JP2011197343A - サージ保護機能内蔵型半導体光変調器及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体層を複数積層した半導体層構造からなり、光の変調を行う半導体光変調領域14と、半導体光変調領域14の半導体層構造と同一の層構造からなり、半導体光変調領域14を電気的に保護する保護ダイオード24とを備え、半導体光変調領域14と共に保護ダイオード24を半導体基板上にモノリシック集積し、半導体光変調領域14の活性領域と保護ダイオード24とを電気的に並列に接続し、かつ、半導体光変調領域14の活性領域と逆の電界を保護ダイオード24に印加するように、半導体光変調領域14と保護ダイオード14とを配線するサージ保護機能内蔵型半導体光変調器及びその製造方法。
【選択図】図4
Description
半導体基板上に半導体層を複数積層した半導体層構造からなり、光の変調を行う半導体光変調領域と、
前記半導体層構造と同一の層構造、又は、前記半導体層構造のうち前記半導体基板側に近い方の一部の層構造と同一の層構造からなり、前記半導体光変調領域を電気的に保護するダイオードとを備え、
前記半導体光変調領域と共に、前記ダイオードを前記半導体基板上にモノリシック集積し、
前記半導体光変調領域の活性領域と前記ダイオードとを電気的に並列に接続し、かつ、前記活性領域と逆の電界を前記ダイオードに印加するように、前記半導体光変調領域と前記ダイオードとを配線したことを特徴とする。
上記第1の発明に記載のサージ保護機能内蔵型半導体光変調器において、
前記ダイオードにおける順方向の立ち上がり電圧を、前記活性領域における逆方向のブレイクダウン電圧より小さくしたことを特徴とする。
上記第1又は第2の発明に記載のサージ保護機能内蔵型半導体光変調器において、
前記ダイオードの数を、前記ダイオードにおける順方向の立ち上がり電圧と前記ダイオードの数の積が、前記活性領域の変調動作時における印加電圧より大きくなる個数とし、
前記個数の前記ダイオードを前記半導体基板上にモノリシック集積すると共に、前記個数が複数である場合には、前記ダイオード同士を電気的に直列に接続したことを特徴とする。
上記第1〜第3のいずれか1つの発明に記載のサージ保護機能内蔵型半導体光変調器において、
前記半導体光変調領域における半導体層構造を、npin構造、nin構造、又は、pin構造のいずれか1つとすると共に、
当該半導体層構造に対応して、前記ダイオードにおける層構造を、当該半導体層構造と逆の層構造であるnipn構造、nin構造、又は、nip構造のいずれか1つとしたことを特徴とする。
上記第1〜第3のいずれか1つの発明に記載のサージ保護機能内蔵型半導体光変調器において、
前記半導体光変調領域における半導体層構造をnpin構造とすると共に、
前記ダイオードにおける層構造を、当該半導体層構造と逆の層構造のうち前記半導体基板側から遠い方のn層を除いたnip構造としたことを特徴とする。
上記第1〜第5のいずれか1つの発明に記載のサージ保護機能内蔵型半導体光変調器において、
前記半導体光変調領域を、電界吸収型光変調器を構成する光吸収領域、又は、マッハツェンダ型光変調器を構成する位相変調領域としたことを特徴とする。
半導体基板上に半導体層を複数積層して、光の変調を行う半導体光変調領域となる半導体層構造を形成する工程と、
所定の領域の前記半導体層構造をエッチングしてメサ形状に加工することにより、前記半導体光変調領域を形成すると共に、他の領域の前記半導体層構造をエッチングしてメサ形状に加工することにより、前記半導体光変調領域を電気的に保護するダイオードを形成する工程と、
前記半導体光変調領域の前記半導体層構造の上層側及び下層側に、各々、信号用電極及び接地用電極を形成すると共に、前記ダイオードの前記半導体層構造の上層側と前記接地用電極とを接続する配線及び前記ダイオードの前記半導体層構造の下層側と前記信号用電極とを接続する他の配線を形成することにより、前記半導体光変調領域の活性領域と前記ダイオードとを電気的に並列に接続し、かつ、前記活性領域と逆の電界を前記ダイオードに印加するように、前記半導体光変調領域と前記ダイオードとを配線する工程とを有し、
前記工程により、前記半導体光変調領域と前記ダイオードとを前記半導体基板上にモノリシック集積することを特徴とする。
