JP2011183710A - 被試験体の架橋密度の測定方法、被試験体の架橋密度の条件設定方法、ラミネート加工製品のラミネート処理方法、被試験体の架橋密度の測定装置、被試験体の架橋密度の調整装置 - Google Patents
被試験体の架橋密度の測定方法、被試験体の架橋密度の条件設定方法、ラミネート加工製品のラミネート処理方法、被試験体の架橋密度の測定装置、被試験体の架橋密度の調整装置 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】透明基板、及び裏面材で架橋密度測定用シートを挟み込んで積層させた被試験体1Aを用意し、被試験体1Aをラミネート加工手段100に配設してラミネート処理を施し、被試験体1Aをラミネート加工手段100から取り出して、透明基板及び裏面材を架橋密度測定用シートから剥離させて架橋密度測定用シートを取り出し、架橋密度測定用シートの一の基準地点と少なくとも一の比較地点を選定しそれらの架橋密度を測定する。架橋密度測定用シートはラミネート処理によって架橋反応を呈し、架橋反応によって透明基板、及び裏面材のいずれとも接着が生じない。
【選択図】図3
Description
まず、この実施の形態において対象とする、ラミネート加工製品としての太陽電池モジュールと、架橋密度の測定に用いられる被試験体とについて説明する。
一方、図2の(a)は、この実施の形態における、被試験体1Aの構成を示す断面図である。この被試験体1Aは、この実施の形態の測定・調整システム(後述)を構成するラミネート加工手段(後述)における架橋密度の測定に用いられるものである。被試験体1Aは、図1に示す太陽電池モジュール10と同じく、透明基板11、及び透明基板11に対向して配設される裏面材12を備える。そして、透明基板11と裏面材12とで架橋密度測定用シート1を挟み込んで、それら透明基板11、架橋密度測定用シート1、裏面材12を積層させた構成である。
一方、図2の(b)は、この実施の形態における架橋密度測定用シート1の構成を示す断面図である。この架橋密度測定用シート1は、支持体2上に、架橋密度が0.1×10−4〜10×10−4mol/cc であるゴムシート層3を有する構成で、板状を呈する。支持体2としては、温度分布調査温度において形状を維持できる耐熱性、耐強度を有するシート基材であればいずれの素材を用いることもできる。例えば、プラスチックシート、紙、合成紙、不織布、金属シート等を用いることが考えられる。一方、ゴムシート層3としては、cis−イソポリプロピレンを主成分とする天然ゴムやアクリルゴム(ACM)、ニトリルゴム(NBR)、イソプレンゴム(IR)、ウレタンゴム(U)、エチレンプロピレンゴム(ECM,EPDM)、エピクロルヒドリンゴム(CO,ECO)、クロロプレンゴム(CR)、シリコーンゴム(Q)、スチレン・ブタジエンゴム(SBR)、ブタジエンゴム(BR)、フッ素ゴム(FKM)、ブチルゴム(IIR)等の合成ゴムを用いることができる。また、ゴムシート層3はゴム成分が主成分となっていればよく、他の樹脂組成物と混練、共重合化されていればよい。
図3は、この実施の形態の架橋密度の測定・調整システム100Aの機能ブロック図である。同図に示す通り、この実施の形態の架橋密度の測定・調整システム100Aは、ラミネート加工手段100、架橋密度測定用シート取得手段400、架橋密度測定手段500、架橋密度分析手段600、ラミネート加工条件設定手段700を備えている。
ラミネート加工手段100は、太陽電池モジュール製造用のラミネート装置を使用することができる。ラミネート加工手段100は、太陽電池モジュール10や、被試験体1Aに対するラミネート処理に用いられる。ラミネート加工手段100の具体的構成については後述する。
