JP2011201786A - 2−endo−6−exo−ジアミノメチル−ビシクロ[2,2,1]ヘプタン及びその製造方法 - Google Patents
2−endo−6−exo−ジアミノメチル−ビシクロ[2,2,1]ヘプタン及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011201786A JP2011201786A JP2010068198A JP2010068198A JP2011201786A JP 2011201786 A JP2011201786 A JP 2011201786A JP 2010068198 A JP2010068198 A JP 2010068198A JP 2010068198 A JP2010068198 A JP 2010068198A JP 2011201786 A JP2011201786 A JP 2011201786A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exo
- endo
- nbda
- bicyclo
- heptane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 52
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 claims abstract description 28
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 25
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 claims abstract description 19
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims abstract description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 18
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 9
- 125000005543 phthalimide group Chemical group 0.000 claims description 8
- -1 t-butyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 6
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 6
- 125000001584 benzyloxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC1=CC=CC=C1)* 0.000 claims description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 16
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 10
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 6
- SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N n-[4-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenyl]-4-nitrobenzenesulfonamide Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 5
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- XNCRJHWAYGSSKP-UHFFFAOYSA-N 4-bicyclo[2.2.1]heptanylmethanediamine Chemical compound C1CC2CCC1(C(N)N)C2 XNCRJHWAYGSSKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N hydrogen cyanide Chemical compound N#C LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OTKFKCIRTBTDKK-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)-5-bicyclo[2.2.1]heptanyl]methanamine Chemical compound C1C(CN)C2C(CN)CC1C2 OTKFKCIRTBTDKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 3
- IKDUDTNKRLTJSI-UHFFFAOYSA-N hydrazine hydrate Chemical compound O.NN IKDUDTNKRLTJSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 3
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]methyl]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C(C=C1)=CC=C1CC1=CC=C(N2C(C=CC2=O)=O)C=C1 XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UTPHVTOEOCZQJU-UHFFFAOYSA-N 4-methylbicyclo[2.2.1]heptane Chemical compound C1CC2CCC1(C)C2 UTPHVTOEOCZQJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- BMAXQTDMWYDIJX-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.1]hept-2-ene-5-carbonitrile Chemical compound C1C2C(C#N)CC1C=C2 BMAXQTDMWYDIJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009903 catalytic hydrogenation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 2
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- UMRZSTCPUPJPOJ-UHFFFAOYSA-N norbornane Chemical group C1CC2CCC1C2 UMRZSTCPUPJPOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- YSZIOXAEADAJLX-UHFFFAOYSA-N phthalazine-1,4-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N=NC(=O)C2=C1 YSZIOXAEADAJLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003192 poly(bis maleimide) Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 2