半導体基板上に半導体層を複数積層して、光の変調を行う半導体光変調領域となる半導体層構造を形成する工程と、
所定の領域の前記半導体層構造をエッチングしてメサ形状に加工することにより、前記半導体光変調領域を形成すると共に、他の領域の前記半導体層構造をエッチングしてメサ形状に加工することにより、前記半導体光変調領域を電気的に保護するダイオードとなる領域を形成する工程と、
前記ダイオードとなる領域の前記半導体層構造の上層の一部をエッチングすることにより、前記ダイオードを形成する工程と、
前記半導体光変調領域の前記半導体層構造の上層側及び下層側に、各々、信号用電極及び接地用電極を形成すると共に、前記ダイオードの前記半導体層構造の上層側と前記接地用電極とを接続する配線及び前記ダイオードの前記半導体層構造の下層側と前記信号用電極とを接続する他の配線を形成することにより、前記半導体光変調領域の活性領域と前記ダイオードとを電気的に並列に接続し、かつ、前記活性領域と逆の電界を前記ダイオードに印加するように、前記半導体光変調領域と前記ダイオードとを配線する工程とを有し、
前記工程により、前記半導体光変調領域と前記ダイオードとを前記半導体基板上にモノリシック集積することを特徴とする。
本発明の第1の実施の形態に係る半導体光変調器のレイアウト図を図1に示す。これは、半導体光変調領域とダイオードとをモノリシック集積したものである。
本実施形態では、半導体光変調器として半導体MZ光変調器を使用している。半導体MZ光変調器では、入力導波路11から入力された光信号をMMI(multimode interference)カプラ12で分波し、分岐した光信号を2本の導波路13へと導いている。この2本の導波路13はハイメサ形状に加工されており、少なくとも片方(図1中では両方)の導波路13には、電界の印加により光信号の位相を変調するMZ位相変調領域14(半導体光変調領域)が設けられている。
この層構造は、半絶縁性InP基板31上に、n−InPからなる下部のn型クラッド層32、MQW(multi-quantum well)層からなる半導体コア層33、アンドープi−InP層34、p−InAlAsなどからなるp層35、n−InPからなる上部のn型クラッド層36の順に、各半導体層を積層した半導体層構造であり、npin構造となっている。そして、この層構造を図2に示すようにハイメサ形状に加工することで、導波路13としている。
ダイオード21、ダイオード22及びダイオード23は、MZ位相変調領域14と同じnpin構造をしている。即ち、半絶縁性InP基板31上に、n−InPからなる下部のn型クラッド層32、MQW層からなる半導体コア層33、i−InP層34、p−InAlAsなどからなるp層35、n−InPからなる上部のn型クラッド層36の順に積層したnpin構造となっている。そのため、各半導体層には、MZ位相変調領域14と同じ符号を付している。又、各ダイオード21〜23もハイメサ形状に加工されており、その側壁にベンゾシクロブテン(BCB)樹脂等からなる保護膜37を設けて、側壁の保護と同時に、後述する金属配線38との接触を避けている。
本発明の第2の実施の形態に係る半導体光変調器のレイアウトを図9に示す。ここでも、半導体光変調領域と保護ダイオードとをモノリシック集積しているが、第1の実施の形態とは異なり、半導体光変調器として、半導体EA光変調器を用いている。
21、22、23 ダイオード
24 保護ダイオード
52 光吸収領域
61、62、63 ダイオード
64 保護ダイオード
Claims (8)
- 半導体基板上に半導体層を複数積層した半導体層構造からなり、光の変調を行う半導体光変調領域と、
前記半導体層構造と同一の層構造、又は、前記半導体層構造のうち前記半導体基板側に近い方の一部の層構造と同一の層構造からなり、前記半導体光変調領域を電気的に保護するダイオードとを備え、
前記半導体光変調領域と共に、前記ダイオードを前記半導体基板上にモノリシック集積し、
前記半導体光変調領域の活性領域と前記ダイオードとを電気的に並列に接続し、かつ、前記活性領域と逆の電界を前記ダイオードに印加するように、前記半導体光変調領域と前記ダイオードとを配線したことを特徴とするサージ保護機能内蔵型半導体光変調器。 - 請求項1に記載のサージ保護機能内蔵型半導体光変調器において、