図4は、この実施の形態に係るラミネート加工手段100の全体の構成を示す図である。ラミネート加工手段100は、上ケース110と、下ケース120と、搬送ベルト130とを有する。搬送ベルト130は、ラミネート処理が施される前の被試験体1Aや、ラミネート処理が施される前の太陽電池モジュール10を上ケース110と下ケース120との間に搬送する。ラミネート加工手段100には、ラミネート処理が施される前の被試験体1Aや太陽電池モジュール10をラミネート加工手段100に搬送するための搬入コンベア200が設けられている。また、ラミネート加工手段100には、ラミネート後の被試験体1Aや太陽電池モジュール10をラミネート加工手段100から搬出するための搬出コンベア300が設けられている。搬入コンベア200と搬出コンベア300とは連設されている。被試験体1Aや太陽電池モジュール10は、搬入コンベア200から搬送ベルト130に受け渡され、搬送ベルト130から搬出コンベア300に受け渡される。また、ラミネート加工手段100には、上ケース110を水平状態に維持したまま下ケース120に対して昇降させる昇降装置(図示せず)が設けられている。
上ケース110には、下方向に開口された空間が形成されている。この空間には、空間を水平に仕切るようにダイヤフラム112が設けられている。ダイヤフラム112は、シリコーン系のゴム等の耐熱性のあるゴムにより成形されている。上ケース110内には、ダイヤフラム112によって仕切られた空間(上チャンバ113)が形成される。
上ケース110と下ケース120との間であって、熱板122の上方には、搬送ベルト130が移動自在に設けられている。搬送ベルト130は、図2の搬入コンベア200からラミネート処理前の被試験体1Aや太陽電池モジュール10を受け取ってラミネート部101の中央位置、すなわち熱板122の中央部に正確に搬送する。また、搬送ベルト130は、ラミネート処理後の被試験体1Aや太陽電池モジュール10を図4の搬出コンベア300に受け渡す。
また、上ケース110と下ケース120との間であって、搬送ベルト130の上方には、溶融した充填材がダイヤフラムに付着することを防止する剥離シート140が設けられている。
図3に示す架橋密度測定用シート取得手段400は、ラミネート処理が完了した被試験体1Aをラミネート加工手段から取り出して、この被試験体を形成する透明基板11及び裏面材12を架橋密度測定用シート1から剥離させて架橋密度測定用シート1を取り出す。
図3に示す架橋密度測定手段500は、架橋密度測定用シート取得手段400によって取り出された架橋密度測定用シート1において一の基準地点と少なくとも一の比較地点とを選定して基準地点と比較地点との架橋密度を測定する。
図3に示す架橋密度分析手段600は、架橋密度測定手段500において測定された、基準地点の架橋密度に対する比較地点の架橋密度の割合が所定の許容範囲内か否かを判定する。
次に、この実施の形態の工程について説明する。図7は、この実施の形態の架橋密度の測定・調整システム100Aの工程を示すフローチャートである。以下、このフローチャートを用いて架橋密度の測定・調整システム100Aの工程を説明する。
まず、架橋密度の測定・調整システム100Aの利用者は、図2に示す、透明基板11と裏面材12と架橋密度測定用シート1を揃え、これらを用いて、図8に示す、透明基板11と裏面材12とで架橋密度測定用シート1を挟み込んだ被試験体1Aを用意する(ステップS1)。
次に、用意した被試験体1Aはラミネート加工手段100の搬入コンベア200上に載置される。被試験体1Aは搬入コンベア200から搬送ベルト130上に受け渡される。これにより、搬送ベルト130は、図5に示す通り、被試験体1Aをラミネート部101の中央位置に搬送し、当該位置に配設する(ステップS2)。なお、架橋密度の測定・調整システム100Aは、搬入コンベア200を使用せず、被試験体1Aがラミネート部101に直接配設されるように構成されてもよい。この状態で、昇降装置は上ケース110を下降させる。これにより、図6に示すように、上ケース110と下ケース120との内部にて上チャンバ113及び下チャンバ121は、それぞれ密閉状態に保たれる。
次に、ラミネート加工手段100は、被試験体1Aに対し、ラミネート処理を行う(ステップS3)。具体的には、上ケース110の吸排気口114を介して、上チャンバ113内の真空引きを行う。同様に、ラミネート加工手段100は、下ケース120の吸排気口123を介して、下チャンバ121内の真空引きを行う。