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 0 *[C@@]1C(C2)[C@@](*)CC2C1 Chemical compound *[C@@]1C(C2)[C@@](*)CC2C1 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004057 DFT-B3LYP calculation Methods 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000342 Monte Carlo simulation Methods 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEUCYUPOICDBOG-UHFFFAOYSA-N [2-(aminomethyl)-5-bicyclo[2.2.1]heptanyl]methanamine Chemical compound C1C2C(CN)CC1C(CN)C2 KEUCYUPOICDBOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 125000004202 aminomethyl group Chemical group [H]N([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 239000002305 electric material Substances 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 238000011067 equilibration Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
Description
本発明の2−endo−6−exo−ジアミノメチル−ビシクロ[2,2,1]ヘプタン(以下、「2−endo−6−exo−NBDA」とも記す)は、下記式(IV)で表されるジアミン化合物である。
本発明の2−endo−6−exo−NBDAの製造方法は、NBDAに含まれるそれぞれの化合物のアミノ基を保護基で保護した後、2−endo−6−exo−NBDAに由来する異性体を結晶化と固液分離を含む分離操作により分離し、次いで分離した異性体の保護基を脱保護することを含む製造方法である。NBDAに含まれる化合物のアミノ基を保護基で保護して得られるそれぞれの化合物どうしの結晶性の差異は、保護する前の化合物どうしの結晶性の差異に比して大きくなる。即ち、本発明の製造方法によれば、アミノ基を保護することにより、異性体どうしを工業的にも十分実用化が可能な簡便な結晶化及び固液分離を含む分離操作により分離することができる。
原料となる異性体混合物であるNBDAとしては、従来公知の方法に従って製造されたものを用いることができる。具体的には、ビシクロ[2,2,1]−5−ヘプテン−2−カルボニトリルに、パラジウム触媒及びトリフェニルホスファイト、或いは0価ニッケル錯体触媒の存在下でシアン化水素を付加させてジシアノ体とした後、接触水素化することにより製造されたもの等を用いることができる。また、市販品としては三井化学社製の商品名「NBDA」がある。これらのNBDAには、通常、2,5−diexo−NBDAが約26質量%、2−endo−5−exo−NBDAが約36質量%、2,6−diexo−NBDAが約20質量%、及び2−endo−6−exo−NBDAが約18質量%の割合で含有されている。
先ず、NBDAに含まれるそれぞれの化合物のアミノ基を保護基により保護する。保護基の種類は特に限定されず、1級のアミノ基を保護することが可能な保護基であればよい。但し、試薬の取り扱い性や、保護された化合物(異性体)をそれらの結晶性の相違に基づいて分離する際の分離性の観点からは、フタルイミド基、t−ブチルオキシカルボニル基(t−BOC基)、又はベンジルオキシカルボニル基(Z−基)が好ましい。なお、アミノ基の保護基をフタルイミド基とした場合には、保護された異性体どうしの結晶性の差が大きくなるため、結晶化と固液分離により異性体をより簡便に分離しやすくなるために好ましい。
次に、保護基によってアミノ基が保護された異性体のうち、2−endo−6−exo−NBDAに由来する異性体を、結晶化と固液分離を含む分離操作により分離する。保護基の種類がフタルイミド基、t−BOC基、及びZ−基である場合を例に挙げると、下記式(IV−1)〜(IV−3)で表される異性体を分離する。
分離した異性体の保護基を脱保護することにより、目的とする2−endo−6−exo−NBDAを得ることができる。保護基は、保護基の種類に応じて従来公知の方法に従って脱保護することができる。例えば、保護基がフタルイミド基である場合には、ヒドラジン等で処理することで脱保護することができる。保護基がt−BOC基である場合には、トリフルオロ酢酸等で処理することで脱保護することができる。また、保護基がZ−基である場合には、パラジウム触媒の存在下に水素添加すること等で脱保護することができる。
以下、保護基の種類がフタルイミド基である場合を例に挙げ、2−endo−6−exo−NBDAの製造方法の更なる詳細について説明する。先ず、原料となるNBDAと無水フタル酸を、p−トルエンスルホン酸等の適当な触媒の存在下、有機溶媒中で加熱して脱水縮合させる。有機溶媒の具体例としては、トルエン、DMF等を挙げることができる。なお、系外に水分を排出しながら反応させることが好ましい。
(1)アミノ基の保護(フタルイミド化):
撹拌装置、滴下漏斗、温度計、コンデンサー、窒素導入管、及びディーンスターク水分離器を備え付けた300mlガラス製反応装置に、無水フタル酸466.6g(3.15mol)、p−トルエンスルホン酸1.1g、N,N−ジメチルホルムアミド1250g、及びトルエン250gを装入し、窒素雰囲気下において撹拌しながら140℃へ昇温した。トルエン還流下において140〜145℃を維持しながら、4種の異性体混合物であるジアミノメチル−ビシクロ[2,2,1]ヘプタン(商品名:NBDA、三井化学社製)231.4g(1.5mol)、及びN,N−ジメチルホルムアミド231.4gの混合溶液を、90分かけて徐々に滴下した。途中反応により生成する水はトルエンとの共沸によりディーンスターク水分離器により系外へ排出し、トルエンは系内へ戻した。滴下終了後、同温度を6時間維持して充分に反応を進行させた後、放冷により室温まで冷却し、析出した白色結晶を濾別した。撹拌装置、滴下漏斗、及び温度計を備え付け、水3500gを装入したガラス製反応装置に30分かけて濾液を滴下し、結晶を析出させた。なお、NBDAのアミノ基をフタルイミド化する際の反応式を以下に示す。
撹拌装置、温度計、温度計、窒素導入管、及びコンデンサーを備え付けた1000mlガラス製反応装置に、上記(1)の操作を繰り返し行って得られた2−endo−6−exo−ビスフタルイミドメチル−ビシクロ[2,2,1]ヘプタン103.6g(0.25mol)及びイソプロピルアルコール800gを装入し、撹拌しながら60℃まで加熱した。同温度を維持しながら96%ヒドラジン(1水和物)75.1g(1.5mol)を1時間かけて滴下した。同温度を維持しながら更に3時間撹拌して反応を完結させた。なお、HPLCで2−endo−6−exo−ビスフタルイミドメチル−ビシクロ[2,2,1]ヘプタンの消失を確認することにより、反応の完結(終点)を確認した。反応終了後、室温まで冷却し、析出したフタラジンジオンを濾別した。また、目的物である2−endo−6−exo−NBDAが濾液中に存在していることをガスクロマトグラフィーで分析することにより確認した。なお、フタルイミド基を脱保護する際の反応式を以下に示す。
カラムサイズ:内径×長さ×膜厚=0.53mm×30m×3μm
キャリアーガス:ヘリウム
カラム圧力:定圧モード20kPa
カラム温度:160℃
試料気化室及び検出部温度:280℃
Claims (3)
