果】前記説明で明らかなように、減圧乾燥室
に加熱気体が供給されているので、輻射ヒーターによる
輻射加熱とともに該加熱気体による対流加熱が減圧状態
が維持されておこなわれるので、乾燥が速やかにおこな
われるものである。よって、本発明は従来のこの種減圧
乾燥方法の問題点を解消したものとして、産業の発展に
寄与するところは極めて大きいものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を示す一部切欠正面図である。
【図2】本発明の実施例に使用する供給ノズルを示す一
部切欠斜視図である。
【図3】同じく他の供給ノズルを示す一部切欠斜視図で
ある。
【図4】同じく他の供給ノズルを示す一部切欠斜視図で
ある。
【図5】同じく他の供給ノズルを示す一部切欠斜視図で
ある。
【符号の説明】
1 減圧乾燥室 2 減圧装置 3 輻射ヒーター 4 供給ノズル 11 置台

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 輻射ヒーターを備えた減圧乾燥室の減圧
    状態を維持させて加熱気体を供給しつつワークを乾燥さ
    せることを特徴とする減圧乾燥方法。
  2. 【請求項2】 加熱気体を供給ノズルをもってワークに
    向け噴出させたことを特徴とする請求項1記載の減圧乾
    燥方法。
  3. 【請求項3】 輻射ヒーターを備えた減圧乾燥室に加熱
    気体を供給するための供給ノズルを臨ませたことを特徴
    とする減圧乾燥装置。
  4. 【請求項4】 供給ノズルをワークの置台に設けたこと
    を特徴とする請求項3記載の減圧乾燥装置。
JP1751893A 1993-02-04 1993-02-04 減圧乾燥方法及び装置 Withdrawn JPH06229669A (ja)

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JPH06229669A true JPH06229669A (ja) 1994-08-19

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011208811A (ja) * 2010-03-26 2011-10-20 Espec Corp 密閉容器及び乾燥処理装置
US10518557B2 (en) 2017-03-08 2019-12-31 Seiko Epson Corporation Drying apparatus, recording apparatus, and drying method

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011208811A (ja) * 2010-03-26 2011-10-20 Espec Corp 密閉容器及び乾燥処理装置
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Effective date: 20000404