次に、ラミネート加工手段100は、下チャンバ121の真空状態を保ったまま、上ケース110の吸排気口114を介して、上チャンバ113に大気を導入する。これにより、上チャンバ113と下チャンバ121との間に気圧差が生じてダイヤフラム112が下方に押し出され、被試験体1Aは、下方に押し出されたダイヤフラム112と、熱板122とで挟圧される。
そして、架橋密度測定用シート取得手段400は、搬出コンベア300上の被試験体1Aからラミネート処理後の架橋密度測定用シート1を取り出す(ステップS4)。即ち、架橋密度測定用シート取得手段400は、図9に示すように、被試験体1Aの透明基板11及び裏面材12をそれぞれ引き離して架橋密度測定用シート1から剥離させ、架橋密度測定用シート1を透明基板11及び裏面材12の間から抜き取って取り出す。架橋密度測定用シート1はラミネート処理によって架橋反応を呈しているが、架橋反応によって透明基板11及び裏面材12のいずれとも接着が生じないので、透明基板11及び裏面材12はそれぞれ架橋密度測定用シート1から容易に引き離すことができ、被試験体1Aを破壊することなく、架橋反応を呈した架橋密度測定用シート1だけを容易に取り出すことができる。
そして、架橋密度測定手段500は、取り出された架橋密度測定用シート1において基準地点と比較地点とを選定し、これら基準地点と比較地点との架橋密度を測定する(ステップS5)。
図10は、架橋密度測定用シート1において基準地点と比較地点とを選定し、測定片を取得する状態を模式的に示した図である。具体的には、同図に示すように、架橋密度測定用シート1上にn個(n≧1,図10ではn=35)の仮想ブロック1B1,1B2,1B3,・・・1Bnを設定し、特定の仮想ブロック(図10では、架橋密度測定用シート1の四隅にあたる仮想ブロック1B2,1B6,1Bn−4,1Bn、及び略中央部にあたる仮想ブロック1B1)について架橋密度を測定する。以下、図10に示す、n=35の場合を例にして説明する。
次に、架橋密度分析手段600は、架橋密度測定手段500において測定された、基準地点の架橋密度に対する比較地点の架橋密度の割合が、所定の許容範囲内か否かを判定する(ステップS6)。
ここで、充填材13、14の架橋密度は、低すぎると太陽電池モジュール10を屋外で使用している際に充填材13、14の内部に水が侵入してストリング15が腐食するような事態を招きやすくなり、一方で高すぎると充填材13、14がもろくなって破損し易くなる。そのため、充填材13、14の架橋密度が低すぎず、かつ高すぎない所定の範囲が製品の品質を確保するために必要な許容範囲であり、架橋密度分析手段600は、かかる架橋密度がこの許容範囲になるような調整を行う。
Pxy=Bxy/A ・・・(1)
ここで、Pxy:架橋度合、Bxy:場所毎の架橋密度、x:架橋時間、y:太陽電池モジュール10の位置情報(ここでは仮想ブロック1B1〜1B35の通し番号1〜35)、A:架橋密度測定用シート1を理想的に架橋した状態(例えばEPDMコンパウンドを用いて所定時間、所定温度、所定圧力でラミネート処理を行った状態)での架橋密度
C≦Pxy≦D・・・(2)
式(2)は、それぞれの仮想ブロック1B1,1B2,1B6,1B31,1B35の架橋度合が所定の許容範囲内か否かを判定する式である。ここで数値C,Dは、太陽電池モジュール10の充填材13,14に要求される架橋密度により適宜決定される。
{(各比較地点の架橋密度)/(基準地点の架橋密度)}≧E・・・(3)
式(3)は、基準地点の仮想ブロック1B1の架橋密度と、それぞれの比較地点の仮想ブロック1B2,1B6,1B31,1B35の架橋密度との差異が所定の許容範囲か否かを判定する式である。すなわち架橋密度の場所ムラの程度を示している。ここで数値Eは、0.8に設定することが好ましいが、太陽電池モジュール10に要求される架橋密度により適宜増減させてもよい。
そして、上記(2)及び(3)が全て許容範囲内である場合(ステップS7の“Yes”)、ラミネート加工条件設定手段700は、ラミネート加工手段100の設定を変更することなく、太陽電池モジュール10の製造を行わせる(ステップS9)。
一方、上記(2)及び(3)に許容範囲内ではないものが含まれる場合(ステップS7の“No”)、ラミネート加工条件設定手段700は、ラミネート加工手段100のラミネート処理の条件を調整する(ステップS8)。具体的には、例えば、上記(2)の条件を満たさなかった比較地点の仮想ブロックのラミネート処理のおける圧力、温度、処理時間のうち少なくとも何れか一つの設定(特に温度や時間)の設定が変更される。ラミネート加工条件設定手段700は、ステップS8の調整結果のデータをラミネート加工手段100の制御手段(図示せず)に送り、制御手段(図示せず)のプログラム等の設定を変更させる。
以上、この実施の形態においては、被試験体1Aの複数の箇所について架橋密度の測定を行い、それら複数の箇所同士の相対的な架橋密度の比較対照を容易に行うことができる。また、この実施の形態においては、現実の太陽電池モジュール10の充填材13、14と同様の架橋反応を得ると共に、架橋反応を起こさせた架橋密度測定用シート1を透明基板11及び裏面材12を破壊することなく容易に剥がして取り出すことができる。これにより、太陽電池モジュール10のラミネート処理における架橋密度の測定を格段に容易にしかも精度良く行うことができ、かつ、架橋密度の解析を迅速に行うことができて、高品質の太陽電池モジュール10の生産ラインの起ち上げを迅速に行うことができる。
なお、この実施の形態においては、結晶系セルを利用した太陽電池モジュール10における架橋密度の測定及び調整を対象としたが、これに限らず、いわゆる薄膜系太陽電池モジュールにおける充填材の架橋密度の測定及び調整を対象とすることもできる。
1A・・・被試験体
1B1・・・仮想ブロック(基準地点)
1B2,1B6,1B31,1B35・・・仮想ブロック(比較地点)
10・・・太陽電池モジュール(ラミネート加工製品)
11・・・透明基板(第一の基板)
12・・・裏面材(第二の基板)
13,14・・・充填材(内容物)
15・・・ストリング(内容物)
100・・・ラミネート加工手段
400・・・架橋密度測定用シート取得手段
500・・・架橋密度測定手段
600・・・架橋密度分析手段
700・・・ラミネート加工条件設定手段
Claims (10)
- 第一の基板、及び前記第一の基板に対向して配設される第二の基板によって板状の架橋密度測定用シートを挟み込んでそれらを積層させた被試験体を用意する工程と、
前記被試験体をラミネート加工手段に配設し、前記被試験体に対し、前記ラミネート加工手段の少なくとも一部を真空状態にして加熱処理及び加圧処理を行うラミネート処理を施す工程と、
前記ラミネート処理が完了した前記被試験体を前記ラミネート加工手段から取り出して、前記第一の基板及び前記第二の基板を前記架橋密度測定用シートから剥離させて前記架橋密度測定用シートを取り出す工程と、
前記取り出された前記架橋密度測定用シートにおいて一の基準地点と少なくとも一の比較地点とを選定して前記基準地点と前記比較地点との架橋密度を測定する工程とを備え、
前記架橋密度測定用シートは前記ラミネート処理によって架橋反応を呈すると共に前記架橋反応によって前記第一の基板及び前記第二の基板のいずれとも接着が生じない構成を有していることを特徴とする被試験体の架橋密度の測定方法。 - 前記基準地点の架橋密度に対する前記比較地点の架橋密度の割合が所定の許容範囲内か否かを判定する工程を備えたことを特徴とする請求項1に記載の被試験体の架橋密度の測定方法。
- 前記基準地点は、前記架橋密度測定用シートの略中央部であることを特徴とする請求項1又は2に記載の被試験体の架橋密度の測定方法。
- 前記所定の許容範囲とは、特定の割合以上であることを特徴とする請求項2又は3に記載の被試験体の架橋密度の測定方法。
- 前記ラミネート加工手段は太陽電池モジュール製造用のラミネート装置であることを特徴とする請求項1乃至4の何れか一つに記載の被試験体の架橋密度の測定方法。
- 請求項2乃至5の何れか一つに記載の被試験体の架橋密度の測定方法によって得られた前記基準地点の架橋密度に対する前記比較地点の架橋密度の前記割合を取得し、前記割合が所定の許容範囲内でない場合には、前記被試験体に対する、ラミネート加工手段の少なくとも一部を真空状態にして加熱処理及び加圧処理を行うラミネート処理の所定の条件を調整することで、前記割合が前記所定の許容範囲内になるように調整する工程を備えたことを特徴とする被試験体の架橋密度の条件設定方法。
- 前記所定の条件は、前記ラミネート加工手段における前記ラミネート処理の温度、圧力、処理時間のうちの少なくとも何れか一つであることを特徴とする請求項6に記載の被試験体の架橋密度の条件設定方法。
- 第一の基板、及び前記第一の基板に対向して配設される第二の基板によって、充填材を含むラミネート加工製品の内容物を封止して積層させたラミネート加工製品に対し、ラミネート加工手段の少なくとも一部を真空状態にして加熱処理及び加圧処理を行うラミネート処理を施す、ラミネート加工製品のラミネート処理方法であって、
請求項1乃至5の何れか一つに記載の被試験体の架橋密度の測定方法による測定工程と、
請求項6又は7に記載の被試験体の架橋密度の条件設定方法による条件設定工程と、
前記条件設定工程によって調整がされた前記架橋密度で前記ラミネート処理が行えるようにラミネート加工手段の条件設定を調整する工程と、
前記調整がされた前記ラミネート加工手段によって前記ラミネート加工製品の前記ラミネート処理を行う工程とを備え、
前記架橋密度測定用シートは前記ラミネート処理によって架橋反応を呈すると共に前記架橋反応によって前記第一の基板及び前記第二の基板のいずれとも接着が生じない構成を有していることを特徴とするラミネート加工製品のラミネート処理方法。 - 第一の基板と、前記第一の基板に対向して配設される第二の基板とによって板状の架橋密度測定用シートを挟み込んでそれらを積層させた被試験体を用意し、ラミネート加工手段の少なくとも一部を真空状態にして加熱処理及び加圧処理を行うラミネート処理を施した前記被試験体について、架橋密度の測定を行う被試験体の架橋密度の測定装置であって、
前記被試験体について前記ラミネート処理を行うラミネート加工手段と、
前記ラミネート処理が完了した前記被試験体を前記ラミネート加工手段から取り出して、前記第一の基板及び前記第二の基板を前記架橋密度測定用シートから剥離させて前記架橋密度測定用シートを取り出す架橋密度測定用シート取得手段と、
前記架橋密度測定用シート取得手段によって取り出された前記架橋密度測定用シートにおいて一の基準地点と少なくとも一の比較地点とを選定して前記基準地点と前記比較地点との架橋密度を測定する架橋密度測定手段とを備え、
前記架橋密度測定用シートは前記ラミネート処理によって架橋反応を呈すると共に前記架橋反応によって前記第一の基板及び前記第二の基板のいずれとも接着が生じないように構成することを特徴とする被試験体の架橋密度の測定装置。 - 第一の基板と、前記第一の基板に対向して配設される第二の基板とによって板状の架橋密度測定用シートを挟み込んでそれらを積層させた被試験体を用意し、ラミネート加工手段の少なくとも一部を真空状態にして加熱処理及び加圧処理を行うラミネート処理に用いられる前記ラミネート加工手段において、前記ラミネート処理における被試験体の架橋密度の調整を行う被試験体の架橋密度の調整装置であって、
前記ラミネート加工手段と、
前記ラミネート処理が完了した前記被試験体を前記ラミネート加工手段から取り出して、前記第一の基板及び前記第二の基板を前記架橋密度測定用シートから剥離させて前記架橋密度測定用シートを取り出す架橋密度測定用シート取得手段と、
前記架橋密度測定用シート取得手段によって取り出された前記架橋密度測定用シートにおいて一の基準地点と少なくとも一の比較地点とを選定して前記基準地点と前記比較地点との架橋密度を測定する架橋密度測定手段と、
前記架橋密度測定手段によって測定された、前記基準地点の架橋密度に対する前記比較地点の架橋密度の割合が所定の許容範囲内か否かを判定する架橋密度分析手段と、
前記架橋密度分析手段による判定の結果、前記割合が所定の許容範囲内でない場合には、前記ラミネート処理の所定の条件を調整することで前記割合が前記所定の許容範囲内になるように調整するラミネート加工条件設定手段とを備え、
前記架橋密度測定用シートは前記ラミネート処理によって架橋反応を呈すると共に前記架橋反応によって前記第一の基板及び前記第二の基板のいずれとも接着が生じない構成を有していることを特徴とする被試験体の架橋密度の調整装置。
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