前記ダイオードにおける順方向の立ち上がり電圧を、前記活性領域における逆方向のブレイクダウン電圧より小さくしたことを特徴とするサージ保護機能内蔵型半導体光変調器。 - 請求項1又は請求項2に記載のサージ保護機能内蔵型半導体光変調器において、
前記ダイオードの数を、前記ダイオードにおける順方向の立ち上がり電圧と前記ダイオードの数の積が、前記活性領域の変調動作時における印加電圧より大きくなる個数とし、
前記個数の前記ダイオードを前記半導体基板上にモノリシック集積すると共に、前記個数が複数である場合には、前記ダイオード同士を電気的に直列に接続したことを特徴とするサージ保護機能内蔵型半導体光変調器。 - 請求項1から請求項3のいずれか1つに記載のサージ保護機能内蔵型半導体光変調器において、
前記半導体光変調領域における半導体層構造を、npin構造、nin構造、又は、pin構造のいずれか1つとすると共に、
当該半導体層構造に対応して、前記ダイオードにおける層構造を、当該半導体層構造と逆の層構造であるnipn構造、nin構造、又は、nip構造のいずれか1つとしたことを特徴とするサージ保護機能内蔵型半導体光変調器。 - 請求項1から請求項3のいずれか1つに記載のサージ保護機能内蔵型半導体光変調器において、
前記半導体光変調領域における半導体層構造をnpin構造とすると共に、
前記ダイオードにおける層構造を、当該半導体層構造と逆の層構造のうち前記半導体基板側から遠い方のn層を除いたnip構造としたことを特徴とするサージ保護機能内蔵型半導体光変調器。 - 請求項1から請求項5のいずれか1つに記載のサージ保護機能内蔵型半導体光変調器において、
前記半導体光変調領域を、電界吸収型光変調器を構成する光吸収領域、又は、マッハツェンダ型光変調器を構成する位相変調領域としたことを特徴とするサージ保護機能内蔵型半導体光変調器。 - 半導体基板上に半導体層を複数積層して、光の変調を行う半導体光変調領域となる半導体層構造を形成する工程と、
所定の領域の前記半導体層構造をエッチングしてメサ形状に加工することにより、前記半導体光変調領域を形成すると共に、他の領域の前記半導体層構造をエッチングしてメサ形状に加工することにより、前記半導体光変調領域を電気的に保護するダイオードを形成する工程と、
前記半導体光変調領域の前記半導体層構造の上層側及び下層側に、各々、信号用電極及び接地用電極を形成すると共に、前記ダイオードの前記半導体層構造の上層側と前記接地用電極とを接続する配線及び前記ダイオードの前記半導体層構造の下層側と前記信号用電極とを接続する他の配線を形成することにより、前記半導体光変調領域の活性領域と前記ダイオードとを電気的に並列に接続し、かつ、前記活性領域と逆の電界を前記ダイオードに印加するように、前記半導体光変調領域と前記ダイオードとを配線する工程とを有し、
前記工程により、前記半導体光変調領域と前記ダイオードとを前記半導体基板上にモノリシック集積することを特徴とするサージ保護機能内蔵型半導体光変調器の製造方法。 - 半導体基板上に半導体層を複数積層して、光の変調を行う半導体光変調領域となる半導体層構造を形成する工程と、
所定の領域の前記半導体層構造をエッチングしてメサ形状に加工することにより、前記半導体光変調領域を形成すると共に、他の領域の前記半導体層構造をエッチングしてメサ形状に加工することにより、前記半導体光変調領域を電気的に保護するダイオードとなる領域を形成する工程と、
前記ダイオードとなる領域の前記半導体層構造の上層の一部をエッチングすることにより、前記ダイオードを形成する工程と、
前記半導体光変調領域の前記半導体層構造の上層側及び下層側に、各々、信号用電極及び接地用電極を形成すると共に、前記ダイオードの前記半導体層構造の上層側と前記接地用電極とを接続する配線及び前記ダイオードの前記半導体層構造の下層側と前記信号用電極とを接続する他の配線を形成することにより、前記半導体光変調領域の活性領域と前記ダイオードとを電気的に並列に接続し、かつ、前記活性領域と逆の電界を前記ダイオードに印加するように、前記半導体光変調領域と前記ダイオードとを配線する工程とを有し、
前記工程により、前記半導体光変調領域と前記ダイオードとを前記半導体基板上にモノリシック集積することを特徴とするサージ保護機能内蔵型半導体光変調器の製造方法。
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