- 前記保護基が、フタルイミド基、t−ブチルオキシカルボニル基、又はベンジルオキシカルボニル基である、請求項2に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010068198A JP5603626B2 (ja) | 2010-03-24 | 2010-03-24 | 2−endo−6−exo−ジアミノメチル−ビシクロ[2,2,1]ヘプタンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010068198A JP5603626B2 (ja) | 2010-03-24 | 2010-03-24 | 2−endo−6−exo−ジアミノメチル−ビシクロ[2,2,1]ヘプタンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011201786A true JP2011201786A (ja) | 2011-10-13 |
JP5603626B2 JP5603626B2 (ja) | 2014-10-08 |
Family
ID=44878855
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010068198A Expired - Fee Related JP5603626B2 (ja) | 2010-03-24 | 2010-03-24 | 2−endo−6−exo−ジアミノメチル−ビシクロ[2,2,1]ヘプタンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5603626B2 (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002010253A1 (fr) * | 2000-07-27 | 2002-02-07 | Mitsui Chemicals, Inc. | Acide polyamique, polyimide, leur procede de production, et film de polyimide |
-
2010
- 2010-03-24 JP JP2010068198A patent/JP5603626B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002010253A1 (fr) * | 2000-07-27 | 2002-02-07 | Mitsui Chemicals, Inc. | Acide polyamique, polyimide, leur procede de production, et film de polyimide |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
JPN6014003136; ACS Symposium Series Vol.978, p.277-286 (2008). * |
JPN6014003138; High Performance Polymers Vol.11, No.4, p.367-377 (1999). * |
JPN6014003139; 高分子論文集 Vol.61, No.1, p.39-48 (2004). * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5603626B2 (ja) | 2014-10-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2845957B2 (ja) | イミド環を有する新規ジフェノール類およびその製造方法 | |
JP2010184898A (ja) | ドデカハイドロ−1,4:5,8−ジメタノアントラセン−9,10−ジオン−2,3,6,7−テトラカルボン酸−2,3:6,7−二無水物類、ドデカハイドロ−1,4:5,8−ジメタノアントラセン−9,10−ジオン−2,3,6,7−テトラカルボン酸テトラエステル類、及び、その製造方法 | |
JP5564684B2 (ja) | 芳香族ジアミン及びその製造方法並びに樹脂 | |
JP5546210B2 (ja) | 芳香族ジアミン化合物及びその製造方法並びに合成樹脂 | |
JP5603626B2 (ja) | 2−endo−6−exo−ジアミノメチル−ビシクロ[2,2,1]ヘプタンの製造方法 | |
EP3495342A1 (en) | Polymerizable triptycene derivative compound | |
US6803489B2 (en) | Purification process of fluorenylidenediallylphenol | |
JP5603627B2 (ja) | 2,5−ジアミノメチル−ビシクロ[2,2,1]ヘプタンの製造方法 | |
JP5432605B2 (ja) | エステル基を有する芳香族カルボン酸二無水物の製造方法 | |
JP6266940B2 (ja) | アリーレンジオキシ−ビス(無水コハク酸)及びその製造方法 | |
CN114014864A (zh) | 一种曲拉西利化合物的制备工艺 | |
EP3578544B1 (en) | Method for purifying n-substituted maleimide | |
JP5424456B2 (ja) | イミド化合物およびその製造方法 | |
KR102574282B1 (ko) | N-치환 말레이미드 정제방법 | |
CN111072546B (zh) | 一种5-乙炔基吲哚啉-2,3-二酮的合成方法 | |
JP2012201603A (ja) | ジフェノール化合物の製造方法 | |
KR102605275B1 (ko) | 아미드 칠량체 및 이의 제조 방법 | |
JPS62145063A (ja) | イミド環を有する新規ジフエノ−ル類およびその製造方法 | |
Walczak et al. | 1, 3-Bis (ethylamino)-2-nitrobenzene, 1, 3-bis (n-octylamino)-2-nitrobenzene and 4-ethylamino-2-methyl-1H-benzimidazole | |
KR102544330B1 (ko) | 브리바라세탐(Brivaracetam) 중간체 및 벌크 의약품의 합성을 위한 화합물 및 그 용도 | |
JPH02152962A (ja) | ジイミドジカルボン酸 | |
JPH08119939A (ja) | 高純度エーテル型ビスマレイミドの製造方法 | |
WO2024106525A1 (ja) | ベンゾオキサジン化合物の製造方法 | |
TW201918487A (zh) | 脂環族四羧酸二酐之製造方法 | |
WO2023100110A1 (en) | Process for preparing brivaracetam |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121112 |
|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20131111 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140128 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140327 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140812 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140822 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5603626 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |